「upper process」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a control unit of an internal combustion engine capable of suppressing early malfunction of a non-volatile memory as the number of times of executing a memory update process reaches to its upper limit value.例文帳に追加

記憶更新処理の回数がその上限値に達すること伴って不揮発性メモリが早期に故障することを抑制することのできる内燃機関の制御ユニットを提供する。 - 特許庁

In the forging press process, an inclined face W1 is formed on the upper face of a work W by operating a punch 10 for forging press to a boring part THx in the inclined work W.例文帳に追加

鍛圧工程では、傾斜したワークＷにおける孔の形成予定部分ＴＨｘに対し、鍛圧用パンチ１０を作動させて、ワークＷの上面に傾斜面Ｗ１を形成する。 - 特許庁

To prevent a pressure in a liquid chamber from rising above the upper limit in a predetermined scope in a pressure rising process in the liquid chamber in an accumulator using metallic bellows.例文帳に追加

金属ベローズを用いたアキュームレータにおいて、液体室の圧力上昇過程において液体室の圧力が所定範囲の上限を超えて上昇することがないようにする。 - 特許庁

To provide a structure of a spring shoe of a hydraulic damper, which structure can prevent the falling off of the spring in a process for assembling a coil spring between upper and lower spring shoes, and can prevent the occurrence of noise after the assembly.例文帳に追加

油圧緩衝器のばね受構造において、上下のばね受の間へのコイルばねの組付過程で該ばねの脱落を防止し、組付後の異音の発生を防止すること。 - 特許庁

Upper and lower peripheral edge parts of a work are polished roughly in the same thickness as a constant size carrier in a primary polishing process by using the constant size carrier as a carrier at the time of polishing on a polishing device of both surfaces.例文帳に追加

両面の研磨装置におけるワークの研磨時にキャリアに定寸キャリアを用いて一次研磨工程でワークの上下周縁部を定寸キャリアの厚みと略同一に研磨する。 - 特許庁

When the transmitting audio data STL is bit-expanded 24-bit LPCM audio data, a process identical to that conducted for the 16-bit LPCM audio data is executed for the upper 16 bits.例文帳に追加

送信音声データＳＴＬがビット拡張された２４ビットＬＰＣＭ音声データであるとき、上位１６ビットに関しては、上述の１６ビットＬＰＣＭ音声データの場合と同様である。 - 特許庁

To provide a vapor phase fluidized bed reactor wherein the gas distributor is constructed to allow decrease of deposit formation at the upper side of the bottom part of the reactor through an easy process.例文帳に追加

ガス・ディストリビュータが、簡単な方法で、反応器底部の上側での堆積物の形成を減少させることができる様に構成された、気相流動層反応器を提供することにある。 - 特許庁

To provide a dried laver conveyor where a dried laver discharging port at the upper part of the conveyor is connected to a subsequent process having a gap to the port within a small space to eliminate the gap.例文帳に追加

海苔乾燥装置の上部の乾海苔搬出口と落差のある次工程を少ないスペースで接続して落差を解消することができる乾海苔搬送装置を提供する。 - 特許庁

To enable a cleaning device used in a semiconductor manufacturing process to be decreased in floor space and to be prevented from deteriorating the upper part of its cleaning tank in cleaning performance.例文帳に追加

半導体製造工程に用いられる洗浄装置において、洗浄装置の設置スペースを縮小し、洗浄槽内の上部における洗浄能力の低下を防止する。 - 特許庁

The cup holder comprises a shaft position changing means (arm 8 or the like) for moving the shaft part backward in the long groove in an initial process of switching the upper holder from a use mode to a housing mode.例文帳に追加

上ホルダーを使用態様から収納態様へ切り換える初期過程で、軸部を長溝の溝前側から溝後側へ移動する軸位置変更手段（アーム８等）を備える。 - 特許庁

To provide a tape binder which carries out high-speed processing in a simplified process, in winding a tape around an upper part of a bag filled with articles, and binding it into a pouch-shaped commodity.例文帳に追加

物品を充填した袋の上部にテープを巻き付けて結束して巾着状の商品とするに際し、簡素化された行程で高速処理化が可能なテープ結束機を提供する。 - 特許庁

At a stage (time t_1) wherein crystal growth is completed after an upper DBR layer is formed, supply of TMA, TMG and DMZ is stopped and a process temperature begins to be lowered.例文帳に追加

