「位相シフト」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

そしてパターン形成に際して、疑似パターンが発生する場合は、光照射によって容易に透過率を変更可能であるため、膜厚を変更することなく、透過率を変更することにより、容易に、位相シフト量の微調整を行うことが可能となる。例文帳に追加

When a false pattern is generated in pattern formation, since the transmittance of the organic film pattern can easily be varied by irradiation with light, fine adjustment of the quantity of phase shift can easily be performed by varying the transmittance without varying the film thickness. - 特許庁

回路パターンを有する透明または半透明の基板、特に位相シフト膜を有するレチクル等上に付着したサブミクロンオーダーの微細な異物を、光学的に簡単な構成で、容易に安定して回路パターンから分離して検出できる異物検査装置およびその方法を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus and method for inspecting foreign matter, capable of easily and stably separating the fine foreign matter of a micron order bonded to a transparent or translucent substrate having a circuit pattern, especially, a reticle having a phase shift film from the circuit pattern by optically simple constitution to detect the same. - 特許庁

バーストコントローラ９は、スタンバイ信号ＳＴＢの電圧レベルが第１電圧範囲に含まれるとき全チャンネル共通モードに設定され、スタンバイ信号ＳＴＢの電圧レベルが第２電圧範囲に含まれるとき位相シフトモードφ_ＳＨＩＦＴに設定される。例文帳に追加

A burst controller 9 is set to an all-channel common mode when the voltage level of the standby signal STB is included in a first voltage range, and set to a phase shift mode φ_SHIFT when the voltage level of the standby signal STB is included in a second voltage range. - 特許庁

位相情報を含む周波数領域信号を伝達する副搬送波の帯域のうち、副搬送波の帯域を所定の帯域にシフトさせるための回転因子が虚数単位の整数乗倍となる帯域に対して、周波数領域信号をマッピングする。例文帳に追加

Frequency domain signals including phase information are mapped onto, of a band of subcarriers for transmitting the frequency domain signals, a band in which a twiddle factor for shifting the band of the subcarriers to a specified band is an integer power of an imaginary unit. - 特許庁

バンドパスフィルタ３４を通過した受信信号はマイナス方向へシフトされ、エンコーダ３６で２値化され、信号処理部４０で、相関値がピークとなるＰＮコードと受信信号との位相差に基づいて、目標対象物までの距離を算出する。例文帳に追加

The reception signal having passed through a bandpass filter 34 is shifted to a negative direction and binarized in an encoder 36, and a distance to the target object is calculated in a signal processing section 40 based on a phase difference between the reception signal and the PN code at which the correlation is the peak. - 特許庁

形状測定部３２は、ｉ個目の位置における干渉光の強度、及び（ｎ−ｉ＋１）個目の位置における干渉光の強度の係数を同一とする位相シフト法のアルゴリズムで被測定球面の形状を測定する。例文帳に追加

The form calculating section 32 measures the form of the spherical surface to be measured using an algorithm of a phase shift method, wherein a coefficient of the intensity of the interference light in an i-th position and a coefficient of the intensity of interference light in an (n-i+1)th position have the same value. - 特許庁

分散補償の対象となる信号光を光合分波器２で分波し、分波された信号光の各周波数成分を、反射手段である反射ミラー群３に含まれる対応する反射ミラー３０で反射して、周波数成分のそれぞれに対して所定の位相シフトを与える。例文帳に追加

Signal light to be dispersion-compensated is demultiplexed by an optical multiplexer/demultiplexer 2, each frequency component of demultiplexed signal light is reflected by a corresponding reflecting mirror 30 contained in a reflecting mirror group 3 being a reflecting means and prescribed phase shift is given to each frequency component. - 特許庁

チップ面積の増加を抑制しながら、周縁部における剥離を防止して高い耐湿性を確保することができる半導体装置及びその製造方法、並びにその半導体装置を製造する際に用いることができる位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device which is capable of securing high resistance to moisture by preventing separation in a periphery while suppressing an increase in chip area, to provide a method of manufacturing the same, and to provide a phase shifting mask which can be used for manufacturing the semiconductor device. - 特許庁

