「数欠」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

ステージ座標のオフセット量が異なる複数の欠陥検査装置からの欠陥位置データを用いて欠陥の拡大像を撮像する場合に、ウェーハのアライメントに要する時間を増大させることなくスループットを向上させる。例文帳に追加

To improve throughput without increasing the time required for wafer alignment when the data concerning defect position obtained from a plurality of defect inspection devices with different offsets of stage coordinate are used to sense an enlarged image of defect. - 特許庁

インバータ装置から出力される三相交流電源に接続された複数の負荷装置のうち、いずれかの負荷装置に欠相が生じた場合に、その欠相を検出する出力欠相検出回路である。例文帳に追加

To provide a circuit for detecting an output missing phase for detecting the missing phase, if a missing phase occurs at any one of a plurality of load devices connected to a three-phase AC power source output from an inverter device. - 特許庁

このように複数のラプラシアンを用いることで、注目画素が単独欠陥画素であるか、連続欠陥画素であるかによらず、簡単かつ高精度に欠陥画素を検出することができる。例文帳に追加

The use of the plurality of Laplacians allows a defective pixel to be detected easily and accurately, no matter whether the pixel of interest is an independent defective pixel or a continuous defective pixel. - 特許庁

Ｘ線撮像装置は、隣接する複数の画素間で得られる画素値が時間的に変動する隣接欠陥画素を、この隣接欠陥画素の各画素値で平均化した画素値にそれぞれ置き換える隣接欠陥補正部５５を備えている。例文帳に追加

An x-ray imaging device has an adjacent defect correction unit 55 that replaces each adjacent defective pixel in which a pixel value obtained between a plurality of adjacent pixels fluctuates temporally, to an pixel value averaged by pixel values of adjacent defective pixels. - 特許庁

そして、欠陥信号及び欠陥位置の両側の測定箇所からの超音波応答信号に対応する複数の欠陥近接信号は、教育された人工ニューラルネットワークに入力される。例文帳に追加

The defect signal corresponding thereto and a plurality of the defect approach signals corresponding to the defect signal and the ultrasonic response signals from the measuring places on both sides of the defect position, are inputted to an educated artificial neural network. - 特許庁

あるいは角度別の欠陥数ヒストグラムデータにおける角度別の欠陥検出量についての標準偏差値を越える集計角度領域において島状欠陥の検出をする。例文帳に追加

Otherwise, an island defect is detected in a totalized angle domain exceeding a standard deviation value on a defect detection amount classified by angle in defect number histogram data classified by angle. - 特許庁

一つの欠陥画素に対して複数の異なる欠陥種類情報を適切に欠陥補正に適用させることを可能にした画像処理装置を提供すること。例文帳に追加

To provide an image processing apparatus that allows a plurality of pieces of different defective type information to be properly used for defect correction on a single defective pixel. - 特許庁

溶接部内の欠陥のタイプを決定するための方法は、溶接部に沿った複数の測定箇所から集められた超音波応答信号を解析することによって、欠陥位置及び対応する欠陥信号を決定することを含む。例文帳に追加

In the method for determining the type of a defect in a weld, the ultrasonic response signals gathered from a plurality of the measuring places set along the weld are analyzed to determine a defect position. - 特許庁

基板の設計データ、または同一設計で製造の複数基板の画像を得ることで、検出された欠陥データから擬似欠陥データを除去して、本来の欠陥のみを効率よく検査する。例文帳に追加

To efficiently inspect only the original flaw by obtaining the plan data of a substrate or the images of a plurality of substrates manufactured on the basis of the same plan and removing false flaw data from detected flaw data. - 特許庁

従来の欠相検出回路より少ない部品点数で確実に３相交流電源からの給電の欠相を検出ことが可能な欠相検出回路を提供する。例文帳に追加

To provide an open-phase detection circuit that can detect an open phase at power feeding from a three-phase AC power supply, without fail, with a smaller number of components than a conventional open-phase detection circuit. - 特許庁

すなわち、基板の洗浄加工処理によって基板から所定数の欠陥が除去されなかった場合には、マスク基板の内部に欠陥が存在する可能性が高いので、基板内部の欠陥の検出処理行い。例文帳に追加

Namely, when a predetermined number of defects are not removed from the substrate through the cleaning processing on the substrate, the possibility that a defect is present in the mask substrate is high, so detection processing for the defect in the substrate is carried out. - 特許庁

（Ａ）ガイド波が第１の周波数を有する場合における、反射波の振幅と、欠損断面積および欠損幅との関係を示す第１の欠損量推定用データを予め求める。例文帳に追加

(A) In cases where a guided wave has a first frequency, a first group of data for defect quantity estimation are previously found which show relations among the amplitude of a reflected wave, a defect cross-section, and a defect width. - 特許庁

