「upper process」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The plasma treatment apparatus comprises an exhaust duct 37 connected directly to a diffusing unit 29a for diffusing process gas produced in an upper electrode 26 functioning as a showering head.例文帳に追加

シャワーヘッドとして機能する上部電極２６の内部に形成されたプロセスガスを拡散させるための拡散部２９ａに直接接続する排気管３７を設ける。 - 特許庁

The production system of several kinds of products has a plurality of lower processes which can be branched, with respect to an upper process that can be applied commonly in a plurality of products.例文帳に追加

複数品種の製品の生産システムは、複数の製品間で共通して適用できる上流工程に対し、分流し得る複数の下流工程を有している。 - 特許庁

Projections 7, which protrude toward the surface of the opposing inner panel 3, are provided on the surface near upper end of the part 6 turned up by the hemming process.例文帳に追加

ヘミング加工により折り返された折返し部分６の上端部近傍の面は、対向するインナパネル３の面に向かって突出した突起部７が設けられている。 - 特許庁

To provide a game machine which prevents the front upper end of an operation part from being caught in the front opening edge of a pull-down opening hole and performs smooth unlocking process of an opening/closing key.例文帳に追加

操作部の手前側上端部が、引下用開口孔の手前側開口縁に引っかかることを防止して、開閉鍵のスムーズなロック解除作業を行う。 - 特許庁

In this dispersion medium evaporation process, a drying treatment is performed in the state where the upper face opening 18a (except the inlet 26) of the mold 22 is closed by the porous sheet 20.例文帳に追加

この分散媒蒸発工程では、多孔質シート２０で型２２の上面開口１８ａ（注入口２６を除く）を塞いだ状態で乾燥処理を行う。 - 特許庁

In the drying process, drying air 38 is made to flow in from the upper end opening of the glass tube 22, and an air curtain 40 is formed on the outer circumference of the glass tube 22.例文帳に追加

乾燥工程では、ガラス管２２の上端開口から乾燥用エア３８を流入させると共に、ガラス管２２の外周にエアカーテン４０を形成する。 - 特許庁

In order to correct the distortion such as a warping of a flange firmly connected by the regular caulking process, the flange is held between upper and lower metals and pressed to be subjected to flash molding.例文帳に追加

本かしめ工程により強固に連結されたフランジのそりなどの歪みを矯正するため、フランジを上下の金属で挟んで加圧し平押し成型を行う。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescent element of upper-part emission method in which a thin film transistor array and a light emission part are configured on separate substrates, which is then bonded together, and its manufacturing process.例文帳に追加

薄膜トランジスタアレー部と発光部を別途の基板に構成した後これを合着した上部発光方式の有機電界発光素子とその製造方法を提案する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, comprising forming a fine pattern by a sidewall transfer process, in which the upper portion of the pattern is prevented from having a bilaterally asymmetric shape.例文帳に追加

側壁転写プロセスによる微細パターンの形成において、パターン上部の形状が左右非対称になることを防止することが出来る製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curtain which can be washed and ironed without removing hooks, wherein a laborious folding and stitching process of an upper hem is not required and hooks can be fitted easily and securely.例文帳に追加

フックを外さずに洗濯、アイロンかけできるカーテンで、上縁部の面倒な折返し縫合作業が不要で、フックの取付けが容易で確実なものを提供する。 - 特許庁

To prevent a spring from falling off during an assembly process of a coil spring between an upper spring bearing and a lower spring bearing and noise from being generated after assembly in the spring bearing structure for the hydraulic shock absorber.例文帳に追加

油圧緩衝器のばね受構造において、上下のばね受の間へのコイルばねの組付過程で該ばねの脱落を防止し、組付後の異音の発生を防止すること。 - 特許庁

A recess 110 is formed by allowing upper portions of the wiring 102 and the wiring 103 to be recessed by chemical mechanical polishing process or etching.例文帳に追加