次に、直交特性の代わりに、所望の位相差＞または＜90°で出力シグナルを互いに制御し、選択的に２つの基本OTA/CCCＩＩ-C副回路系統を重畳して、有利に正弦波オシレータ構造を直交から任意のフェース・シフト特性に変換する。例文帳に追加

Secondly, instead of the quadrature characteristic, to control each output signal by using one another by a desired phase difference>output signal or output signal <90°, selectively superposing any of two fundamental OTA/CCCII-C sub-circuitries benefits the transformation of quadrature to arbitrary-phase-shift characteristic for the sinusoidal oscillator structure. - 特許庁

そして、このマスクの光学像を取得し、遮光膜マスク部１０ｂのフォーカスの中心を原点としたときの、ハーフトーン膜マスク部１０ａのフォーカスの中心からのベストフォーカス位置のシフト量を導出して、実パターンでの位相差の評価を行う。例文帳に追加

The optical image of the mask is acquired and the shift quantity of the best focus position from the center of the focus of the halftone mask part 10a when the center of the focus of the light shielding pattern parts 10b as an origin is derived and the evaluation of the phase difference in the real pattern is executed. - 特許庁

光偏向器は、平行に設けられた複数のねじり振動軸102、106の回りに夫々揺動振動可能に支持された複数の可動板103、105と、可動板103、105と一体的に揺動振動する様に複数の可動板103、105上に夫々設けられた光偏向素子（位相シフト板104）を有する。例文帳に追加

The optical deflector has: a plurality of movable plates 103 and 105 respectively rockably and oscillatably supported around a plurality of torsional oscillation shafts 102 and 106 provided in parallel to each other; and optical deflector elements (phase shift plates 104) which are respectively provided on the movable plates 103 and 105 so as to be integrally rocked and oscillated with the movable plates 103 and 105. - 特許庁

周波数のシフト量の測定値と、パワーメータ４１によるポンプ光Ｐの光強度の測定値と、ポンプ光Ｐの周期とから第２プローブ光Ｓｂの位相変化率を算出し、検体１４の非線形屈折率を求めた。例文帳に追加

A phase change rate of the second probe light Sb is calculated from the measured value of the shift amount of the frequency, a measured value of a light intensity of the pump light P by a power meter 41 and a cycle of the pump light P, and a nonlinear refractive index of the specimen 14 is obtained. - 特許庁

装置の検出器は、アセンブリを検体溶液内に置く場合、第１および第２反射面から反射される光波の位相シフトを検出することにより、検体の検体結合分子への結合から生じる第１反射層の厚さ変化を検出するように動作する。例文帳に追加

When the assembly is placed in analyte solution, a detector of the apparatus is operated to detect a phase shift of the light wave reflected from the first and second reflection surfaces so as to detect a thickness change in a first reflection layer generated by the binding of the analyte to an analyte binding molecule. - 特許庁

本発明の表面形状測定方法によれば、２波長位相シフト干渉法における各位置の縞次数の決定において、縞次数の計算に含まれる誤差分布が推定され（ステップＳ２１〜Ｓ２４）、その誤差分布から特定した誤差を差し引いて縞次数が求められる（ステップＳ２５，Ｓ２６）。例文帳に追加

In the surface shape measuring method, an error distribution contained in fringe order computation is estimated in the determination of fringe order of each position in two-wavelength phase-shifting interferometry (Step S21-S24), and the fringe order is determined by subtracting specified errors from the error distribution (Step S25 and S26). - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、マスク材料に照射される高エネルギー露光光によって引き起こされるマスク材料劣化の影響を排除し、簡便な手段により露光用マスクの耐用寿命を延ばすことを目的としている。例文帳に追加

To eliminate the influence of the deterioration of a mask material induced by the high-energy exposure light to be case to the mask material of a halftone type phase shift mask and to prolong the service life of a mask for exposure by simple means. - 特許庁

