「まそお」に関連した英語例文の一覧と使い方(115ページ目) - Weblio英語例文検索

画像形成装置用クリーニングブレード２２は、ＸＮＢＲおよび／またはＨＸＮＢＲを７０質量％以上の割合で含むゴム分と、架橋剤と、前記ゴム分の総量１００質量部あたり２０質量部以上で、かつＸＮＢＲおよび／またはＨＸＮＢＲの量の４５質量％以下の酸化亜鉛とを含むエラストマ組成物を用いて形成した。例文帳に追加

The cleaning blade 22 for the image forming device is formed by using an elastomer composition including a rubber portion containing XNBR and/or HXNBR at the rate of 70 mass% or more, a crosslinking agent, and zinc oxide as much as 20 pts.mass or more per 100 pts.mass of the rubber portion in total and 45 mass% or less of the amount of XNBR and/or HXNBR. - 特許庁

支持装置１と基台１１との間を仕切る前記仕切部材２１には、少なくとも支持軸１２が挿通可能な大きさの孔２２が設けられ、その孔２２に挿通された前記支持軸１２の軸方向前端に設けた前記回転砥石１３を、前記駆動装置１４からの駆動力によって回転させ、その回転砥石１３を被研磨物（Ａ）に宛がって研磨処理を施す研磨装置とした。例文帳に追加

A hole 22 of a size allowing insertion of at least the support shaft 12 is provided in the partition member 21 partitioning the support device 1 and the base 11, the rotary grinding wheel 13 provided on the axial front end of the support shaft 12 inserted through the hole 22 is rotated by driving force from the driving device 14, and the rotary grinding wheel 13 is pressed against an object (A) to be polished to apply polishing. - 特許庁

ボトルを搬送する上流側コンベア１１及び下流側コンベア１２と、上流側コンベア１１及び下流側コンベア１２によって搬送されてくるボトルのラベル被嵌装置２への供給タイミングを調整するスクリュー１３Ａ、１３Ｂとを備えており、スクリュー１３Ａ、１３Ｂは、独立したサーボモータによって駆動されるようになっている。例文帳に追加

The article supply system is equipped with an upstream side conveyor 11 and a downstream side conveyor 12 conveying bottles, and screws 13A, 13B which adjust a supply timing to a label fitting device 2 of the bottle conveyed by the upstream side conveyor 11 and the downstream side conveyor 12, and the screws 13A, 13B are driven by an independent servo motor. - 特許庁

ヒータツール１０の有機汚染物付着面１２に炭酸ガスレーザー２０を照射して有機汚染物を加熱し炭化する第一段階の処理工程と、ii）大気圧プラズマ装置３０がプロセスガスを励起して射出するプラズマを、有機汚染物の付着面１２に導き、炭化した有機汚染物を除去する第二段階の処理工程、とを有する。例文帳に追加

The method includes: a treatment step at the first stage of heating and carbonizing organic contaminations by irradiating an organic contamination adhesion face 12 of a heater tool 10 with carbon dioxide gas laser 20; and a treatment step at the second stage of introducing plasma, which an atmospheric pressure plasma apparatus 30 excites processing gas to inject, onto the adhesion face 12 of the organic contaminations to remove carbonized organic contaminations. - 特許庁

磁気ディスク用基板の研磨装置において、上定盤２０の上下動を、コラム６３に対するスライダ６２の上下動と、スライダ６２に対する上定盤支軸６１の上下動との二段階で行い、スライダ６２と上定盤支軸６１との間で磁気ディスク用基板の厚さ測定を行う。例文帳に追加

In this device, a vertical movement of an upper polishing plate 20 is performed by two steps of a vertical movement of a slider 62 in relation to a column 63 and a vertical movement of an upper polishing plate spindle 61 in relation to the slider 62, and the thickness measurement of the substrate for the magnetic disk is performed between the slider 62 and the upper polishing plate spindle 61. - 特許庁