上部ＤＢＲ層を形成したのち、結晶成長を完了した段階（時刻ｔ_1）で、ＴＭＡ、ＴＭＧ、ＤＭＺの供給を停止すると共に、プロセス温度の降下を開始する。 - 特許庁

In the second process, the side wall surface E of the recessed part C' is formed with the inner teeth F' and a part opposing to the inner teeth F' of the upper surface of the protruded part D' is collapsed in the direction of the inner teeth F'.例文帳に追加

第２の工程では、凹部Ｃ′の側壁面Ｅに内歯Ｆ′を形成するすると共に、凸部Ｄ′の天面の内歯Ｆ′と対抗する部分を内歯Ｆ′方向につぶす。 - 特許庁

In the substrate processing apparatus, two substrates W1 and W2 before cleaning are held by spin chucks 31 and 33 while arranged upper and lower in the same process chamber 1.例文帳に追加

この基板処理装置では、洗浄処理前の２枚の基板Ｗ1，Ｗ2が同一の処理チャンバー１内で上下に配置された状態でスピンチャック３１，３３にそれぞれ保持される。 - 特許庁

To provide a novel FeRAM capacitor cell capable of suppressing the concentration of an electric field in the boundary part of a ferroelectric layer and an upper electrode layer effectively, and to provide its fabricating process.例文帳に追加

強誘電体層と上部電極層との境界部における電界の集中を効果的に抑制できる新規なＦｅＲＡＭキャパシタセル及びその製造方法等の提供。 - 特許庁

Powder of Bi_2Te_3 thermoelectric material, to which phosphorus is added, is introduced into a die 1 in a shape that upper and lower sections are held by a punch 2, and a green compact 3 is manufactured by pressing the punch 2 (a dust process).例文帳に追加

ダイス１中にパンチ２で上下を挟む形で、燐を添加したＢｉ_２Ｔｅ_３系熱電材料の粉末を入れ、パンチ２を加圧することで圧粉体３を作製する（圧粉工程）。 - 特許庁

According to such process, all the edges in the lower substrate and the upper substrate are soft etched temporarily without corroding the wiring of metal, and working efficiency is improved.例文帳に追加

このような工程によれば、金属の配線を腐食させることなく、下側基板および上側基板における全てのエッジを一時にソフトエッチングすることができ、作業効率が向上する。 - 特許庁

Next, the upper circulating process is executed by operating a pump 53 and a temperature adjusting unit 63, then opening the valves 56a, 67, and 66a, and closing the valves 56b, 57, and 66b.例文帳に追加

次に、ポンプ５３および温調部６３を動作させつつ、バルブ５６ａ、６７、６６ａを開放し、バルブ５６ｂ、５７、６６ｂを閉鎖することにより、上部循環処理を実行する。 - 特許庁

In the detecting process, heat information is detected in at least one side of adjacent portions 42a, 43a on both sides of the fusion portion 41a on the surface of the upper metal plate in the welding.例文帳に追加

検出工程では、溶接時に上金属板の表面に溶融部分４１ａの両側の隣接部分４２ａ，４３ａの少なくとも一方における熱情報を検出する。 - 特許庁

The guide rail 61 at the lower position is positioned below the processing head 11 disposed at a normal position on the conveyance line and the guide rail 61 at the upper position lifts the process head 11 to above the normal position.例文帳に追加

下位置のガイドレール６１は、搬送ライン上の正位置の処理ヘッド１１より下に位置し、上位置のガイドレール６１は、処理ヘッド１１を前記正位置より高く持ち上げる。 - 特許庁

A first patterning and an etching process are performed to the lower wiring material and the switching material to form a first structure 1102 having an upper surface area and a side area.例文帳に追加

下部配線材料及びスイッチング材料に対して第１パターニング及びエッチングプロセスを行い、上部表面領域及びサイド領域を有する第１構造１１０２を形成する。 - 特許庁

To process receiving data from as many terminal devices as possible even when there is an upper limit in data transfer capacity of a specific signal route inside a radio base station.例文帳に追加

無線基地局内における特定の信号経路のデータ転送容量に上限がある場合でも極力多くの端末装置からの受信データを処理できるようにすること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a piezoelectric thin film resonator by which manufacturing process regarding formation of a frequency adjustment layer is simplified and oxidation of an upper electrode is prevented.例文帳に追加