露光装置では、パターンＰ１に相当する複数の異なるマスク（ＯＰＣマスク又は位相シフトマスク）が用意されており、レチクルのパターンの測定検査結果やウエハのパターンの測定検査結果などに応じて、デバイスパターンを精度良く転写することが可能なレチクルを選択する。例文帳に追加

In an exposure device, a plurality of different masks (OPC mask or phase shift mask) corresponding to the pattern P1 are prepared, and a reticle is selected as capable of imprinting a device pattern accurately based on a measurement inspecting result of reticle pattern or measurement inspecting result of wafer pattern. - 特許庁

コモンモードフィルタを差動モードに用い、通過帯域に於いて差動モードの入出力間の位相シフトを実質一定ににし、且つその大きさを最小限度に抑えた周波数選択性を有するモード切替トランスの提供。例文帳に追加

To provide a mode-switching transformer with frequency selectivity in which a common-mode filter is used for a differential mode, phase shift between an input and an output of the differential mode is substantially fixed in a passband and its size is minimized. - 特許庁

スイッチング電源回路１０Ａが、パワートランジスタ１１と、スイッチング制御回路１２と、発振器１３と、クロック同期回路１４と、クロック切替器１５と、クロック入出力端子１６と、クロック位相シフト回路１７と、設定端子１８を具備する。例文帳に追加

A switching power supply circuit 10A includes a power transistor 11, a switching control circuit 12, an oscillator 13, a clock synchronization circuit 14, a clock switch 15, a clock input/output terminal 16, a clock phase shifter circuit 17, and a setting terminal 18. - 特許庁

これにより、球面波を用いるシフト多重方式、ランダムな波面を持つスペックル多重方式若しくは、位相コード多重方式でホログラムを記録した記録材料１の体積変化を補正でき、再生信号光が明るく、劣化のない画像を得ることができる。例文帳に追加

Thus, volume changes in the recording material 1 having a hologram recorded by a shift multiplexing method using spherical waves, a speckle multiplexing method having random wavefront or a phase code multiplexing method can be corrected, thereby obtaining an image bright in reproduced signal light and without any degradation. - 特許庁

本発明は、二次元ランダムパターンに対してレジストに結ばれる像の解像度の向上をさせることができ、併せてレジストに露光される二次元ランダムパターンの寸法精度を向上させることができる露光方法および位相シフトマスクを提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a method for exposure and a phase shift mask in which the resolution of an image formed on a resist according to a two-dimensional random pattern can be improved and the dimensional accuracy of the two-dimensional random pattern projected onto the resist can be improved. - 特許庁

固形分を溶剤に溶かす時や経時保存時のパーティクルの発生及び経時保存による感度の変動を防止でき、ハーフトーン位相差シフトマスク適正に優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV capable of preventing the occurrence of particles in the dissolution of solid components in a solvent and in storage over time and a variation of sensitivity due to storage over time and excellent in correction of a halftone phase contrast shift mask. - 特許庁

入力確認時には入力端子ＴＩＮ１〜ＴＩＮ３がＰチャネルトランジスタ２１〜２３のゲート端子にそれぞれ接続され、互いに位相のシフトした複数の入力信号が入力端子ＴＩＮ１〜ＴＩＮ３にそれぞれ印加される。例文帳に追加

When identifying input, input terminals TIN1-TIN3 are connected to the gate terminals of P channel transistors 21-23 respectively, and a plurality of input signals whose phases are mutually shifted are impressed respectively to the input terminal TIN1-TIN3. - 特許庁

輪帯照明を用いた際にデフォーカスラチチュードが広く、ハーフトーン位相シフトマスクを用いてパターン形成した際にサイドローブが発生し難いポジ型感光性組成物、また、加えて経時保存時にパーティクルが発生し難いポジ型感光性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive type photosensitive composition having a wide defocus latitude when orbicular illumination is used and less liable to generate a side lobe in pattern formation using a halftone phase shifting mask and to provide a positive type photosensitive composition having the above characteristics and less liable to generate particles in storage with age. - 特許庁

