「脱離基」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

リーン燃焼運転時に算出したＮＯｘ堆積量に基づきリッチスパイク制御の開始時期を決定すると共に、ＮＯｘ堆積量とＮＯｘ脱離速度に基づきリッチスパイク制御の終了時期を決定する。例文帳に追加

Start timing of the rich spike control is determined based on a NOx deposition amount calculated in lean combustion operation, and a completion timing of the rich spike control is determined based on the NOx deposition amount and an NOx desorption speed. - 特許庁

ユニット連結装置５０は非ロック状態において回路基板３３の挿脱経路を開放し、これによって回路基板３３の交換作業に際して給紙ユニット１とキャリッジユニット２０との切り離し作業が不要となる。例文帳に追加

The device 50 opens the insertion/extraction path of the circuit board 33 in an unlocking state, so that work for uncoupling the units 1 and 20 from each other can be made unnecessary in the work for replacing the circuit board 33. - 特許庁

基端筒状ボス部３Ａにおける釣糸ガイド部３Ｂの存在側に位置する周面に、基端筒状ボス部３Ａを穂先竿１より離脱させるに必要な溝幅に拡大する割り溝３ｂを形成してある。例文帳に追加

A split line 3b for expanding the base-end tubular boss part 3A to a width necessary for releasing the boss from the tip section rod 1 is formed on the circumferential surface on the side of the line-guiding part 3B of the base-end tubular boss part 3A. - 特許庁

酸不安定基の脱離反応を迅速、確実かつ塩基性物質による汚染なく停止させることにより、優れた特性を発揮する重合体を簡便にかつ安定的に製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a process for simply and stably producing a polymer which exhibits excellent properties by quickly and surely stopping the elimination reaction of groups unstable toward an acid without contamination by a basic substance. - 特許庁

基盤部材をワークに係合押圧し、スプリングに抗して後退させて第１及び第２係合部を離脱させた状態で、基盤部材に設けたクランプ爪８０ｂは中間部材２４を介して支持軸により開閉可能である。例文帳に追加

In a state where the base member is engagedly pushed toward the work and retreated against the spring to disengage the first engagement part from the second engagement part, a clamp claw 80b provided on the base member can be opened/closed by a support shaft via the intermediate member 24. - 特許庁

ディスク基板１３を着脱するときは可動部２２の接触面を固定部２１の嵌合穴２４に沿って移動しディスク基板１３の裏面から離す。例文帳に追加

When the disk substrate 13 is attached or detached, the contacting surface of the movable part 22 is moved along a fitting hole 24 of the fixed part 21, and removed from the rear surface of the substrate 13. - 特許庁

操作杆４６の端部から長手方向に力を加えると、ガイドピン４４とガイド孔５６の斜めに延びる部分とが協働して可動軸受部５４が基板部材１２内へ案内され、可動板１８が基板部材１２から離脱する。例文帳に追加

When a force is applied from the end of the lever 46 in a longitudinal direction, the pin and the obliquely extended part of the hole 56 are cooperated, and the bearing 54 is guided to the member, and the plate 18 is detached from the member. - 特許庁

封止を解くには、第１連結部４７および第２連結部１５を切断し、本図の右方にある第１基台部１９、第２基台部１７からボス対７を離脱させる。例文帳に追加

For unsealing, first and second link parts 47 and 15 are cut off to separate bosses 7 paired from first and second base parts 19 and 17 as shown at the right of the drawing. - 特許庁

所定の溶媒に対する親溶媒性の基を有することにより該溶媒に可溶であり、逆ディールス・アルダー反応によって該親溶媒性の基が脱離して該溶媒に対する溶解度が不可逆的に低下可能である化合物。例文帳に追加

The new compound has a group with affinity for a specific solvent, therefore being soluble to the solvent, and allows the solubility to the solvent to be decreased irreversibly through eliminating the group by inverse Diels-Alder reaction. - 特許庁

