「まそお」に関連した英語例文の一覧と使い方(111ページ目) - Weblio英語例文検索

半導体基板上にコンタクトホールを形成した後、後続膜を蒸着するまでの一連の前処理工程をクラスター化されたプラズマ装置で行うことによって工程時間を短縮できる半導体素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for fabricating a semiconductor element in which the process time can be shortened by performing a series of pretreatment steps for depositing a subsequent film after making contact holes on a semiconductor substrate in a clustered plasma system. - 特許庁

ドレッサーのダイヤモンド粒子間に研磨液の固まりが形成されるのを防止したり、そのような固まりを除去することにより、ドレッサーの所期の寿命が短縮化するのを防止することができる化学的機械研磨装置及び方法を提供する。例文帳に追加

To provide a chemical mechanical polishing device and a method capable of preventing the formation of a mass of a polishing liquid between diamond particles of a dresser and capable of preventing shortening of the expected service life of the dresser by removing such a mass. - 特許庁

高精度な研磨を高い研磨速度で実施可能であり且つ保管や廃棄が容易なＣＭＰ用スラリー、その取り扱い方法、それを用いた半導体装置の製造方法、及びそれを使用可能な半導体装置の製造装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a CMP slurry that can achieve high accurate polishing at a high polishing rate and can be easily stored and readily scrapped, a method of handling the slurry, a method of producing semiconductor devices using the same and an apparatus for producing semiconductor devices by using the same. - 特許庁

液晶ディスプレイに使われるカラーフィルター層のRGB表面を平坦にするため、カラーフィルター層の段差を選択的に研磨して、画素内でのカラーフィルター層の厚みを均一に研磨でき、かつ研磨速度の高い有機材料用ＣＭＰ研磨剤の検討を行う。例文帳に追加

To examine a CMP polishing agent for organic material, polishing a color filter layer to be uniform in thickness in a pixel by selectively polishing a step of the color filter layer to flatten the RGB surface of the color filter layer used in a liquid crystal display and having a high polishing speed. - 特許庁

平坦化するべく異なる材質の膜を同時に研磨したとしても、研磨速度の速い材質に合わせて研磨を行うことができるとともに、異なる材質の膜の研磨を同時に終了することができる、半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which polishing can be carried out in accordance with the material of higher polishing rate when films of different materials are polished simultaneously for planarization, and polishing of films of different materials can be ended simultaneously. - 特許庁

シリコンウエハの研磨用やハードデスク用基板の研磨用として汚染の問題を生じることが少ないシリカの微粒子からなり、しかも研磨材として用いた場合に従来の非晶質シリカの粒子より速い研磨速度を示す粒子を提供する。例文帳に追加

To provide a particle comprising a fine particle of silica hardly causing the problems of pollution when used for polishing a silicon wafer or a substrate for a hard disk and exhibiting more rapid polishing rate than that of the conventional amorphous silica when used for polishing. - 特許庁

水蒸気添加手段２０によって水蒸気を添加された、揮発性有機物質を含む排ガスを常圧低温マイクロ波プラズマ装置１０に導入し、揮発性有機物質をプラズマで分解処理することにより揮発性有機物質を含む排ガスを処理する。例文帳に追加

The waste gas containing volatile organic material is treated by introducing the waste gas to which steam is added by a steam adding means 20 into a normal pressure low temperature microwave plasma device 10 and subjecting the volatile organic material to decomposition treatment by plasma. - 特許庁

プラズマ装置の内部に設けられたモニタ基板３に、数ｋＶのエッチング用電圧を印加してモニタ基板３上の堆積物をエッチングし，堆積物から放出される物質を質量分析装置又はイオンチャンバを用いて分析する。例文帳に追加

A deposited substance on a monitoring substrate 3 is etched by applying a voltage for etching several kVs to the monitoring substrate 3, which is loaded inside a plasma apparatus, and the substance emitted from the deposited substance is analyzed by a mass spectrometer or an ion chamber. - 特許庁