また、ＳＰＯＫＥ１０の反射部である白領域の幅を広くすると、フォトディテクタ８Ａ及び８Ｂの出力は変化し、その差動アンプの出力であるＳＰＯＫＥ検出信号１５も変化し、逆方向に位相がシフトした波形が得られる。例文帳に追加

Moreover, the widths of white zones of the reflective parts of the SPOKE10 are increased, the outputs of the photo detectors 8A and 8B are changed, and the output of the differential amplifier, or the SPOKE detecting signal 15, is changed as well, and a waveform whose phase is shifted in the reverse direction is obtained. - 特許庁

遮光膜３は、透明基板１の主表面を露出する第１の開口部Ｒ１と、ハーフトーン位相シフト膜２の表面を露出する第２の開口部Ｒ２とを有し、第１および第２の開口部Ｒ１、Ｒ２の間に少なくとも位置している。例文帳に追加

A light-shielding film 3 has a first opening R1 exposing the principal surface of the transparent substrate 1 and a second opening R2 exposing the surface of the halftone phase shift film 2, and is placed at least between the first and second openings R1, R2. - 特許庁

パルスレーザ発振器１と、レーザ光束を制限するスリット４０と、このスリットを均一に照明する照明光学系３０と位相シフト部２０と、スリット４０を通過した光を被加工対象物６に縮小投影する結像レンズ５と、を有する構成とする。例文帳に追加

A laser beam machining apparatus comprises a pulse laser beam oscillator 1, a slit 40 for limiting the laser beam flux, an illumination optical system 30 for uniformly illuminate the slit and a phase shift part 20, and an imaging lens 5 for performing the reduced projection of the laser beams passed through the slit 40 on an object 6 for machining. - 特許庁

非干渉成分と共に瞬時背景雑音光をも除去できて、さらには時間ステップ的に位相シフトを導入しても各瞬時背景雑音光を除去できるスペクトルドメインの光コヒーレンストモグラフィー装置を提供する。例文帳に追加

To provide an optical coherence tomographic device for a spectral domain, capable of removing an instantaneous background noise light together with a non-interference component, and capable of removing each instantaneous background noise light even when introducing a phase shift time-stepwise. - 特許庁

この位相シフト型長周期ファイバグレーティングの透過損失特性の温度依存性を、ＥＤＦ等の光増幅媒体の利得の温度依存性の逆に設定することにより、増幅特性の温度依存性を補償し、温度による特性変動の無い光増幅器を提供する。例文帳に追加

The temperature dependency of amplification characteristics is compensated by setting the temperature dependency of the transmission loss characteristics of this phase shift type long-period fiber grating to the opposite of the temperature dependency of the gain of the optical amplification mediums such as EDF, and the light amplifier free from the characteristics variation by the temperature can be obtained. - 特許庁

透明なガラス基板１０上に半透過膜１２が形成された位相シフトマスクで、微細パターン領域１４におけるパターンのピッチに対して最適となるように半透過膜１２の厚さを調整すると、孤立パターン領域１６において、隣接する開口部によるサブピークが重なり合うことがある。例文帳に追加

In a phase shift mask having the translucent film 12 formed on a transparent glass substrate 10, when the thickness of the translucent film 12 is optimized to the pattern pitch in a fine pattern region 14, subpeaks generated by adjoining aperture may overlap in an isolated pattern region 16. - 特許庁

シフトレジスタ（１６４）を、複数のステージを縦続接続し、一番段の入力端子に開始信号を与え、各ステージの出力信号が複数の水平ラインをシーケンシャルに選択するように構成し、奇数段には第１クロック信号を、偶数段には位相が逆の第２クロック信号を提供する。例文帳に追加

A plurality of stages of shift registers (164) are connected one after another to each other, a start signal is given to the input terminals of the first stage, and the output signal of each stage selects sequentially a plurality of horizontal lines. - 特許庁