基板に取着しかつ離脱する実装用部品の取り付けはもとより、取り外しを基板の表面側から容易に行うことを可能にしたスナップ構造を提供する。例文帳に追加

To provide a snap structure by which a component for mounting to be mounted on, and removed from, a board can be attached and removed easily with reference to the surface side of the board. - 特許庁

ＬＥＤ実装基板が着脱可能な構造になっており、導光板が遊動しても導光板の受光面とＬＥＤ実装基板との距離の精度が向上したバックライトユニットを供給すること。例文帳に追加

To provide a backlight unit having an attachable/detachable LED mounting board, while improving the accuracy of a distance between the light receiving face of a light guide plate and the LED mounting board, even if the light guide plate is moved freely. - 特許庁

酸又は塩基不安定基の脱離度が高度に制御され、優れた特性を発揮する重合体を簡便にかつ安定的に製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a process for simply and stably producing a polymer which has a highly controlled degree of elimination of groups unstable toward an acid or a base, and exhibits excellent properties. - 特許庁

基盤ケースから離脱した痕跡が必ず残るようにする一方、固定部材を新たに交換することを可能とすることにより、基盤ケースの開放が度重なる場合でも、一部の部品交換で継続的に使用することを可能とする。例文帳に追加

To continuously use a game machine by partially replacing components even if a board case is repeatedly opened by surely leaving a trace of its separation from the board case and newly replacing a fixing member. - 特許庁

第２工程では、真空中で前記基板１を昇温させることにより、前記改質マスク部３以外の部分の前記自然酸化膜２を脱離させて基板表面を露出させる。例文帳に追加

In a second process, the temperature of the substrate 1 is raised in vacuum, so that the natural oxide film 2 in other than the reformed mask part 3 is desorbed for substrate surface exposuse. - 特許庁

紙様シート基材への水の浸透を防止し、シリコーンの離脱・移行を抑制できる、より優れた撥水性及び撥油性の性能を紙様シート基材に付与することができる撥水撥油組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a water- and oil-repellent composition that can prevent the water permeation into a paper-like sheet substrate, inhibit the release and migration of a silicone and impart more excellent water- and oil-repelling capabilities to the paper-like sheet substrate. - 特許庁

透光性基板１４を所定温度以上に保温する保温手段１５ａと、透光性基板１４から再脱離した不純物３ｃを捕集するための冷却手段２０と、を設ける。例文帳に追加

A heat insulating means 15a to keep the translucent substrate 14 at a prescribed temperature or higher, and a cooling means 20 to collect the impurities 3c eliminated again from the translucent substrate 14 are provided. - 特許庁

４５度以上傾けるので、基板下部のエッチングを妨げる反応生成物が基板表面から脱離下降しやすくなり、エッチング量の上下方向の不均一やばらつきが抑制される。例文帳に追加

With an inclination 45° or more, a reaction product preventing etching at the lower part of the substrate tends to peel off and drop from the substrate surface, so that unevenness or dispersion in etching amount in vertical direction is suppressed. - 特許庁

凹部３６内に流入された半田によって基板接続部３４に作用する上方への引っ張り力に抗することができるので、基板接続部３４が導体部６０から離脱するのを防止できる。例文帳に追加

Since the board connecting portion 34 can resist upward tensile force applied to it by the solder flowing into the recessed part 36, the board connecting portion 34 can be prevented from being uncoupled from the conductor portion 60. - 特許庁

四角筒状の角筒部と直方体の拡幅部とからなる接続部材（４００）を介してケース蓋（３００）とケース基体（２００）とを離脱不能に係合し制御基板（ＭＣＢ）を収容する。例文帳に追加

A case lid 300 and a case base body 200 are undetachably engaged with each other to store a control board MCB via a connection member 400 consisting of a square-pipe-shaped square pipe part and a rectangular parallelepiped wide part. - 特許庁