研磨対象物をアルミニウムディスク、シリカを表面に有する基板のシリカ、並びに半導体多層配線基板のアルミニウム又は銅配線とする、水、砥粒、表面改質材、及び研磨促進剤を含む研磨用組成物において、表面改質材が、０．１〜５μｍの平均粒子径を有する、ノイブルグ珪土又はカオリン族粘土鉱物であることを特徴とする研磨用組成物を調製すること。例文帳に追加

A polishing composition containing water, abrasive grains, surface reforming material, and a polishing promoting agent is designed to polish an aluminum disc, a board having silica at the surface, and aluminum or copper wirings of a semiconductor multi-layer wiring board, wherein the surface reforming material consists of Neuburg silica or kaolin series clay mineral having a mean particle size of 0.1-5 μm. - 特許庁

水を含んだ砂又は砂利をそのまま装置に投入して広く粒度別に離することができ、しかも短時間で且つ自動運転により測定でき、現場において連続して使用することもでき、従来のふるいによる測定値との誤差も最小限に押さえることのできる砂又は砂利の粒度分布を測定する測定方法及び測定装置を提供。例文帳に追加

To provide a measuring method and a measuring device for measuring grain size distribution of sand or gravel, allowing sand or gravel to be thrown in the device as it contains water, capable of widely separating it according to its grain size, capable of measuring the grain sizes in a short time by an automatic operation, being used continuously at a job site, and minimizing deviations from measured values by conventional sieves. - 特許庁

フッ素系アルコール及び水を含有する混合物からフッ素系アルコールを回収する方法において、(i)フッ素系アルコール及び水の混合物を蒸留して水を共沸又は共沸様組成として分離することによりフッ素系アルコールを回収する方法、並びに、(ii)パーベーパレーション法により水を分離することによりフッ素系アルコールを回収する方法。例文帳に追加

This method for recovering the fluorine-based alcohol from the mixture containing the fluorine-based alcohol and the water comprises (i) a method for recovering the fluorine-based alcohol by distilling the mixture comprising the fluorine-based alcohol and the water to remove the water as an azeotropic or an azeotrope-like composition, and (ii) a method for recovering the fluorine-based alcohol by separating the water by a pervaporation. - 特許庁

カバー部材５と、該カバー部材５に貫装された回転軸７との間における当該貫装部分５２のシール構造であって、前記カバー部材５が合成樹脂の成型体からなり、前記回転軸７にはシール部材８が相対回転可能に嵌装され、該シール部材８と前記貫装部分５２におけるカバー部材５との間には弾性緩衝部材９が結合介在されていることを特徴とする。例文帳に追加

A seal structure for the penetrating portion 52 between a cover member 5 and a rotary shaft 7 penetrating the cover member 5 includes the cover member 5 formed of synthetic resin-made molding, with a seal member 8 relatively rotatably fitted in the rotary shaft 7, and an elastic buffer member 9 bonded between the seal member 8 and cover member 5 on the penetrating portion 52. - 特許庁

本発明によれば、このようなタイプのリベット・セッティング装置を空気圧および／またはハイドロリック方式でも操作可能にするため、駆動部にピストン・シリンダ手段を含む空気圧および／またはハイドロリック・リニア・ドライブを備え、かつ歯車装置がピストン・シリンダ手段の線形運動を少なくとも一時的にロールの回転運動に変換するために設けられる。例文帳に追加

By this arrangement, the pneumatic and/or hydraulic linear drive including a piston-cylinder means is arranged to the drive part 5 so that this type rivet setting device is made operatably by a pneumatic and/or hydraulic method, and further, a gear device 6 is arranged so as to at least transiently convert the linear motion of the piston- cylinder means 5 into the rotary motion of a roll. - 特許庁

半導体デバイス又は前駆体の表面を研磨するための、及び半導体ウェハ上の金属ダマシン構造を平坦化するための研磨パッドにおいて、パッドの研磨層は、約４０〜７０ショアＤの硬度、約１００〜２，０００MPaの４０℃での引張弾性率、及び約１〜５の３０℃−９０℃でのＥ′の比を有する。例文帳に追加