光学的に透明な基板１１の一方主面に形成されたハーフトーン位相シフト膜などの光学膜１５上に遮光性膜１２が設けられており、この遮光性膜１２が第１の遮光性膜１３と第２の遮光性膜１４を順次積層させて構成されている。例文帳に追加

A light-shieldable film 12 is provided on an optical film 15 such as a half-tone phase shift layer formed on one principal plane of an optically transparent substrate 11, and the light-shieldable film 12 is configured by sequentially laminating a first light-shieldable film 13 and a second light-shieldable film 14. - 特許庁

光学系で生じる色収差を位相シフト処理によって補正する際に、画像サイズが縮小してしまうことを防止し、縮小処理のために必要となる有効画素領域の余裕を不要とした色収差補正装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a chromatic aberration correcting device for dispensing with the margin of an effective pixel region required for reduction processing by preventing an image size from being reduced, when correcting chromatic aberration generated in an optical system by phase-shift processing. - 特許庁

球面波を用いるシフト多重方式、ランダムな波面を持つスペックル多重方式若しくは、位相コード多重方式でホログラムを記録再生した記録材料が変形した場合に、照明参照光を補正して明るい再生信号光を得ること。例文帳に追加

To obtain bright reproduced signal light by correcting illumination reference light when a recording material is deformed, the recording material in which a hologram is recorded or reproduced by a shift multiplexing method using spherical waves, a speckle multiplexing method having random wavefront, or a phase code multiplexing method. - 特許庁

ハーフトーン位相シフトマスクを用いたときに生じるディンプルを抑制することができ、しかも現像後のレジストパターンを熱フローさせるため、単位温度当りのレジストパターンサイズの変化量を厳密にコントロールできる化学増幅型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a chemical amplification type resist composition which can suppress the dimples produced when using a halftone phase shift mask and permits the strict control of the variation of resist pattern sizes per unit temperature in order to cause the thermal flow of the resist pattern after development. - 特許庁

同相ハーフトーンエッジ強調位相シフトマスク構造は、マスク基板１の第１主面上のハーフトーン膜２に開口された開口部３ｂにおいて、中央にメイン部４ｂを配置し、その外周にリム部５ｂを配置することで形成されている。例文帳に追加

The in-phase half-tone edge emphasizing phase shift mask structure part is formed by arranging a main portion 4b in the center of the opening portion 3b bored in the half-tone film 2 on the first main surface of the mask substrate 1 and arranging a rim portion 5b at its periphery. - 特許庁

コンタクトホールパターン形成時のハーフトーン位相差シフトマスク適性と解像力に優れたポジ型レジスト組成物、更には、エッチング時のホール変形が少なく、アンダー露光時の露光マージンが広いポジ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a positive resist composition excellent in the adaptability for a halftone phase difference shift mask and resolution for the formation of a contact hole pattern and to provide a positive resist composition having little deformation of a hole during etching and a wide exposure margin for under exposure. - 特許庁

ＢＤ再生時には、位相シフト用電極６７に電圧を印加するとともに、回折用電極６６にも電圧を印加し、光ビームを発散させて中央部分の光強度を低下させることにより、ディスク上に形成される光スポットを整形する。例文帳に追加

When reproducing the BD, a voltage is applied to the electrode 67 for the phase shift, the voltage is also applied to the electrode 66 for the diffraction, and by diverging the light beam and lowering the light intensity of a center part, thereby the optical spot formed on the disk is shaped. - 特許庁

フォトマスクは、第１と第２透明基板１，２と、第１透明基板１の一方の表面に形成されたトレンチ８内に埋設される遮光パターン３と、第２透明基板２の一方の表面に形成されたトレンチパターンで構成される位相シフトパターン４とを備える。例文帳に追加

The photomask is provided with: first and second transparent substrates 1, 2; a light shielding pattern 3 embedded in a trench 8 formed on one of the surfaces of the first transparent substrate 1; and a phase shift pattern 4 composed of a trench pattern formed on one surface of the second transparent substrate 2. - 特許庁