プラズマ装置本体２７に、プロセスガスが両電極の間に送り込まれる一対の対向電極３と、その対向電極３によって作られたプラズマを搬送装置３９によって移動する被処理物７に対して吹き出す幅の狭い長孔状に形成されたプラズマ吹出口９とを設ける。例文帳に追加

A plasma device main body 27 is equipped with a pair of counter electrodes 3 between which process gas is fed, and a narrow elongated slot-shaped plasma outlet 9 which spouts plasma made by the counter electrodes 3 toward an object 7 to be treated moved by a conveying device 39. - 特許庁

研磨装置により円盤状基板の研磨を行う際に、両面の研磨量の差をより小さくすることができ、円盤状基板を配置する位置の違いによる研磨量の差をより小さくすることができる円盤状基板の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a disk substrate capable of reducing a difference in a polishing amount of both sides when polishing the disk substrate by a polishing machine, and reducing the difference in the polishing amount resulting from different setting positions of the disk substrate. - 特許庁

本発明の目的は、デジタル放送番組視聴用のＩＣカードを誤挿入してもＩＣカードに損傷を与えることがなく、車載装置内の温度が上昇した場合でもＩＣカードを安定して動作させる車載装置を提供することにある。例文帳に追加

To provide an onboard device which prevents an IC card for viewing and listening digital broadcast from being damaged even when the IC card is erroneously inserted, and stably operating the IC card even when the temperature in the onboard device rises. - 特許庁

半田ボールを形成するために必要なランド径を確保したままソルダーレジストの開口部と電極端子とを同一サイズに形成し、高密度設計に好適な半導体装置及びその半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device suitable for a high-density design by forming the opening of a solder resist in the same size as that of an electrode terminal, while maintaining a necessary land diameter for forming a solder ball; and a method of manufacturing the semiconductor device. - 特許庁

マイクロ波のエネルギを伝達する伝達系中の熱による損傷を回避することを可能とする構造を備えるプラズマ生成装置及び該プラズマ装置の伝達系中のマイクロ波のエネルギ損失を考慮したプラズマ生成方法を提供することが課題である。例文帳に追加

To provide a plasma generating device having a structure capable of avoiding damages due to heat in a transmission system for transmitting microwave energy, and to provide a plasma generation method taking into consideration energy loss of microwave in the transmission system of the plasma device. - 特許庁

紙送りローラ１のローラ本体２を、マイクロゴム硬さ（タイプＡ）が８０〜９５であるウレタン系熱可塑性エラストマ〈Ｅ〉と可塑剤〈Ｐ〉とを質量比Ｅ／Ｐ＝９５／５〜７０／３０の割合で含む熱可塑性エラストマ組成物を用いて形成した。例文帳に追加

A roller body 2 of the paper feed roller 1 is formed using a thermoplastic elastomer composition containing the urethane-based thermoplastic elastomer [E] whose micro rubber hardness (type A) is 80-95, and plasticizer [P] in a mass ratio of E/P=95/5-70/30. - 特許庁

紙送りローラ１のローラ本体２を、マイクロゴム硬さ（タイプＡ）が６０〜８０であるウレタン系熱可塑性エラストマ〈Ｅ〉と可塑剤〈Ｐ〉とを質量比Ｅ／Ｐ＝７０／３０〜５０／５０の割合で含む熱可塑性エラストマ組成物を用いて形成した。例文帳に追加

A roller body 2 of the paper feed roller 1 is formed using a thermoplastic elastomer composition containing the urethane-based thermoplastic elastomer [E] whose micro rubber hardness (type A) is 60-80, and plasticizer [P] in a mass ratio of E/P=70/30-50/50. - 特許庁

従来の研磨液と比較して酸化ケイ素膜に対する研磨速度を向上させることができると共に、表面に酸化ケイ素膜を有する基板の面内均一性を向上させることが可能なＣＭＰ用研磨液、及び、これを用いた研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing liquid for CMP that improves a polishing rate of a silicon oxide film and also reduces within-wafer nonuniformity of a substrate having the silicon oxide film on a surface as compared with a conventional polishing liquid, and to provide a polishing method using the same. - 特許庁