マーキングエリアでの欠陥部分の位置の認識精度を向上させることで歩留りを下げることなく、かつ、目視検査の工数を削減できるフィルム用欠陥マーキング装置及び欠陥マーキング方法を提供する。例文帳に追加

To provide a defect marker and a defect marking method for films with improved accuracy in recognizing the location of a defect in a marking area, thus capable of preventing reduction of yield and reducing man-hours required for a visual inspection. - 特許庁

この周波数に基づく評価量は、ハードディスク上の欠陥領域を検出し、かつ／または、欠陥領域を熱凹凸（ＴＡ）もしくはドロップアウト・媒体欠陥（ＭＤ）のいずれかの原因に分類するのに使用される。例文帳に追加

The frequency-based measures are used to detect defect regions on the hard disc and/or classify defect regions as being due to either thermal asperity (TA) or drop-out medium defect (MD). - 特許庁

（Ｂ）ガイド波が第２の周波数を有する場合における、反射波の振幅と、欠損断面積および欠損幅との関係を示す第２の欠損量推定用データを予め求める。例文帳に追加

(B) In cases where a guided wave has a second frequency, a second group of data for defect quantity estimation are previously found which show relations among the amplitude of a reflected wave, a defect cross-section, and a defect width. - 特許庁

１つの欠陥リスト入力に可変数の欠陥領域を記録することの出来るディスク媒体の欠陥領域の効率的な記録方法を提供する。例文帳に追加

To realize an efficient recording method of defective regions of a disk medium capable of recording a variable number of defective regions to one-defect list input. - 特許庁

異なる複数の閾値の再設定の必要がなく、安定した検査ができると共に欠陥強度の検出精度を向上させ、欠陥同士の強度の比較を可能とする欠陥検査装置を実現する。例文帳に追加

To realize a defect inspecting apparatus which eliminates the need for resetting of two or more different thresholds, conducts a stable inspection, improves detection precision of defective strength and enables defective strength values to be compared with one another. - 特許庁

本発明は、対処可能な欠陥個数に特に制限が無く、又経時変化で発生する欠陥に対しても対応可能な欠陥補正回路を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a defect correction circuit capable of also dealing with a defect caused by a change with the passage of time without especially limiting the number of handleable defects. - 特許庁

１つの局面において、本発明は、鉄欠乏の検出においてＣＨｒと類似の診断能力を有する新規な鉄欠乏指数（ＩＤＩ_１）を用いる鉄欠乏の検出の方法に関する。例文帳に追加

In one aspect, the present invention relates to a method for detecting the iron deficiency using a new iron deficiency index (IDI_1) having a diagnostic capability similar to that of CHr in detection of the iron deficiency. - 特許庁

また、切り欠き部２５は、用紙搬送部２１の後面のほぼ中央部に形成されており、作業者が親指以外の複数の指を当てることができるように、切り欠き部２４よりも横長に切り欠いて形成されている。例文帳に追加

The notched part 25 is formed in nearly the center part of the rear surface of the paper conveying part 21, and the notched part 25 is formed longer sideways than the notched part 24 so that the operator can touch the notched part 25 with a plurality of fingers other than his/her thumb. - 特許庁

Ｓ１０１で得られた複数の対象欠陥クラスタを、既知欠陥クラスタに類似する既知グループと既知欠陥クラスタに類似しない未知グループとに分類する（Ｓ１０２）。例文帳に追加

The plurality of target defect clusters obtained in S101 are classified into a known group similar to the known defect cluster and an unknown group not similar to the known defect cluster (S102). - 特許庁

各縦枠２，３のレール７，８の背面側の上端部は、切欠かれて切欠き部７ｂ，８ｂが形成されており、この切欠き部７ｂ，８ｂを介して複数枚の表示板３０がレール６，７，８内に挿入される。例文帳に追加

Upper end parts of the longitudinal frames 2 and 3 on back sides are cut to form cut parts 7b and 8b, and a plurality of display plates 30 are inserted into the rails 6, 7, and 8 through the cut parts 7b and 8b. - 特許庁

パケット欠落を検出した時点で欠落したパケットの再送を行うと、大きな遅延を発生させてしまうので、重要なパケットは、あらかじめ複数回送信し、欠落の確率を低減させる。例文帳に追加

In order to avoid large delay due to retransmission of an omitted packet upon detecting the omitted packet, an important packet is transmitted at a plurality of times in advance to reduce the possibility of omission. - 特許庁

作業台はガスを噴出させるための第１の切欠溝と、第１の切欠溝の外側に配置された第２の切欠溝と、ウェーハを保持してそれを回転させるための複数の保持ピンとを有する。例文帳に追加

The work base has a first notch groove 32 for ejecting gas, a second notch groove 33 disposed outside the first notch groove, and a plurality of holding pins 34 for holding and rotating a wafer 10. - 特許庁