次に、化学的機械研磨法やエッチングによって、第１の金属配線１０２および第２の金属配線１０３の上部をリセスさせて凹部１１０を形成する。 - 特許庁

A guide post 36 is provided by protruding from the forming surface side on the upper die main body 33 to downward direction and a guide aperture 37 is process-formed from the forming surface 38 side on the pad 34.例文帳に追加

上型本体３３にその成形面側からガイドポスト３６が下方に向かって突設され、パッド３４にガイド孔３７が成形面３８側から加工形成されている。 - 特許庁

Underlying level difference can be planarized easily by a simple process only of photolithographic technique using a gray tone mask 4 while reducing impact of striation on an upper layer.例文帳に追加

ストリエーションの上層への影響を低減しつつ、このグレイトーンマスク４を用いたフォトリソ技術だけの簡易なプロセスで下地段差を容易に平坦化することができる。 - 特許庁

Consequently, a coating material at a step part is absorbed by the lateral groove 33 in a process of filming upper portions of the multilayer wiring layers 22a and 22b with the coating material.例文帳に追加

これにより、多層配線層２２ａ，２２ｂ上部に塗布材料を成膜する工程において、段差部分の塗布材料がその横溝３３に吸収される。 - 特許庁

At least one gas supply step through the upper part and lower part of the process chamber 301 is executed so that an epitaxial film is selectively grown on the silicon exposure surface on the surface of wafer.例文帳に追加

この処理室３０１の上部と下部からのガス供給工程を１回以上実行し、ウェハ表面のシリコン露出面に選択的にエピタキシャル膜を成長させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a resonance apparatus, which can improve a Q value of a resonator and which has the high degree of freedom in process design for forming an upper electrode.例文帳に追加

共振子のＱ値を向上させることが可能で且つ上部電極の形成のためのプロセス設計の自由度が高い共振装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To process a single piece paper provided with a reserve piece efficiently by a single piece paper folding device having two pairs of upper and lower guide plates and knocking plates per guide plate.例文帳に追加

上下対の二対のガイド板と各ガイド板毎に突き当て板を有する単片用紙折り畳み装置で、控片を設けた単片用紙の処理を効率的に行う。 - 特許庁

In the coupling process, the third insulating layer includes a platform portion that extends beyond the first insulating layer and the second insulating layer, and the platform portion has an upper surface.例文帳に追加

連結する工程において、第３の絶縁層は、第１の絶縁層および第２の絶縁層を越えて延在するプラットフォーム部を備え、そのプラットフォーム部は上面を有する。 - 特許庁

After a belt-like electrode 3 is formed along a first split groove 2 on an upper side of a ceramic substrate 1, laser scribing is executed twice as a second split groove forming process.例文帳に追加

セラミック基板１の上面に一次分割溝２に沿って延びる帯状電極３を形成した後、二次分割溝形成工程としてレーザスクライブを２回行う。 - 特許庁

Further, a flowable resin raw material M is injected in the upper opening region of the sheet 92 in the process for molding the long double cylindrical body 90.例文帳に追加

また、前記長尺二重円筒体９０に成形する過程で、前記シート９２の上方開口領域に対して、流動性樹脂原料Ｍを注入する。 - 特許庁

Next, the metal oxide layer 22 is polished using a CMP process while using a slurry, and the nitride layer 31 on the upper surface of the metal structure 21 is exposed.例文帳に追加

次に、スラリを用いて、金属酸化物層２２が化学機械研磨（ＣＭＰ）プロセスにより研磨され、金属構造２１の上面上の窒化物層３１が露出される。 - 特許庁

Connection is made with the upper wire 2b via the second wall-like longitudinal wire 2c formed by the common process with the plug 59 in the logic region Ra.例文帳に追加

上側配線部２ｂとはロジック領域Ｒａのプラグ５９と共通の工程で形成された壁状の第２縦方向配線部２ｃを介して互いに接続されている。 - 特許庁

A waveguide pattern 12a is formed and a core layer 14 is formed on a lower part clad layer 12 having a waveguide pattern 13a on its upper part by an FHD method (process 5).例文帳に追加