直鎖状多価アルコールの含量が５〜２５重量％である二糖類以下の糖質を４０〜７０重量％、ハードバターを５〜２５重量％及び水分を８〜１８重量％含有し、水分活性が０．６００未満であることを特徴とする生チョコレート様組成物により上記課題が解決される。例文帳に追加

This raw chocolate-like composition includes 40-70 wt.% of 5-25 wt.% linear polyhydric alcohol-containing glucide of equal to or less than disaccharide, 5-25 wt.% hard butter, and 8-18 wt.% water, and has moisture activity of <0.600. - 特許庁

本発明は、圧縮特性のバラツキが少なく、スラリー液の浸水による圧縮特性の変化も小さく、研磨層の繰り返し荷重に対する残留歪みによる影響を低減できる研磨パッド用クッション層の製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing a cushion layer for a polishing pad allowing reduction of influence due to remaining distortion in relation to repeated load of a polishing layer with little dispersion of a compression characteristic and a small change of the compression characteristic due to flooding of slurry liquid. - 特許庁

浮出しマークの表面形状が極端に変化したときであっても、削り込み精度を格段に向上させ、手直しが不要で生産能率を向上させることができ、また、砥石の細かな動きを可能にして研削精度を向上させることができるタイヤ研磨装置を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a tire polishing device which can largely improve grinding accuracy even if the surface shape of an embossed mark is extremely changed, thereby improving production efficiency needing no correction, and also can improve grinding accuracy by enabling fine movement of a grinding wheel. - 特許庁

作業者の癖や技能の熟練度を必要とすることなく初心者でも容易にソーチェン切刃の目立て・研磨作業が行えると共に、グラインダ装置によって労力負担の軽減と作業時間の短縮を可能とするソーチェン切刃の目立て・研磨装置の提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a dressing and grinding device for a saw chain cutting edge which facilitates setting/grinding work of the saw chain cutting edge even by a beginner without requiring peculiarity of a worker and technical skill and reduces labor burden and shortens a working time by the grinder device. - 特許庁

磁気歯車装置１は、複数の第１歯車５と、複数の磁石環６と、複数の第１歯車５及び複数の磁石環６が固定される第１の回転軸３と、複数の第２歯車７と、複数の第２歯車７が固定される第２の回転軸４を備えている。例文帳に追加

This magnetic gear device 1 includes a plurality of first gears 5, a plurality of magnet rings 6, a first rotary shaft 3 for fixing the plurality of first gears 5 and the plurality of magnet rings 6, a plurality of second gears 7 and a second rotary shaft 4 for fixing the plurality of second gears 7. - 特許庁

ケース側装着部に装着可能なユニットを装着した状態で、装着不可ユニットの誤装着を防止することができる電磁接触器用装着ユニット及びこれを使用した電磁接触器の連結構造を提供する。例文帳に追加

To provide a mounting unit for an electromagnetic contactor, along with a connection structure of an electromagnetic contactor using the same, which prevents wrong mounting of an unmountable unit under the condition where a mountable unit is being mounted on a case-side mounting part. - 特許庁

反転させた状態のまま、外枠１と中子４０をローラー台６０の上に置き、それから、一対の割型２，２’を割り面１０で離間して外枠１を分割し、外枠１を中子４０から分離して中子を取り出すこととした。例文帳に追加

In the reversed state as it is, the outer frame 1 and the core 40 are placed on a roller stand 60, then, a pair of split molds 2, 2' are separated at a split face 10 to split the outer frame 1, the outer frame 1 is separated from the core 40, and the core is discharged. - 特許庁

遊技球揚送研磨装置に粉状の帯電防止剤を投入するに際して、固まり易い性質の帯電防止剤であっても、排出口付近に偏って滞留したりすることなく、安定した量の帯電防止剤を排出させることができる帯電防止剤投入装置を提供する。例文帳に追加