複数の異なる選択条件下で基材に被分析物を吸着させる工程、および脱離スペクトロメトリによって基材に保持される被分析物を検出する工程を包含する。例文帳に追加

The retentate chromatography method includes a process for adsorbing analytes in a substrate under a plurality of different selection conditions and a process for detecting the analytes held in the substrate by desorption spectrometry. - 特許庁

真空中で、基板を静電吸着装置に吸着保持した状態で搬送する際に、搬送終了後に短時間で基板を静電吸着装置から容易に離脱させる技術に関する。例文帳に追加

To provide a technique for easily removing a substrate from an electrostatic attraction device in a short time after the end of transporting the substrate in a vacuum in a state wherein the substrate is attracted to and held on the electrostatic attraction device. - 特許庁

基板の表面がポリヒドロキシ高分子化合物で表面被覆され、該ポリヒドロキシ高分子化合物中のヒドロキシル基の１〜９０％がカルボキシ化されており、該カルボキシ基が、荷電を有する基と反応性脱離基を含有するように活性化されていることを特徴とする、バイオセンサー。例文帳に追加

This biosensor is characterized as follows: the substrate surface is coated by a polyhydroxy polymer compound; 1-90% of hydroxyl groups in the polyhydroxy polymer compound is carboxylated; and a carboxyl group is activated so as to include a charged group and a reactive leaving group. - 特許庁

（Ｒ１は水素原子又はアルキル基、Ｒ２はアルキル、アリール又はヘタリール基、Ｒ３はアルキル又はアリール基、Ｒ４はアルキル、アルケニル基等、Ｚは水素原子又は発色現像の条件下に離脱することができる基を示す。）例文帳に追加

In formula (1), R^1 is a hydrogen atom or alkyl group, R^2 an alkyl, aryl, or hetaryl group, R^3 an alkyl or aryl group, R^4 an alkyl or alkenyl group, etc., and Z a group a hydrogen atom or group capable of leaving under a condition of a coloring phenomenon. - 特許庁

半導体ウエハ等の基板の変形および基板にかかる応力を低減し、基板の欠陥や基板の破損を防止して、基板のトップリングからの離脱（リリース）を安全で効率的に行うことができる研磨装置および方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing device and a method in which a substrate can be withdrawn (released) from a top ring of the substrate safely and efficiently by reducing deformation of the substrate such as a semiconductor wafer and a stress applied to the substrate, thereby preventing defect and damage of the substrate. - 特許庁

Ｎ末端保護基および電気的陰性脱離基に連結されたＣ末端Asp 残基を有する１〜約５個のアミノ酸残基のアミノ酸配列を有し、そのアミノ酸配列が、配列Ala-Tyr-Val-His-Asp 、すなわち配列番号３の残基１１２〜１１６の少なくとも一部分に実質的に相当する化合物。例文帳に追加

This compound contains an amino acid sequence of 1 to about 5 amino acid residues containing an N-terminal protecting group and a C terminal Asp residue connected to an electric negative eliminable group in which the amino acid sequence is substantially equivalent to a sequence Ala-Tyr-Val- His-Asp, namely at least a part of residue 112-116 of sequence number 3 in the specification. - 特許庁

４−デメチルダウノマイシノンの７位水酸基にトリアルキルシリル基を導入し、次いで４位水酸基にトリフルオロメタンスルホニル基を導入した後、導入されたこれらの基を、パラジウム触媒還元により一段階で脱離することを含んでなる４−デメトキシダウノマイシノンの製造方法。例文帳に追加

This method for 4-demethoxydaunomycin production comprises introducing a trialkylsilyl group to a hydroxy group at the 7-position of 4- demethyldaunomycin, then introducing a trifluoromethanesulfonyl group to a hydroxy group at the 4-position and eliminating these introduced groups by a palladium catalytic reduction at one stage. - 特許庁