導波路パターン１２ａが形成され、上部に導波路パターン膜１３ａを有する下部クラッド層１２上に、ＦＨＤ法により、コア層１４を成膜する（工程５）。 - 特許庁

Even when the oxide film of a metal strong in a coupling force with oxygen is formed on the upper surface of the wiring material film 5, the oxide of the metal can be removed in the process (d).例文帳に追加

配線材料膜５の上面に酸素との結合力が強い金属の酸化膜が形成される場合でも、当該金属の酸化物は工程（ｄ）で除去できる。 - 特許庁

The shape of the glass material 26 is not remarkably damaged to be kept so that both upper and lower surfaces are in contact with the center of the metallic mold as in a press process.例文帳に追加

ガラス硝材２６の形状は大幅には崩れず、そのままプレス工程に入っても上下両面とも金型中心からの当りになる形状は保持できる。 - 特許庁

To enable manufacturing through an elegant process without damaging slidability between an upper rail and a lower rail, in a seat slide device for a vehicle and an assembling method thereof.例文帳に追加

車両用シートスライド装置およびその組み立て方法において、アッパレールとロアレールの摺動性を損なうことなく、かつ手間のかからない工程で製造可能とする。 - 特許庁

The progress is made one step by one step at a time as the original manner even in a reproduction process when a folder is opened in the past search operation and the shift is made from the upper order of hierarchy to the lower order.例文帳に追加

過去の探索作業においてフォルダが開かれて階層の上位から下位に移動した場合には、再現過程でも元の通りにワンステップずつ進む。 - 特許庁

A group of heat plates P and P, which are arranged in upper and lower positions of a carrying path L of a twofold postcard X in the heating treatment process, is provided in the state of being vertically movable from a set position.例文帳に追加

加熱処理の工程で二つ折り葉書Ｘの搬送経路Ｌの上下に配置されるヒートプレートＰ、Ｐ群を設定位置から上下可動に設ける。 - 特許庁

A plurality of functional stations 13 each having the individual step of the fluidized bed granulating/coating process are arranged in an upper treating pat 10 by disposing them at even intervals on the circumference.例文帳に追加

流動層造粒コーティングプロセスを構成する各工程の機能を有する機能ステーション１３を円周上に等間隔に配置して上方処理部１０を設ける。 - 特許庁

To prevent an upper end part of a B pillar garnish from contacting a part of an air bag body in process of developing or being caught by the part when the B pillar garnish is moved upward.例文帳に追加

Ｂピラーガーニッシュが上方に移動した場合にも、Ｂピラーガーニッシュの上端部が、展開途中のエアバッグ袋体の一部と接触または引っ掛かることを抑制する。 - 特許庁

After finish of the etching treatment to a specified number of wafers W, the anodized surface of the upper chamber part 5 in the process chamber 2 is wiped with cloth or the like wet with IPA or water.例文帳に追加

所定枚数のウェハＷに対するエッチング処理の終了後、プロセスチャンバー２における上部チャンバー部５のアナダイズ表面をＩＰＡや水を濡らした布などで拭く。 - 特許庁

Subsequently, a first attaching process is performed, that is, first parts 42a, 42b of the upper substrate 46 are attached to at least one dummy sealing material 50 in the lower substrate 48.例文帳に追加

続いて第一貼り合わせ工程を行い、上基板４６の第一部分４２ａ、４２ｂを下基板４８における少なくとも一つのダミーシール材５０と貼り合わせる。 - 特許庁

In a process of forming an exposed region 130, by separating the closed face 242A of the shutoff member 242 from the upper wall face 222A, the flow passage 221 and the ejecting hole 222 are communicated.例文帳に追加