周波数調整層の形成に関する製造工程の簡略化を図ると共に、上部電極の酸化を防止することができる圧電薄膜共振器の製造方法を提供する。 - 特許庁

To allow moving images to be arranged in recorded reproduction sequence when an edition process of a moving image file exceeding an upper-limit number of stream data storable in a stream folder is executed.例文帳に追加

ストリームフォルダに格納可能なストリームデータの上限数を超える動画ファイルの編集処理が実行された際に、動画が記録された再生順序に配置できるようにする。 - 特許庁

A cavity part 14 formed between an upper mold 10 and a lower mold 12 is tightly closed by seal members 20a and 20b, and high pressure is applied by delivering air through a fluid injection passage 22 (a process (b)).例文帳に追加

上型１０と下型１２の間にできるキャビティ部１４を、シール部材２０ａ、２０ｂで密閉し、流体注入経路２２を通じて空気を送り込み高圧化する（工程（ｂ））。 - 特許庁

To detect abnormal conditions within an RF-powered plasma process chamber, by detecting whether the frequency of a variable-frequency RF power supply has moved to the outside of established lower and upper limits.例文帳に追加

ＲＦ駆動プラズマプロセスチャンバ内の異常状態を、可変周波数ＲＦ電源の周波数が設定した上下限外に移動したかどうかを検出することにより、検出する。 - 特許庁

This building construction method includes a first process for installing the PC footing member 1 precast only at the lower section in the height direction of a footing H on the ground surface, a second process for erecting a steel column SC on the PC footing member 1, and a third process for constructing the upper section in the height direction of the footing H in a region A.例文帳に追加

フーチングＨの高さ方向下部のみをプレキャスト化したＰＣフーチング部材１を地盤面に設置する第一工程と、ＰＣフーチング部材１の上面に鉄骨柱ＳＣを建てる第二工程と、領域ＡにフーチングＨの高さ方向上部を構築する第三工程と、を含むことを特徴とする建物施工方法。 - 特許庁

This method for manufacturing this semiconductor element comprises a process for forming a trench 5 for separating an element on a silicon substrate 1, a process for forming an oxide film 7a by using a high density plasma DVD method in order to bury the trench 5 to the middle, and a process for injecting boron to an element forming region positioned at the upper part of the side wall of the trench 5.例文帳に追加

この半導体装置の製造方法は、シリコン基板１に素子を分離するためのトレンチ５を形成する工程と、トレンチ５を途中まで埋め込むように、高密度プラズマＣＶＤ法を用いて酸化膜７ａを形成する工程と、その後、トレンチ５の側壁上部に位置する素子形成領域にボロンを注入する工程とを備えている。 - 特許庁

The pressurizing body is pressed with a weak force on the upper surface having much moisture in a first process prior to a predetermined dehydrating operation, is raised a little to guide air between the elastic pressurizing surface and the laundry in a second process, and is energized by a predetermined force and speed in a third process.例文帳に追加

所定の脱水操作に先立つ第１工程で、水分を多量に含んだ洗濯物の上面に弱い力で加圧体を押圧、次の第２工程で加圧体を少し上昇させることにより弾性加圧面と洗濯物との間に空気を導入し、次の第３工程で所定の力及び速度で加圧体を付勢して洗濯物の脱水を行なう。 - 特許庁

Also, the separation method includes a dispersion introduction process of introducing the dispersion containing the particles to the dispersion introduction path, a separation process of performing separation by making the dispersion pass through the separation flow path whose upper surface is inclined to the gravity direction, and a discharge process of discharging the separated matter of the particles from the discharge path.例文帳に追加

また、分散液導入路に粒子を含有する分散液を導入する分散液導入工程と、前記分散液をその上面が重力方向に対して傾斜を有する分離流路を通過させて分離する分離工程と、前記粒子の分離物を放出路から放出する放出工程と、を含むことを特徴とする分離方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the element substrate 100 includes: a process for forming a sacrifice layer having a first pattern on a substrate 10; a process for forming a metal layer at the upper portion of the formation and non-formation regions of the sacrifice layer; and a process for forming a metal layer 34 having a second pattern by removing the sacrifice layer by heating.例文帳に追加