また、ＡＷＧの透過率の波長依存性が略平坦な状態から光位相差が略１８０度シフトした状態において測定された光強度と、波長依存性が略平坦な状態において測定された光強度との差から各チャネルの信号光の有無を判定することができる。例文帳に追加

The presence of signal light of each channel can be determined from difference between light intensity measured when optical phase difference is shifted by nearly 180° from the state that wavelength dependency of the transmittance of the AWGs is nearly flat and light intensity measured when the wavelength dependency is nearly flat. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクのテトラメトキシシランの電子ビームCVD膜６の白欠陥修正で透過率が高すぎる場合には透過率の低い炭素系の原料ガスを用いた集束イオンビームCVD膜または電子ビームCVD膜を積層して透過率を調整する。例文帳に追加

When too high transmittance is obtained in the correction of a white defect by depositing an electron beam CVD film 6 of tetramethoxysilane in a halftone phase shift mask, a focused ion beam CVD film or an electron beam CVD film using a carbon-based source gas having low transmittance is further deposited to control the transmittance. - 特許庁

光制御式マイクロウェーブ・フェーズドアレイ・アンテナ（ＰＡＡ）、レーザ走査システム、並びに他のアレイに基づく装置等の単一制御アレイに基づく技法のシステムに対する、可変線形増大位相シフト・アレイ（ＬＩＰＳＡ）或は可変線形増大真時間遅延アレイ（ＬＩＴＤＡ）として機能できる。例文帳に追加

This array is equipped with many smaller mirrors having various different reflectance values 70 to 89 previously regulated, The smaller mirrors are spatially coupled so as to effectively function as one effective mirror 55 having a effectively inclined or spatially changed power reflectance profile 800. - 特許庁

次に第１受信信号の変位計測窓１０６と変位前のゼロクロス点Ｒをｍ＊（λ／２）だけ変位方向にシフトし、点Ｒに対応する点Ｓと、変位後のゼロクロス点Ｕとの相互間の位相差からみかけ変位量Δｄを求める。例文帳に追加

Next, the displacement measuring window 106 of the first received signal and a zerocross point R before displacement are shifted in a displacing direction by m*(λ/2) to obtain an dummy displacement Δd from the phase difference mutually between a point S corresponding to the point R and a zerocross point U after displacement. - 特許庁

位相シフト法を利用した３次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンＡ_kと、空間をコード化して縞パターンＡ_kの縞次数ｎを確定するための空間コードパターンＣ_kとを投影パターンＰ_kとして被計測物に同時に投影して撮像する。例文帳に追加

A stripe pattern A_k having a sine wave shape indispensable for three-dimensional shape measurement utilizing a phase shift method, and a space code pattern C_k for deciding a fringe order n of the stripe pattern A_k by coding a space are projected onto the measuring object simultaneously as a projection pattern P_k and imaged. - 特許庁

片側キャビティを使用して入力光１及び放射光を同一の横モードに閉じ込めるので、入射光１と２準位原子の共鳴に伴う光の散逸が抑制され、出力光２の位相が入力光１に対してπシフトする。例文帳に追加

Since the input light 1 and the radiated light are confined in the same lateral mode using the one-sided cavity, dissipation of light due to resonance of the incident light 1 and two-level atoms is suppressed and the phase of the output light 2 is π-shifted with respect to the input light 1. - 特許庁

画面を高精細化及び大画面化してもシフトクロック信号とシリアル表示データ信号との間で位相のずれが発生せず、誤った表示及び映像ノイズの発生を防止することができるマトリクス表示装置及びその駆動方法を提供する。例文帳に追加

To provide a matrix display device which does not cause a phase shift between a shift clock signal and a serial display data signal even if the screen is made high-definition and enlarged, and is able to prevent erroneous display and video noise from being generated, and to provide a driving method therefor. - 特許庁