In the polishing pad for polishing a surface of a semiconductor device or a precursor thereto, and for planarizing metal damascene structures on a semiconductor wafer, a polishing layer of the pad has a hardness of about 40-70 Shore D, a tensile modulus of about 100-2,000 MPa at 40°C, and an E' ratio at 30-90°C of about 1-5. - 特許庁

カバー部材５と、該カバー部材５に貫装された回転軸７との間における当該貫装部分５２のシール構造であって、前記回転軸７にはシール部材８が相対回転可能に嵌装され、該シール部材８と前記貫装部分５２におけるカバー部材５との間には、シール部材８に同心的に外嵌一体とされた金属環９が介在されていることを特徴とする。例文帳に追加

A seal structure for the penetrating portion 52 between a cover member 5 and a rotary shaft 7 penetrating the cover member 5 includes a seal member 8 relatively rotatably fitted in the rotary shaft 7 with a metal ring 9, which is concentrically externally fitted and integrated with the seal member 8, interposed between the seal member 8 and cover member 5 on the penetrating portion 52. - 特許庁

スラリーを供給しながらワークを研磨パッドに接触させて研磨する研磨装置における研磨パッドのドレッシング装置３０であって、研磨パッド上に配設され、回転自在となっている円盤状のパッドドレッサー２２を有しており、パッドドレッサー２２の研磨パッドと接する面の表面を凹形状又は凸形状とする。例文帳に追加

This dressing device 30 of the polishing pad on a polishing device polishes a work by making it contact with the polishing pad while supplying slurry and has a disc type pad dresser arranged on the polishing pad and free to rotate, and a surface of a face to make contact with the polishing pad of the pad dresser 22 is recessed or protruded. - 特許庁

大面積の母基板上に製作された液晶パネルを個別的な単位液晶パネルに切断した後、単位液晶パネルのエッジを研磨することにおいて、単位液晶パネルの多様なサイズに対応し得る液晶パネルの研磨台及び該研磨台を利用した研磨装置を提供しようとする。例文帳に追加

To provide a grinding table for a liquid crystal display panel capable of coping with the various sizes of a unit liquid crystal display panel, in grinding the edge of the unit liquid crystal display panel after the liquid crystal display panel manufactured on a large area mother substrate is cut into unit liquid crystal display panels and a grinding apparatus utilizing the grinding table. - 特許庁

遊星歯車装置１３は、トランスアクスルケースに組込む際、天地を反転させたとき、ハブ部１７Ａとフランジ部２９との隙間が大きくなるが、スラストベアリング３２のインナレース及びアウタレースは、それぞれ外周面３３及び凸部３４によって位置決めされるので、位置ずれすることがない。例文帳に追加

The planetary gear device 13 is not displaced since the inner race and the outer race of the thrust bearing 32 are respectively positioned by the outer peripheral surface 33 and the projection part 34, though a clearance between the hub part 17A and the flange part 29 becomes large, when reversing a head and a tail, when incorporated into a trans-axle case. - 特許庁

研磨装置はワークとしての複数の円板状をなす基板４１を所定間隔をおいて回転可能に支持する支持部１１と、基板４１の間に位置するように所定間隔おきに回転可能に支持された複数の研磨体２２を有する研磨部２１と、研磨体２２に研磨液を供給する研磨液供給部３１とから構成されている。例文帳に追加

This polishing machine comprises a support part 11 rotatably supporting a plurality of disc substrates 41 as works at regular intervals; a polishing part 21 having a plurality of polishing members 22 rotatably supported, so as to be positioned between the substrates 41 at regular intervals; and a polishing liquid feeding part 31 feeding a polishing liquid to the polishing members 22. - 特許庁

本発明では、研磨部材２５をウェハ１０の被研磨面１１に当接させてウェハ１０の研磨を行う研磨装置１において、研磨プロファイルがウェハ１０に対する研磨時間に拘わらず一定となるように、設定された研磨時間に応じて研磨条件を自動的に設定変更する研磨条件設定部４２を備えて構成される。例文帳に追加