欠点隠蔽材を介在させることにより、表層にクラック、節穴、部分欠損等の欠点が現出しないようにし、工程数の減少も可能とした複合板及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a composite plate capable of preventing generation of a defect such as crack, knot hole and partial deficiency in a surface layer by interposing a material for covering defects in between and capable of reducing process steps of manufacturing, and also provide a process for manufacturing the composite plate. - 特許庁

連続欠陥による切り出し回数が制限される分、他の単発信号による欠陥画像データが切り出し可能になり、単発欠陥画像の取りこぼしが少なくなる。例文帳に追加

Since the number of times of a fetching operation by the continuous defect is limited, defect image data due to other single signals can be fetched, and a fetching oversight in a single defect image is reduced. - 特許庁

試料上の欠陥を，画像取得手段を用いて短時間に多数の欠陥観察を行う方法において，第１の倍率で撮像した画像から誤検出なく欠陥位置を特定し，第２の倍率での撮像を可能とする。例文帳に追加

To specify a defect position without wrong detection from an image taken in first magnification, and to enable imaging in second magnification, in a method for observing many defects in a short time by using an image acquisition means, concerning defects of a sample. - 特許庁

照明光の入射角度が異なる複数の光学条件下で表面欠陥の撮影を行い、各種の欠陥をいずれかの光学条件下において欠陥候補として漏れなく検出する。例文帳に追加

A surface flaw is photographed under a plurality of optical conditions different in the incident angle of illumination light and a flaw of every kind is perfectly detected as a flaw candidate under either one of the optical conditions. - 特許庁

ユーザの分類要求を満足する欠陥分類器１２０を生成するために、まず欠陥分類器を複数の分岐要素によって階層的に欠陥分類クラスを分類する決定ツリーを用いて表現する。例文帳に追加

In order to produce a defect sorter 120 which fulfills the sorting request from the user, first of all, the defect sorter is represented by using a determination tree for hierarchically sorting defect sorting classes with a plurality of branch elements. - 特許庁

ユーザ領域Ａにおける欠陥ブロック３Ａのすぐ後ろに続く本来欠陥ではない数ブロックを擬似的に欠陥ブロック４Ａ’，５Ａ’として登録し、代替領域Ｂに連続した代替ブロック３Ｂ〜５Ｂを形成する。例文帳に追加

A few blocks, which directly follow a defective block 3A in the user area A and are originally not defective, are registered as pseudo defective blocks 4A', 5A', and continuous replacement blocks 3B-5B are formed in the replacement area. - 特許庁

さらなる実施形態において、本発明は、鉄欠乏の検出において％Ｈｙｐｏと類似の診断能力を有する鉄欠乏指数（ＩＤＩ_２）を用いる鉄欠乏の検出方法に関する。例文帳に追加

In a further embodiment, the present invention relates to a method for detecting the iron deficiency using an iron deficiency index (IDI_2) having a diagnostic capability similar to that of %Hypo in detection of the iron deficiency. - 特許庁

支持台の重量が大となる欠点、振動数の小さい領域の減衰力が不足するという欠点、及び、微少振動の制振性能が悪いという欠点を解消するブレーキ機能付き可変減衰ダンパを構成する。例文帳に追加

To provide a variable attenuating damper with a braking function capable of eliminating such defects that the weight of a support table is increased, a damping force in small frequency range becomes short, and the vibration control performance against minute vibration is deteriorated. - 特許庁

第２の基板３の外周部に沿って複数の切欠部６を形成し、この切欠部６の内周面と、切欠部６の近傍で第２の基板３の下面側とに鍍金層を形成することによって、端子部を構成する。例文帳に追加

A plurality of notches 6 are formed along the outer peripheral part of the second board 3 and a plating layer is formed on the inner peripheral surface of these notches 6 and the lower face side of the second board 3 in the vicinity of the notches 6 to constitute a terminal part. - 特許庁

液浸システム中の粒子の存在を低減することおよび／または欠陥の発生または数を低減するために欠陥を一層よく理解できるように欠陥を示す情報を得る。例文帳に追加

To reduce the presence of particles in an immersion system, and/or at least obtain information indicative of a defect so that it may be better understood with the aim of reducing its occurrence or number. - 特許庁

また、第２の解決手段として、回転翼６の間欠回転を制御する間欠回転制御手段を備え、乾燥行程において、回転翼６の間欠回転数を１回転以下に制御したものである。例文帳に追加

An intermittent rotation control means for controlling the intermittent rotation of a rotary blade 6 is arranged as a second solving means, so that the number of intermittent rotations of the rotary blade 6 is controlled to be not more than one. - 特許庁