To provide an antistatic agent charging device for discharging a stable amount of antistatic agent without allowing even an antistatic agent which is easily coagulated, to unevenly stay in the neighborhood of a discharge port when charging a powdery antistatic agent into a game ball lifting and polishing device. - 特許庁

誤装填によって厚みセンサー４１の検知バー４２が段落ち面１９に外接した場合には、検知バー４２をガイド面２３で基準面１８へ向かって乗り上げ案内して、検知バー４２が段壁に引っ掛かるのを解消する。例文帳に追加

When a detection bar 42 of a thickness sensor 41 is contacted on the step falling surface 19 by mis-loading, the detection bar 42 is guided to run on the guide surface 23 toward the reference surface 18 so as to prevent the detection bar 42 from being caught by a step wall. - 特許庁

変速歯車装置１は、内歯歯車１１が形成されたハウジング１０と、入出力軸線Ｌｏ方向に連設され、同一の内歯歯車１１と噛合し入力軸から出力軸への回転を変速する複数の変速ユニット３１，３２と、を備える。例文帳に追加

The speed change gear 1 includes a housing 10 on which internal gears 11 are formed and a plurality of change gear units 31, 32 which are provided continuously in the direction of an input/output axis Lo, and are in mesh with the same internal gears 11 to change the speed of rotation from an input shaft to an output shaft. - 特許庁

自車両の車線幅方向横位置が予め設定した自車両に対する接近防止の指標となる車線幅方向横位置である制御開始位置となった場合、制御開始と判定して自車走行車線の中央側へ向かうヨーモーメントを自車両に付与して自車両を制御する。例文帳に追加

When the lane-width-direction lateral position of a vehicle reaches a control start position that is a lane-width-direction lateral position used as an indicator for prevention of approach to the vehicle, the start of control is determined, and the vehicle is controlled by applying a yaw moment that acts toward the center of the traveling lane thereof to the vehicle. - 特許庁

車体フレームＦに軸受部ＢＬ、ＢＲにて回転自在に支持された車軸４をその車軸軸心方向に押圧移動させる車軸移動操作手段Ｇ、及び、車軸４に外嵌装着された車輪２を車軸軸心方向への移動を阻止するように支持する車輪支持手段Ｈを備える。例文帳に追加

The exchange device for the vehicle includes: an axle movement operation means G for pressing/moving the axle 4 rotatably supported on a vehicle body frame F by bearing parts BL, BR in an axis direction of the axle; and a wheel support means H for supporting the wheel 2 externally fitted/attached to the axle 4 so as to suppress movement in the axis direction of the axle. - 特許庁

付与液の物性の変化や装置内の洗浄不足による不具合を回避するとともに、装置各部の動作異常や液の誤装填が防止され、液の安定した付与が実現される液供給装置及び塗布装置、並びにこれを用いた画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid supply device and applying device in which failures due to the change of the physical properties of a liquid to be applied or the cleaning insufficiency of the inside of the device are avoided, abnormal operation of each part of the device or misloading of a liquid is prevented and the liquid is stably applied and an image forming device using the same. - 特許庁

装置内の洗浄不足による不具合を回避するとともに、装置各部の動作異常や液の誤装填が防止され、液の安定した付与が実現される液供給装置及び液付与装置、並びにこれを用いた画像形成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid supply device and applying device in which failures due to the change of the physical properties of a liquid to be applied or the cleaning insufficiency of the inside of the device are avoided, abnormal operation of each part of the device or misloading of a liquid is prevented and the liquid is stably applied and an image forming device using the same. - 特許庁

石製またはセラミック製のドーム状に形成した焼き窯１１を備えて成る食品用焼き窯装置１であって、焼き窯１１の内面に、横配列の複数の凹凸部による熱との接触面積を増やすことが可能な熱交換率向上手段１６を設ける。例文帳に追加