The polishing device 1 for polishing a wafer 10 by bringing a polishing member 25 into contact with the polished surface 11 of the wafer 10 comprises a polishing conditions setting section 42, for automatically altering the setting of polishing conditions depending on a set polishing time such that the polishing profile becomes constant regardless of the polishing time for the wafer 10. - 特許庁

風車軸に連結された複数個の翼に空気流を作用させて回転力を得るように構成された風車装置において、前記翼は、単一体にて形成されるとともに該翼の単体状態において少なくとも翼長方向線を湾曲させて渦巻き状に巻回可能となるような可撓性を有してなることを特徴とする。例文帳に追加

In a windmill device constructed to obtain rotating force by making air flow acting on plural vanes connected to a windmill axle, the vane is formed as a single body and has flexibility allowing to wind up the individual vane in a swirl shape by bending at least a vane longitudinal direction line. - 特許庁

極めて高い面精度（表面粗さ）を有し、従来必要とされたポリッシュ工程のための時間を大幅に短縮するか、或いはゼロとして、ガラス基板ディスク内、外周の端面仕上げ及び端面面取り作業のための研磨時間を短縮し、且つ、製造コストを低減することのできる研磨方法及び研磨装置を提供する。例文帳に追加

To provide extremely high facial precision (surface roughness), shorten time for polish process required conventionally greatly or make it zero, shorten polishing time for end face finish and end face chamfering works of inner and outer peripheries of a glass substrate disc, and reduce manufacturing cost. - 特許庁

無機系塗料およびそれを利用したガラス容器の加飾方法において、無機系塗料を、熱膨張係数が１×１０^-6〜１×１０^-4／℃の範囲内の値であって、平均粒径が０．０１〜３ｍｍの範囲内の値であるガラス粒子から構成し、それをガラス容器用火炎研磨装置の火炎を利用してガラス容器表面に対して加飾する。例文帳に追加

In the inorganic coating material and the method of decorating the glass vessel using the same, the inorganic coating material is composed of the glass particle having 1×10^-6-1×10^-4 thermal expansion coefficient and 0.01-3 mm average particle diameter and the surface of the glass vessel is decorated by utilizing flame in a flame polishing apparatus for glass vessel. - 特許庁

車両進行路推定装置１は、推定進行路演算全体処理を実行することで、少なくとも自車両からの距離、自車両からの車間時間、自車速度、進行路前方道路形状データの道路曲率変化量のいずれかに応じて、補正重みおよび補正量上限値の少なくとも一方を設定する。例文帳に追加

This vehicle advancing route estimation system 1 executes the whole estimated advancing route computing processing to set at least one out of a correction weight and a correction upper limit value, in response to at least one of a distance from own vehicle, an intervehicular time from the own vehicle, an own vehicle speed, and a road curvature variation of an advancing route front road shape data. - 特許庁

基板をＣＭＰ法で研磨するための研磨用スラリーを、遠心ポンプを使用して基板研磨装置に供給する研磨用スラリー供給装置において、研磨用スラリーに気泡が混入した場合においても、気泡を研磨用スラリーから分離し、気泡を含まない研磨用スラリーを安定的かつ恒常的に遠心ポンプに供給し、遠心ポンプを安定して運転できるようにする。例文帳に追加

To consistently and constantly feed polishing slurry not including any bubble, and to stably operate a centrifugal pump by separating bubbles from the polishing slurry even if bubbles are mixed in the polishing slurry, in a polishing slurry feeder for feeding the polishing slurry for polishing a substrate by a CMP (Chemical Mechanical Polishing) method to a substrate polishing apparatus by using the centrifugal pump. - 特許庁

エアインテークホースに膨張及び曲げによる扁平化が生じても、そのような膨張及び曲げによる扁平化に対応出来るような強度及び柔軟性を有し、リングを形成させる接続部材からリングを形成する線材が引抜かれる際の耐引抜強度が優れ、且つ嵌装対象のエアインテークホースの外周面を傷つけることの無いホース補強用リングの提供。例文帳に追加