スピン処理ユニット２にて、基板が回転されることで基板表面の水膜の厚みが調整された後、水膜が凍結されることで水膜の体積が膨張し、基板表面に付着する粒子と基板との間の付着力が弱まり、さらには粒子が基板表面から脱離する。例文帳に追加

In a spin processing unit 2, the thickness of the water film on the substrate surface is adjusted by rotation of the substrate, the volume of the water film increases by freezing the water film, the adhesion force between the particles adhering on the substrate surface and the substrate is weakened, and further, the particles are separated from the substrate surface. - 特許庁

ドデシルベンゼンスルホン酸を含む剥離液により、パターン形成工程後の回路基板に対し、レジスト膜を溶解するレジスト剥離工程、上記レジスト剥離工程後の回路基板をアルコール脱脂した後、青化ソーダにより基板表面を活性化する表面活性化工程、上記表面活性化工程により表面の活性化された回路基板を洗浄する洗浄工程、により回路パターンを形成する。例文帳に追加

The method for forming a circuit pattern includes steps of: exfoliating resist by dissolving the resist film on the circuit board after forming patterns by an exfoliating solution including dodecylbenzenesulfonic acid; surface activating the surface of a substrate by cyanide sodium after alcohol-defatting the substrate after the resist exfoliation step; and cleaning the circuit board with its surface activated by the surface activation step. - 特許庁

ポリカルボン酸と片方のアミノ基が保護されたジアミンとを反応させる工程（１）、工程（１）で得られる生成物中の未反応のカルボキシル基を保護する工程（２）、工程（２）で得られる生成物中のアミノ基の保護基を脱離させる工程（３）、カルボキシル基及び有機蛍光団を含む有機化合物と工程（３）で得られるアミノ基が導入されたポリカルボン酸を反応させる工程（４）、工程（４）で得られる生成物中のカルボキシル基の保護基を脱離させる工程（５）の各工程の反応を経て、ポリカルボン酸に有機蛍光団を含む有機基を導入する。例文帳に追加

This fluorescent labeling polycarboxylic acid contains 0.1-20 mol% fluorescent labeling monomer unit of the formula (R is a 1-24C nonaromatic hydrocarbon; X is an organic group containing an organic fluorophore). - 特許庁

遊離プロトンによる処理前後のアルカリ水溶液への溶解性の変化等の特性と基板密着性が高いレベルで両立され、様々な用途に好適に適用することができるプロトンによる脱離性基を有する共重合体を提供する。例文帳に追加

To provide a copolymer bearing a group removable by a proton which fulfils at a high level both characteristics such as changes in solubility in an aqueous alkali solution by treatment with a free proton, and the like and adhesion to a substrate, and is suitably applied to various uses. - 特許庁

容器に紙を基材とした印刷物として貼着する耐水性、意匠性に優れたラベルにおいて、必要に応じて容器等から容易にアルカリ液で剥離可能で、かつ紙基材をも回収再生を可能するアルカリ脱離性ラベルの提供にある。例文帳に追加

To provide an alkali-releasable label which is easily peelable from a container, etc., with an alkali liquid if necessary and whose paper base material can be recovered and regenerated in the label which is stuck on the container as a printed matter using a paper as a base material and has excellent design properties. - 特許庁

形状記憶機能を有する多孔質フィルムと補強基材からなる分離膜を有する分離膜モジュール（２）を用いた懸濁質分離装置の懸濁質分離の通常運転により、モジュール（２）の１次側の膜面が目詰まりして透過速度が低下した際、ガラス転移点以上の温度の浄化流体を用いて多孔質膜の孔径を通常運転時の孔径より大きくし、堆積した懸濁質を効率良く膜面より離脱させる逆洗浄運転を行う。例文帳に追加

This method is intended for operating a suspended matter separator using a separation film module 2 provided with a separation film which consists of a porous film having a shape memory function and a reinforcing base material. - 特許庁