In the oven apparatus 1 for foods equipped with oven 11 made of stone or ceramics and formed in dome-like shape, a heat exchange ratio-improving means 16 capable of increasing a contact area with heat by a plurality of laterally arranged uneven parts is provided on the inner surface of the oven 11. - 特許庁

光ファイバコネクタに固定された光ファイバアレイの全ての端面が同一面となるように研磨加工を行なう時間短縮ができ、かつ平行移動機構の精度出しを不要とすることで研磨工数の低減がなされた高精度の光ファイバアレイ研磨装置の提供。例文帳に追加

To provide an optical fiber array polishing device of high precision capable of shortening the time to polish an optical fiber array fixed to an optical fiber connector so as to make all end faces thereof flush with each other and reducing polishing man-hours by dispensing with raising the precision of a parallel movement mechanism. - 特許庁

すべての玉を内外輪間にスムーズに挿入することができ、また、玉挿入後に内外輪の中心を合わせやすいように玉を強制的に配列できる玉軸受の組立方法及び組立装置、並びにその方法を用いた玉軸受を提供する。例文帳に追加

To provide an assembly method and an assembly device of a ball bearing capable of smoothly inserting all balls between inner and outer rings, and of forcibly arranging the balls to easily align the centers of the inner and outer rings after ball insertion; and a ball bearing using the method. - 特許庁

研磨装置１は、カラーフィルタ基板５が搬送ベルト３によって搬送されて研磨テーブル２上を通過する際に、研磨部材４６を偏心軸４２回りに偏心回転された状態でカラーフィルタ基板５の表面に研磨部材４６を加圧接触させて研磨を行う。例文帳に追加

This polishing device 1 polishes the color filter substrate 5, by pressingly bringing the polishing member 46 into contact with the surface of the surface of the color filter substrate, while the polishing member 46 is eccentrically rotated around an eccentric shaft 42, when the color filter substrate 5 is conveyed by a conveyor belt 3 and passes through a polishing table 2. - 特許庁

パッキン輪５は、収容部２０の奥側に嵌装される基部５１と、収容部２０の手前側に収容されるシール部５２と、基部５１とシール部５２とを連結し、外周側に切欠溝５４が形成された連結部５３とを有する。例文帳に追加

The packing ring 5 includes a basal portion 51 inserted into the depth of the housing portion 20, a seal 52 housed in the front side of the housing portion 20, and a coupling section 53 which couples the basal portion 51 and the seal 52 together and is formed with a cutout groove 54 in its periphery. - 特許庁

この種子を多量の水あるいは、うすい食塩水でよく洗浄して、脱水し、湿ったまま、相当期間凍結して春化処理をした後、すばやく乾燥して、充分乾燥して、適温に保存して、環境変異を固定化した栽培植物の種苗に供する。例文帳に追加

The collected seeds are washed well with a large amount of water or diluted aqueous sodium chloride solution, dehydrated, performed with a vernalization treatment by freezing for a prescribed period as they are still wet, dried quickly and sufficiently, preserved under a suitable temperature, and provided for growing the seedlings of the cultivated plant fixing the environmental mutation. - 特許庁

ローラピース７０を、略環状の芯体７８と、この芯体７８の外周面に被覆成形され、外周面に突起６９が複数配列された弾性層７９と、被覆成形された弾性層７９及び芯体７８を接着するプライマ層（図示せず）とから構成する。例文帳に追加

The roller piece 70 comprises a roughly annular core 78, an elastic layer 79 formed by covering the outer peripheral surface of the core 78, and having a plurality of projections 69 arranged on the outer peripheral surface thereof, and a primer layer (not shown) adhering the coveringly formed elastic layer 79 to the core 78. - 特許庁

通信機１６により、外界センサを有する自車以外の通信機搭載車の位置情報と、その通信機搭載車の外界センサが検出した通信機非搭載車の情報とを受信し、これらの情報と自車走行状態に基づいて自車両の走行支援制御を行う。例文帳に追加