検査対象となる部品が複雑な形状を有する部品であったり複数種類の欠陥を有する部品であったりしても、短時間で精度良く欠陥を検出することができる欠陥検出方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method of accurately detecting a defect in a short time even if a component being an inspecting object is a component having a complicated shape or a component having a plurality of kinds of defects. - 特許庁

第２回探傷ステップによって検出された欠陥数と第１回探傷ステップによって検出された欠陥数との差に基づいて水素要因による欠陥数を算出し、所定値を上回った時に脱水素処理の条件を変更する。例文帳に追加

The number of defects due to the hydrogen factors is calculated on the basis of a difference between the number of defects detected in the second flaw detection step and the number of defects detected in the first flaw detection step, and if the calculated value exceeds a predetermined value, the conditions of dehydrogenation are changed. - 特許庁

少なくとも荷電粒子源と照射光学手段における電子光学条件によって決定される検査条件が複数の異なる検査条件であって、該複数の検査条件で試料を照射し得られた複数の欠陥情報を用いて、試料の欠陥を分類する欠陥分類手段を備える。例文帳に追加

Inspection conditions decided by at least the eyelectronic optical conditions in a charged particle source and an irradiating optical means are a plurality of different inspection conditions, and a defect classification means that classifies the defects of a sample using a plurality of defect information obtained by irradiating the sample under a plurality of inspection conditions is provided. - 特許庁

本発明はポリゴンミラーを回転させるスキャナモータの回転数を問題が生じない回転数に設定しても、その３倍以上の回転数に設定したのと同等な高速スキャンが可能で、微細な欠陥を検出することができる欠陥検査方法および欠陥検査装置を得るにある。例文帳に追加

To provide a defect test method and a defect test device for performing high-speed scanning equal to one set to the number of rotation as three times as large when the number of rotation of a scanner motor for rotating a polygon mirror is set to the number of rotation where no problem occurs and for detecting minute defect. - 特許庁

そして、微小欠陥ＲＯＭ２６に記憶された欠陥画素のアドレスおよび比率を読み出し、アドレスに対応するＣＣＤ撮像素子１３により出力された欠陥画素の画素信号に比率の逆数を乗算し欠陥画素の画素信号を補正する。例文帳に追加

Then the address of the ratio of the defective pixel stored in the very small defect ROM 26 are read out, a reciprocal of the ratio is multiplied with the pixel signal of the defective pixel outputted from the CCD imaging element 13 corresponding to the address to correct the pixel signal of the defective pixel. - 特許庁

結合（ビニング）の対象となる行列方向に隣接する複数の画素のいずれかの画素において欠損画素が含まれている場合には、ビニング処理後（結合後）のビニング画素（結合画素）をビニング欠損画素（結合欠損画素）としてビニング欠損画素検出部２３は処理する。例文帳に追加

When a defective pixel is included in some pixels of a plurality of pixels adjacent to a matrix direction which is a joint object, a joint pixel after joint processing is processed as a joint defective pixel by a joint defective pixel detection part 23. - 特許庁

従来技術に比べて欠陥位置へのマーキング精度を飛躍的に向上することで歩留りを下げることなく、かつ、微小欠陥そのものにマーキングすることで目視検査の工数を削減できるフィルム用欠陥マーキング装置及び欠陥マーキング方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a defect marking device for a film and a defect marking method capable of reducing man-hours for visual inspection without lowering yield by improving greatly marking accuracy on a defect position in comparison with a conventional technology, and by marking on a fine defect itself. - 特許庁

基板に対して、通常条件、欠陥を発生し難い安全条件、欠陥を発生し易い加速条件の３条件で描画を行い、レジストパターンを形成した後、欠陥検査装置を用いて領域毎の欠陥数を求める。例文帳に追加

A substrate is lithographed under three conditions including a normal condition, a safe condition hardly causing a defect, and an acceleration condition easily causing a defect and, after forming a resist pattern, the number of defects is counted with respect to each area using the defect inspection device. - 特許庁

前記光ディスクを初期化した後ユーザデータを記録する時、前記欠陥セクタの有無を判定するための欠陥判定基準を選択して設定するための制御情報に応じて、複数設ける欠陥判定基準から前記判定に使用する欠陥判定基準を選択して設定する。例文帳に追加

When user data are recorded after the optical disk is initialized, the defect determination reference used for determination is selected and set from a plurally prepared defect determination references in accordance with the control information for selecting and setting the defect determination reference to determine the existence of the defective sector. - 特許庁

欠陥検出部４３では、被検査画像と参照画像とを比較することにより、予め定められた複数の検査領域に含まれる欠陥の領域を示す欠陥領域画像が生成され、欠陥領域画像メモリ４４に記憶される。例文帳に追加

In the flaw detection part 43, the image to be inspected is compared with a reference image and flaw region images showing the flaw regions contained in a plurality of predetermined inspection regions are formed to be stored in a flaw region image memory 44. - 特許庁