本発明にかかる素子基板１００の製造方法は、基板１０上に第１のパターンの犠牲層を形成する工程と、前記犠牲層の形成領域および非形成領域の上方に金属層を形成する工程と、加熱することにより、前記犠牲層を除去して、第２のパターンの金属層３４を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

This manufacturing method for the tag comprises: a through hole formation process for forming the through hole in a prescribed position of an insulative sheet allowing the fixing of the electroconductive ink; and an antenna circuit formation process for printing the antenna circuit on the upper face and the lower face of the insulative sheet by the electroconductive ink such that the through hole is closed up, after the through hole formation process.例文帳に追加

導電性インクを定着させることができる絶縁シートの所定部位にスルーホールを形成するスルーホール形成工程と、このスルーホール形成工程後に絶縁シートの上面および下面に導電性インクによって、前記スルーホールが塞がるようにアンテナ回路をプリントするアンテナ回路形成工程とでタグの製造方法を構成している。 - 特許庁

The method for manufacturing the macromolecular optical waveguide by forming a lower clad, a core, and an upper clad on a substrate in this order includes an annealing process of maintaining a temperature which is lower than the glass transition temperature of the polymer of the lower clad by 0 to 20°C before a process of forming the upper clad after forming the lower clad and core on the substrate.例文帳に追加

基板上に、下部クラッド、コアおよび上部クラッドがこの順に形成されてなる高分子光導波路の製造方法であって、基板上に下部クラッドおよびコアを形成後、上部クラッドを形成する工程の前に、下部クラッドの重合体のガラス転移温度より０〜２０℃低い温度に維持するアニール工程を含むことを特徴とする高分子光導波路の製造方法。 - 特許庁

To provide a process for producing a lamination in which elution of the constituents of an underlying layer into solvent in coating liquid for forming an upper layer can be controlled when two layers are formed one over the other by coating process, and a plurality of layers can be formed without restricting solvent or composition material employed in the coating liquid for forming the upper layer.例文帳に追加

本発明は、塗布法により二層以上を重ねて形成するにあたり、上層形成用塗工液中の溶媒に下地層の構成成分が溶出するのを抑制することができ、上層形成用塗工液に使用される溶媒や構成材料が制限されることなく、複数の層を積層することが可能な積層体の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

A process of supplying steam to the clothes by the steam supply means 49 is executed under the pressurized condition of the clothes being sandwiched between the upper and lower pressing irons 10 and 20 and/or a process of sucking the clothes by the suction means 39, under the released condition of the clothing with the upper iron 20 separated from the lower pressing iron 10.例文帳に追加

上下の鏝１０，２０間に衣類を挟んで加圧した状態において、蒸気供給手段４９により衣類に蒸気を供給する工程と、鏝１０，２０間に衣類を挟んで加圧した状態、及び／又は上鏝２０を下鏝１０から離して衣類を解放させた状態において、吸引手段３９により衣類の吸引を行う工程とが実行される。 - 特許庁

When the address after address calculation is not entered in TLB, the process is transferred to a TLB fault handler, in which a TLB control part detects, based on the value of the C bit, whether carry-down from an upper address or carry-up to an upper address has occurred in the address calculation or not.例文帳に追加

アドレス計算後のアドレスがＴＬＢにエントリされていない場合はＴＬＢフォルトハンドラに移行し、ＴＬＢ制御部が、Ｃビットの値に基づいてアドレス計算において上位アドレスからの桁下がりまたは上位アドレスへの桁上がりが発生したか否かを検出する。 - 特許庁

In a die 31 at the lower side in an intermediate forming process, since the width W1 of the interval at the upper opening end of an inclining restricted surface 311 is largely formed a little rather than the outer diameter size D of the outer periphery 11 of a first rack blank 1, the upper half part of the rack blank 1 has no binding force at the forming time.例文帳に追加

中間成形工程の下側のダイ３１は、傾斜拘束面３１１の上方開口端間の幅Ｗ１が、第１のラック素材１の外周１１の外径寸法Ｄよりも若干大きく形成されているため、ラック素材１の上半分は、成形時の拘束力が無い。 - 特許庁

In addition, a second vertical hole 36 with a larger diameter than the first vertical hole 30 is excavated through a second excavation process where the second vertical hole 36 is excavated from an upper side of the boundary surface 34 between the contaminated layer 20 and an upper layer 18 thereof to the lower side of the boundary surface 28 between the contaminated layer 20 and the impermeable layer 22.例文帳に追加