To provide a hose reinforcing ring, having strength and flexibility coping with flattening due to expansion and bending even if flattening due to expansion and bending is caused in an air intake hose, having excellent drawing resistance in drawing a wire material for forming a ring from a connecting member forming the ring, and preventing damage of the outer peripheral surface of the air intake hose as a fitting object. - 特許庁

証券用紙が搬送される過程において、研摩装置９を構成するバフローラ９−１はバフソレノイド９−２によって上方へ移動し、その表面が用紙面に軽く触れ立てよう紙面に軽く触れている状態において、バフモ−タ９−３の３の駆動によって回転し、ＭＩＣＲ文字印刷面を研摩し、その平面を平滑化する。例文帳に追加

In the process of carrying the bonding papers, a puff roller 9-1 constituting a grinding device 9 is moved upward by a puff solenoid 9-2, and in the state in which its surface is brought into contact lightly with a paper surface, the puff roller is rotated by driving a puff motor 9-3 to grind the MICR character printed face and smooth its plane. - 特許庁

この排気浄化装置は、排気中の水濃度及び排気温度を検出する検出手段と、検出された排気中の水濃度と排気温度とに応じて、排気通路２０に配置されたプラズマ装置２６を作動させる交流電圧の周波数又は電圧の少なくともいずれか一つを制御する制御手段と、を具備することを特徴とする。例文帳に追加

The exhaust emission control device is characterized by that it is provided with a detecting means detecting a water concentration in exhaust and an exhaust temperature, and a control means controlling at least one of a frequency or a voltage of an alternating voltage for operating a plasma device 26 arranged in the exhaust passage 20 in accordance with the detected water concentration in the exhaust and the exhaust temperature. - 特許庁

支持フレーム１０とセパレータ３との間に絶縁性ガスケット４を狭装し、これらの間をシールするとともに絶縁する絶縁シール構造について、絶縁性ガスケット４を、絶縁材料を主成分とする材質からなるコア部１７と、コア部１７の表面および裏面に形成されて支持フレーム１０およびセパレータ３にそれぞれ当接する金属被覆部１８と、を備えるものとして構成した。例文帳に追加

In the insulation sealing structure interposing an insulating gasket 4 between a supporting frame 10 and a separator 3 to seal and insulate them, the insulating gasket 4 is composed of a core 17 made of a material with an insulation material as a main component, and metal coating parts 18 formed on the surface and the rear face of the core 17 abutting on the supporting frame 10 and the separator 3, respectively. - 特許庁

研磨領域９及び光透過領域１０からなる研磨層の片面に少なくとも透明支持フィルムが積層されている研磨パッド８において、少なくとも光透過領域及び透明支持フィルム１１を含む光学的検知領域の光透過率が、波長３００〜４００ｎｍの全範囲で４０％以上であることを特徴とする研磨パッド。例文帳に追加

This polishing pad 8 laminated with a transparent support film on at least one side of a polishing layer consisting of the polishing area 9 and the light transmission area 10, is characterized in that a light transmittance of the optical detection area including at least the light transmission area and the transparent support film 11 is 40% or more in the whole area of the wavelength of 300-400 nm. - 特許庁

自転車用の前輪懸架装置１０において、左右フロントフォーク２０の先端軸支部２１のそれぞれにおける、支持軸２３と、揺動アーム３０の軸孔３２との間で、弾性体４０の少なくとも一端側に環状リング５０を嵌装し、左右の環状リング５０にて、車軸３４のこじり方向の動きを規制するもの。例文帳に追加

This front wheel suspension device 10 for the bicycle regulates the movement in the wrench direction of a wheel shaft 34 by left-right annular rings 50, by fitting the annular rings 50 on at least one end side of the elastic body 40 between a support shaft 23 and a shaft hole 32 of the rocking arm 30 in respective tip journaling parts 21 of the left-right front forks 20. - 特許庁

摩損度、顆粒硬度が十分高いレベルに改善され、真球度が高く、その表面に生理活性物質等を被覆して製剤に応用した場合に該製剤における該生理活性物質の放出制御性に優れた高品質の球形顆粒、及び、該球形顆粒を効率的かつ簡便に製造することができる方法の提供。例文帳に追加