基板１１に実装される電子装置であって、基板１１に実装されるＩＣ２０と、このＩＣ２０にポッティングされるポッティング樹脂５０の流出を防止する流出防止部材３０（枠状ダム部３１と十字状アーム部３２とよりなる）と、この流出防止部材３０をＩＣ２０に脱離可能に装着する脱離機構４０とを有する。例文帳に追加

The electronic apparatus mounted on the substrate 11 includes IC20 mounted on the substrate 11, an outflow preventing member 30 (consisting of a frame-like dam 31 and a cross-shape arm 32) preventing outflow of potting resin 50 potted to IC 20, and a detaching mechanism 40 installing the outflow preventing member 30 on IC20 so that it can be detached. - 特許庁

分子構造中に、逆ディールス−アルダー反応により、加熱等の簡易な手段で可溶性付与基を含む部分を脱離することができる、直接的或いは間接的に結合された可溶性付与基が結合している脱離部分を有する顔料前駆体化合物、該化合物を含有する顔料組成物、インク組成物及びこれを用いた記録方法の提供。例文帳に追加

To provide a pigment precursor compound having a leaving part bonded with a directly or indirectly bonded dissolvability-imparting group and capable of leaving the part containing the dissolvability-imparting group by a simple means such as heating through a reverse Diels Alder reaction in its molecular structure, a pigment composition containing the compound, an ink composition and a method for recording by using the same. - 特許庁

１又は２個の脱離基が芳香族環に結合している芳香族化合物と、これと同一の芳香族化合物又は、１又は２個の脱離基が芳香族環に結合しているこれとは相異なる芳香族化合物とをニッケル触媒、金属亜鉛及びヨウ化亜鉛の存在下カップリング反応させることを特徴とする共役芳香族化合物の製造方法。例文帳に追加

The method for producing a conjugated aromatic compound comprises subjecting an aromatic compound containing one or two eliminable groups bonded to an aromatic ring and the same aromatic compound or an aromatic compound containing one or two eliminable groups bonded to an aromatic ring but different from the aromatic compound, to a coupling reaction in the presence of a nickel catalyst, a zinc metal or zinc iodide. - 特許庁

アルキルビニルエーテル等を用いて、α位にパーフルオロアルキル基を有する水酸基を酸解離性保護基で保護した状態で、アルキルリチウム及び鉱酸塩の存在下でリビングアニオン重合を行った後、該保護基を脱離させることにより、水酸基のα位にパーフルオロアルキル基を有する（メタ）アクリル酸系（共）重合体を製造する。例文帳に追加

A (meth)acrylate (co)polymer having a perfluoroalkyl group at the α-site of the hydroxyl group is produced by carrying out living anionic polymerization using an alkyl vinyl ether, etc., in the presence of an alkyllithium and a mineral acid salt in a state to protect the hydroxyl group having a perfluoroalkyl group at the α-site with an acid-cleavable protection group and eliminating the protection group after the polymerization. - 特許庁

Ａ−［（Ｊ）_m−（Ｘ−Ｐｒｏ）］_n （１） （式中、Ａは、炭化水素基及び複素環基から選択された少なくとも一種の疎水性基で構成された疎水性ユニットを示し、Ｊは連結基を示し、Ｘ−Ｐｒｏは光照射に起因して脱離可能な保護基Ｐｒｏで保護された親水性基を示す。ｍは０又は１、ｎは１以上の整数である） 前記保護基Ｐｒｏは、光照射により、感光剤（特に酸発生剤）と関連して脱離可能であってもよく、疎水性保護基であってもよい。例文帳に追加

The above protecting group Pro may be eliminated by the light irradiation in association with the photosensitizer (especially an acid- generating agent), or may be a hydrophobic protecting group. - 特許庁

シート固定レバー４７の基端側は、大型プリンタの横方向から着脱可能に固定レバーホルダ５６内に保持されており、シート固定レバー４７への弱い衝突力によって容易にシート固定レバーが離脱可能である。例文帳に追加