次に、第２掘削工程により、汚染層２０と汚染層２０の上層１８との境界面３４の上方から、汚染層２０と不透水層２２との境界面２８の下方まで、第１縦穴３０より大径の第２縦穴３６が掘削される。 - 特許庁

Since the lower electrode 102 and the upper electrode 104 have the same potentials, the generation of discharge penetrating the piezoelectric film 103 can be prevented even if a conventional process generating discharge easily, e.g. formation of a protective film covering the upper electrode 104 or the dicing of the substrate, progresses.例文帳に追加

これにより、下部電極１０２と上部電極１０４とが同電位となることから、上部電極１０４を覆う保護膜の形成や基板のダイシング等、従来放電が発生しやすかったプロセスを進めても、圧電膜１０３を貫通する放電が発生することがない。 - 特許庁

Cutting edges 4 of an upper and a lower two edges for a vinyl insulator to cut off a sheath and the insulator, and sheath cutting edges 3 of an upper and a lower two edges to cut off only the sheath are linked by a linking plate 5, then the VVF cable is constricted to simultaneously perform the two-step stripping process of the sheath and the vinyl insulator.例文帳に追加

シース及び絶縁体を切断する上下２枚のビニル絶縁体切断刃４と、シースのみを切断する上下２枚のシース切断刃３を、連動板５によって同時に連動して、ＶＶＦケーブルを狭窄し、シースおよびビニル絶縁体を同時に二段に剥離する。 - 特許庁

In the grout filling process, grout W is supplied into a lower joint space 54 to fill the lower joint space 54, a through-hole 28 and an upper joint space 56 with the grout W, and air Q in the upper joint space 56 is exhausted through an air vent passage 60.例文帳に追加

グラウト充填工程では、下目地空間５４へグラウトＷを供給することによって、下目地空間５４と貫通孔２８と上目地空間５６とにグラウトＷを充填すると共に、空気抜き通路６０を通じて上目地空間５６の空気Ｑを排気する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a lead frame in which a segment block does not project from the upper surface of a resin molding portion, the segment block can be positioned even if it cannot be clamped, and resin burrs are not generated even if the segment block is projecting from the upper surface of the resin molding portion.例文帳に追加

個片ブロックが樹脂成形部上面より突出しておらず、該個片ブロックを挟持出来ずとも個片ブロックの位置出しが出来て、個片ブロックが仮に樹脂成形部上面よりも突出していても樹脂バリが発生しないリードフレームの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To improve the yield of a wiring board by making repair of a short- circuit failure point between upper and lower wirings generated through a pin-hole of an insulation layer easy by a conducting process, when a wiring board of a matrix structure comprising the lower wiring and the upper wiring separated by the insulation layer is used.例文帳に追加

絶縁層によって隔てられた下部配線と上部配線を有するマトリックス構造の配線基板を用いる場合において、絶縁層のピンホールを介して生ずる上下配線間ショート不良箇所を通電処理によって修復（リペア）し易くして、配線基板の歩留向上を図る。 - 特許庁

The diameter of the single crystals is controlled by repeating the calculation of the upper and lower limits for the manipulative variables of the rates of pulling the single crystals and the control of the moving average of the rates of pulling the single crystals based on the settings and the upper and lower limits during the process of pulling the single crystals.例文帳に追加

単結晶を引き上げる過程にて、単結晶の引き上げ速度の操作量の上下限値の算出、及び、これら設定値と上下限値に基づく単結晶の引き上げ速度の移動平均値の制御、を繰り返し行い、単結晶の直径を制御する。 - 特許庁

At the late stage of the compression process of a piston, the squish generation regions Ka serve for compressing air-fuel mixture in the upper spaces thereof to generate a plurality of squish flows S and the swirl generation guide channels 5 serves for compressing air-fuel mixture in the upper spaces thereof to generate a plurality of swirl flows S.例文帳に追加

ピストンの圧縮行程の後期において、スキッシュ生成領域Ｋａは、その上側空間の空燃混合気を圧縮して複数のスキッシュ流Ｓを生成し、スワール生成案内溝５は、その上側空間の空燃混合気を圧縮して複数のスワール流Ｓを生成する。 - 特許庁