To provide high quality spherical granules which are improved in abrasion degree and granular hardness to sufficiently high level, high in sphericity, and superior in release control property of physiologically active substance of the preparation when the physiologically active substance or the like is applied to the surface of the granule to form preparation, and its manufacturing method efficiently and simply manufacturing the spherical granules. - 特許庁

（Ａ）研磨材、（Ｂ）有機酸、（Ｃ）酸化剤、（Ｄ）酸化防止剤（Ｅ）研磨速度調節剤および（Ｆ）水からなり、研磨材が、フュームドシリカ、コロイダルシリカ、フュームドアルミナ、およびコロイダルアルミナのうち少なくとも１種類からなる無機粒子が有機樹脂で被覆された粒子からなる研磨用組成物である。例文帳に追加

The polishing composition is one comprising (A) an abrasive, (B) an organic acid, (C) an oxidizing agent, (D) an antioxidant, (E) a polishing rate modifier, and (F) water, wherein the abrasive comprises particles prepared by coating inorganic particles comprising at least one member selected from among fumed silica, colloidal silica, fumed alumina, and colloidal alumina with an organic resin. - 特許庁

この研磨装置においては、ウエハ保持装置１２が揺動支持機構２０を介して回転シャフト１１により揺動自在に支持されており、揺動支持機構２０により支持されたウエハ保持装置１２の揺動中心が、揺動支持機構２０から下方に離れて被研磨面の側の任意の位置に設定可能である。例文帳に追加

In the polishing device, the wafer holder 12 is supported for oscillation on a rotary shaft 11 via an oscillating support mechanism 20, and the center of oscillation of the wafer holder 12 supported by the oscillating support mechanism 20 is settable in an arbitrary position on the polished surface side apart down from the oscillating support mechanism 20. - 特許庁

ドレッサーの交換時の研磨パッドのパッドカットレートを一定に保ちドレッサーの固体差による研磨レート及び研磨プロファイルのバラツキを防止することができ、研磨パッドに影響を及ぼすことなくドレッサーの慣らしを行うことができる研磨パッドのドレッシング方法、研磨パッドのドレッシング装置、基板研磨装置、及び基板研磨方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method and apparatus for dressing a polishing pad, a substrate polishing apparatus, and a substrate polishing method capable of constantly keeping a cutting rate of the polishing pad at the replacement of a dresser, preventing variations of a polishing rate and a polishing profile by individual differences of dressers, and pre-conditioning the dresser without affecting the polishing pad. - 特許庁

タンタル酸リチウムあるいはニオブ酸リチウム等の酸化物単結晶基板の精密研磨加工において、被研磨物表面に表面欠陥を生じさせること無く、研磨速度を向上し得る研磨液組成物及び該研磨液組成物を用いた研磨方法、表面品質に優れた酸化物単結晶基板を提供すること。例文帳に追加

To provide a polishing liquid composition which can make a polishing speed faster without generating surface defects on a polished body surface, a polishing method using the polishing liquid composition, and an oxide single- crystal substrate which has superior surface quality for a precise polishing process for the oxide single-crystal substrate of lithium tantalate or lithium niobate. - 特許庁

遊技球を搬送ベルトで揚送しながら案内レールに固定された研磨布に擦りつけて磨く遊技球揚送研磨装置において、前記搬送ベルトの上昇面の研磨布と反対側にその搬送ベルトを研磨布方向に弾力的に押圧するテンションローラを上下方向に隔てて複数個設けた。例文帳に追加

In a game ball pumping and polishing device which rubs and polishes game balls against a polishing cloth fixed to a guide rail while pumping up the game balls with a conveying belt, a plurality of tension rollers which flexibly press the conveying belt towards the polishing cloth are vertically divided and attached in the opposite side of the polish cloth of the rising surface of the conveying belt. - 特許庁