This travel support device receives position information of a communication device loading vehicle except the own vehicle having an outside world sensor, and information of a communication device non-loading vehicle detected by the outside world sensor of the communication device loading vehicle, and performs the travel support control of the own vehicle on the basis of the information and a one's own vehicle travel state. - 特許庁

薄状にしても容易に破断することなく、また、研磨の際に伸びが生じて研磨能力が低下したり、捩れが生じて研磨に支障をきたす恐れがない研磨部材を適用した遊技媒体研磨装置を提供すること。例文帳に追加

To provide game medium polishing equipment using a polishing member which is not broken easily in spite of thin-thickness and which is free from the fear of deterioration of polishing ability due to the occurrence of extension in the case of polishing and from occurrence of a fault in polishing as the result of distortion. - 特許庁

誤装填によって厚みセンサー４１の検知バー４２が段落ち面１９に外接した場合には、検知バー４２をガイド面２３で基準面１８へ向かって乗り上げ案内して、検知バー４２が段壁に引っ掛かるのを解消する。例文帳に追加

When a detection bar 42 of a thickness sensor 41 is circumscribed on the step-down surface 19 due to incorrect loading, the detection bar 42 is guided so as to ride on the guide surface 23 toward the reference surface 18 so that the detection bar 42 is prevented from being hooked at a step wall. - 特許庁

研磨装置１００には、半導体ウェハ１０を回転させながら保持するチャックテーブル１３１と、半導体ウェハ１０のエッジ部１１が所定の角度θ２で研磨面１１２Ａに当接するように、チャックテーブル１３１を移動させる押付用シリンダ１７０とが備えられている。例文帳に追加

The polishing machine 100 is equipped with a chuck table 131 which retains a semiconductor wafer 10 while causing it to turn, and with a pushing cylinder 170 which causes the chuck table 131 to move so that an edge portion 11 of the semiconductor wafer 10 be brought into contact with the grinding face 112A at a predetermined angle of θ2. - 特許庁

Ａｌめっき鋼板を塗装原板とし、フルオロアシッド系の化成皮膜，リン酸系防錆顔料を含むプライマ層を介し、熱溶融性フッ素樹脂を配合した耐熱樹脂塗料から成膜されたトップ塗膜が積層されている。例文帳に追加

An Al plated steel sheet is used as a coated raw sheet and a topcoating film, which is formed of heat-resistant resin coating compounded with a thermally meltable fulorocarbon resin, is laminated on the Al plated steel sheet through a fluoroacid type conversion coating and a primer layer containing a phosphate type rustproof pigment. - 特許庁

メンブレン（弾性膜）が破損して圧力室にリークが生じた場合や、基板とメンブレン（弾性膜）との間で気密が保たれずにリークが生じた場合に、このリークを速やかに検知することができる基板保持装置及び該基板保持装置を備えた研磨装置を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate holding device and polish equipment provided with the substrate holding device which can detect leak quickly when a membrane (elastic film) is damaged and the leak is caused in a pressure room, or when airtight is not maintained between a substrate and the membrane (elastic film). - 特許庁

十分な研磨速度が得られ、且つ被研磨面に傷が付くことがない半導体装置の製造に用いる化学機械研磨用水系分散体、及びこの水系分散体によって被加工膜を研磨し、半導体装置を製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide an aqueous dispersion that can attain a sufficient polishing speed and is useful for polishing chemical machines to be used in the production of semi-conductor devices without scratch and provide a method for producing semi-conductor devices by polishing the membranes to be processed with this aqueous dispersion. - 特許庁

研磨装置ＣＭＰは、ウエハＷを保持するウエハ保持装置１２と、研磨パッド２とを備えて構成され、研磨パッド２をウエハ保持装置１２に保持されたウエハＷに当接させながら両者を回転移動させてウエハＷの被研磨面の研磨を行う。例文帳に追加

A polishing device CMP comprises the wafer holder 12 for holding the wafer W, and the abrasive pad 2, and polishes a polished surface of the wafer W by pressing the abrasive pad 2 against the wafer W held by the wafer holder 12 and at the same time rotatively moving them both. - 特許庁