露出領域１３０を形成する工程では、遮断部材２４２の閉鎖面２４２Ａを上壁面２２２Ａから離して流路２２１と吐出孔２２２とを連通させる。 - 特許庁

The segment Wa of the metal plate in the holding state with the upper and lower dies 21, 22 is bent by an angle of <90° by moving a bending die 24 in the next first obtuse angle bending process.例文帳に追加

次の第１鈍角曲げ過程で、曲げ型２４を移動させて、上下型２１，２２による挟み込み状態の板材片Ｗａを９０度未満の角度だけ曲げる。 - 特許庁

A stage 64 for forming process becoming a closed forging die M for forming at least the flange 32 is constituted by co-operation of the upper die unit 61 and the lower die unit 60.例文帳に追加

上型ユニット６１と下型ユニット６０とで協働して、少なくともフランジを３２成形する閉塞鍛造Ｍとなる成形工程用ステージ６４を構成する。 - 特許庁

(2) A ridge tile installing member installing process: A metallic plate material 3 for covering an upper surface 21a and a side surface 21b of the plane roof tile 21 is arranged in the lengthwise direction.例文帳に追加

２）冠瓦取付け用部材取付工程：熨斗瓦２１の上面２１ａ、側面２１ｂを被覆する金属製プレート材３を長手方向に配設する。 - 特許庁

Thereby, in a process for sealing a periphery of the PDP and exhausting inside gas, an exhaust clearance can be secured in an upper part of the barrier ribs, and thus, exhaust efficiency is improved.例文帳に追加

これにより、ＰＤＰの周囲を封着し、内部のガスを排気する工程で、隔壁の上部に排気クリアランスを確保することができるので、排気効率が向上する。 - 特許庁

A slit 6 into which the information communication body can be inserted, is provided to a part of a heater cover 5 corresponding to a position of a carrying roller R on an upper stream side of a heating and pressurizing treating process.例文帳に追加

加熱、加圧処理工程の上流側の搬送ローラＲの位置に対応するヒーターカバー５の部分に情報通信体を挿入できるスリット６を設ける。 - 特許庁

To provide a process chamber which can have its upper lid member manufactured with a light-weight constitution and suppress the tilt and strain of a window provided thereto.例文帳に追加

プロセスチャンバの上部蓋部材を軽量に製作できるようにし、そこに設けられるウインドウの傾きや歪みを抑制することのできるプロセスチャンバを提供すること。 - 特許庁

The initiator component for vehicle is furnished with at least one locating groove in which the inside of an upper surface peripheral position is chamfered by a cold forging process.例文帳に追加

車両用イニシエーター部品において、冷間鍛造加工により、上面外周位置の内側に面取り加工を施した少なくとも１つの位置決め用溝部を設ける。 - 特許庁

Additionally, the upper and lower peripheral edge parts of the work are polished in the primary polishing process without using the constant size carrier for the carrier at the time of polishing of the work on the polishing device of the both surfaces.例文帳に追加

また、両面の研磨装置におけるワークの研磨時にキャリアに定寸キャリアを用いずに一次研磨工程でワークの上下周縁部を研磨する。 - 特許庁

To provide a tire vulcanizer which is capable of stabilizing the quality of tires by preventing the difference in temperature between the upper and lower parts of green tires from occurring in a vulcanizing process.例文帳に追加

加硫工程において生タイヤの上下部間に温度差が生じることを防止することにより、タイヤの品質を安定させるようにしたタイヤ加硫機を提供すること。 - 特許庁

The groove (10) is formed on the upper face (3) of the optical waveguide substrate (2), while the process of hardening the adhesive (16) is performed by holding the optical waveguide substrate (2) upside down.例文帳に追加

光フィルタ設置溝(10)は、光導波路基板(2)の上面(3)に形成され、接着剤(16)を硬化させる工程は、光導波路基板(2)を上下逆にして行われる。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which etching selection ratio for an underlying layer is high when the upper layer of a multilayer film deposited by CVD is etched.例文帳に追加

ＣＶＤ法により成膜された積層膜の上層をエッチングする際に、下層に対するエッチング選択比の高い半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