このトロイダル型無段変速機の変速制御装置においては、変速比制御弁１１２は、正転用および逆転用が２つ存在し、共通の１つのステッピングモータ１１３によりリンク機構２００を介して軸方向に変位させられるスリーブと、このスリーブ内に軸方向に変位自在に嵌装されるスプールとを有する。例文帳に追加

The shift control device for the toroidal type continuously variable transmission, where two speed ratio control valves 112 for normal rotation and reverse rotation exist, includes a sleeve to be displaced via a link mechanism 200 in the axial direction by one common stepping motor 113, and a spool fitted into the sleeve displaceably in the axial direction. - 特許庁

統合在庫管理サーバー１０は、購買部門コンピュータ１４、生産者コンピュータ１６、輸出者コンピュータ１８、荷送側コンピュータ２０、荷受側コンピュータ２２、港頭倉庫コンピュータ２４、およびセンター倉庫コンピュータ２６から夫々送信されてきた情報を、互いに関係付けて在庫管理データベース１０ａに登録する。例文帳に追加

An integrated inventory control server 10 registers information transmitted respectively from a purchase section computer 14, a producer computer 16, an exporter computer 18, a load sending side computer 20, a load receiving side computer 22, a harbor warehouse computer 24 and a center warehouse computer 26, in the mutually related state in an inventory control database 10a. - 特許庁

層間絶縁膜や金属配線等の、半導体デバイスウエハの表面平坦化加工用研磨パッドとして用いられる研磨パッドにおいて、研磨性能の改善をはかるためのもので、研磨速度と面内の均一性のバランスが取れており、また研磨性能の経時変動の小さい溝付き研磨パッドを提供する。例文帳に追加

To provide a polishing pad with grooves to be used for polishing a semiconductor device wafer for an interlayer insulation film and metal wiring for flattening its surface, in which polishing performance can be improved, in which polishing speed and uniformity in the surface can be balanced, and in which aging fluctuation of polishing performance is small. - 特許庁

追加的なロータ軸受部および摩損する保護手段の導入を回避しても、電気機械が、駆動部の駆動軸の曲げ振動の影響下でさえ確実な稼動を行うように、ステータ及びこのステータに同軸でトルク伝達のために駆動軸と作用接続されているロータを有する電気機械を改善する。例文帳に追加

To improve an electrical machine including a stator and a rotor which is coaxially provided to the stator and coupled with a drive shaft for transfer of torque so that the electrical machine assures a reliable operation even under the influence of flexure vibration of the drive shaft of a driver, even if the introduction of an additional rotor bearing and a protection means which generates frictional wear is avoided. - 特許庁

難分解性ＣＯＤ成分を含有する色度の高い着色廃水について、予め脱色せずにそのまま促進酸化処理（オゾン添加と紫外線照射の併用）する場合に比べて少ない使用電力量にて、排水基準を満たすように難分解性ＣＯＤ成分が除去された処理水を得ることができる廃水処理方法及びその装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a waste water treating method and an apparatus therefor by which treated water, where hardly decomposable COD components are removed so as to satisfy effluent standards, can be obtained with less power consumption as compared with a case where colored waste water containing hardly decomposable COD components and having high chromaticity is subjected to accelerated oxidation treatment (application of ozone addition and UV irradiation in combination) as it is without decoloring in advance. - 特許庁

従来のようなフォトリソグラフィ等を用いないで低屈折率層２で覆われたフォトブリーチング用ポリマ層３に紫外線レーザビームＢを集光、照射しながら基板１側又はレーザビームＢのいずれかを相対的に移動させてパターニングを行ない、光伝搬層となるコア層５及びそれをガイドする側面クラッド層６，６を形成する。例文帳に追加

Patterning is carried out without using a conventional photolithographic method or the like but by focusing a UV laser beam B to a polymer layer 3 for photo-bleaching coated with a low refractive index layer 2 to irradiate the layer while either a substrate 1 side or the laser beam B is relatively moved so as to form a core layer 5 as a light propagation layer and side clad layers 6 to guide the light. - 特許庁

服用に際し、飲用水の得られない状態下においても、水分の少ない口腔内で適度に速い崩壊性を有し、かつ製造時および流通時に欠け、割れまたは摩損等を生じない十分な強度を有する口腔内速崩壊性圧縮成型物を、特殊な製造方法を用いることなく製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing an intraoral quick disintegration type compression molding which has a properly quick intra-oral disintegration property when dosing even in an oral cavity with less water content under a drinking water-unavailable condition and has such a sufficient strength that chipping, cracking, detrition, or the like, does not occur during production or distribution, without using any specific production process. - 特許庁

従来より使用している研磨パッドは、表面開口径が同一のもので、遊星歯車式研磨装置でのキャリヤは、自転及び公転の円運動をおこなうため、キャリヤの内周部と外周部との周速差により１枚のワーク内での面粗度や平行・平面度の精度差が出てしまう例文帳に追加

To solve a problem wherein a circumferential velocity difference between an inner circumference part and the outer circumference part of a carrier causes an accuracy difference in the surface roughness, parallelism and flatness in a single work in a conventionally used polishing pad whose diameter of openings on the surface is same and whose carrier of a planetary gear type polishing device executes circular movement of autorotation and revolution. - 特許庁

ＣＭＰによる半導体基板の平坦化において、半導体基板表面の凹凸の凸部を選択的に研磨することでグローバル段差が速く解消でき、また、金属配線やＳＴＩにおける研磨においてもディッシングやシンニングなどの凹み量が少なく、かつスクラッチ傷や残存ダストが少ない高品位な半導体基板を得ることが可能な研磨パッドおよび研磨装置および研磨方法を提供するものである。例文帳に追加

To provide a polishing pad and an apparatus and method for polishing capable of speedily eliminating global steps by selectively polishing protrusion of concavity and convexity on the surface of semiconductor wafer in planarization of semiconductor wafer with CPM and obtaining a high quality semiconductor wafer with less concavity such as dishing or thinning and scratch mark or residual dust in the polishing of metal wiring or STI. - 特許庁

さらには(1)を「朝露の　消易き命」のような譬喩的関係（朝の露は消えやすい、その露のようにはかない命）のものと、「草枕　旅」のような形容的なもの（旅は草を枕にするものであったので）と、「野つ鳥　雉」のような説明的なもの（野の鳥である雉）に分類し、(2)を「まそがよ　蘇我の子ら」のような（そが－そが、という）同音反復の例と、「かき数ふ　二上山」というような、「数える」から数字の「二」にかかる掛詞の用法とに分類している。例文帳に追加

In addition to that, he subclassifies (1) into metaphorical relationships, such as 'asatsuyu no kieyasuki inochi' (morning dew is easy to disappear, and the life of the human being is short as the duration of dew), the modificational relationship such as 'kusamakura tabi' (while traveling one uses the grass as a pillow), and the descriptive relationship such as 'no tsu tori kiji' (a pheasant is a bird living in the field), and subclassifies (2) into the instances of the repetition of the same pronunciation such as 'masoga yo soga no kora' (soga -- soga), and the usage of kakekotoba (pivot words) such as 'kaki kazou futakamiyama' ('kazoeru' precedes a Japanese old number 'futa').  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

心電計により標準１２誘導波形を検出測定するに際し、複数の誘導波形からなる心電図情報をそれぞれＲ波高さまたはＳ波高さの大小関係を対比可能に順次並べてグラフ表示し、心電図情報の異常の検出、特に電極が誤装着されている状態の確認並びに誤装着された位置の電極の特定等を簡便かつ確実に行うことができる心電図情報表示方式を提供する。例文帳に追加

To provide an electrocardiogram information display system capable of sequentially arranging wave height R or wave height S to be compared in size to make a graph display of electrocardiogram information formed by a plurality of induction waveforms in detecting and measuring a standard 12 induction waveforms by an electrocardiograph, and simply and surely detecting abnormality of electrocardiogram information, and especially confirming the state of wrong mounting an electrode and specifying an electrode of a position for wrong mounting. - 特許庁