The base end side of the sheet fixing lever 47 is detachably kept in a fixing lever holder 56 from a lateral direction of the large-sized printer, and the sheet fixing lever 47 can be easily brake off by weak collision power to the fixing lever 47. - 特許庁

そして、弁装置１は、螺脱操作に基づきコネクタ１５を接続部１７から脱離させることにより、バルブボディ２とコネクタ１５との間を気密に封止しつつ入力ポート２６と出力ポート１６との間を短絡可能に形成される。例文帳に追加

The valve device 1 is formed so that the input port 26 and the output port 16 can be shunted, while airtightly sealing between the valve body 2 and the connector 15, by detaching the connector 15 from the connection part 17 based on an unscrewing operation. - 特許庁

可動支持体５には後方押動片１２に係脱し、その回転を規制するロックバー１９が軸支してあり、基体１には可動支持体５が所定の位置に後退した時にロックバー１９を後方押動片１２から離脱させる起動ローラー２６が設けてある。例文帳に追加

Also, a lock bar 19 connected to and disconnected from the rear pressing piece 12 for restricting the rotation thereof is journalled to the moving support 5, and the base body 1 is fitted with a start roller 26 for causing the lock bar 19 to be disconnected from the rear pressing piece 12 when the moving support 5 retreats to a preset position. - 特許庁

半導体装置の製造方法は、半導体基板１３の上に形成されている被処理膜に対してドライエッチングを行った後、半導体基板１３を加熱することにより、半導体基板１３の上に滞留している残留成分を半導体基板１３から脱離させる。例文帳に追加

In this method for manufacturing a semiconductor device, a treated film formed on a semiconductor substrate 13 is dry-etched, and the semiconductor substrate 13 is heated so that the residual components retained on the semiconductor substrate 13 can be removed from the semiconductor substrate 13. - 特許庁

このプラズマ処理装置１では、基板１０に向けて供給されたプラズマ中の活性化原子（ラジカル）と基板１０とが反応し、この反応物を基板１０から脱離させることにより、基板１０に対してエッチング加工を施すことができる。例文帳に追加

In the plasma treatment chamber 1, activated atoms (radicals) in the plasma fed toward the substrate 10 are reacted with the substrate 10, and, by releasing the reactant from the substrate 10, etching can be performed to the substrate 10. - 特許庁

本発明によって製造できる2-(2,2,2-トリクロロエトキシカルボニルアミノ)-2-デオキシ-α-D-グルコピラノシドのTroc基は、特異的な反応条件下で脱保護でき、アミノ基遊離にすることができ、またアミノ基は容易にアセチル化することができ、アセトアミド基に変換することが可能である。例文帳に追加

The Troc group of the 2-(2,2,2-trichloroethoxycarbonylamino)-2-deoxy-α-D-glucopyranoside produced by the invention can be deprotected under a specific reaction condition to form a free amino group, and the amino group can easily be acetylated and converted to an acetamido group. - 特許庁

制御基板Ａに取り付けられ、当該制御基板ユニットＵＮを識別するための識別シールＬＢと、制御基板Ａが取り付けられていない第２ケース部材Ｃに基板収容ケースの外部から着脱可能な突起部材（剥離部材）Ｈとを備える。例文帳に追加

The game machine includes an identification seal LB attached to a control board A for identifying a control board unit UN, and a projecting member (a releasing member) H detachably attached to a second case member C in which the control board A is not mounted from outside a board housing case. - 特許庁

ベンジル基で保護されたα−２−シロキシ−３−フルオロシアル酸誘導体の、シロキシ基をＸ−Ｒ（ここで、Ｘは脱離基、Ｒは有機基を表す。）で表される化合物と置換反応させることを特徴とするα−グリコシド結合を有する３−フルオロシアル酸誘導体の製造方法。例文帳に追加

The production method for the 3-fluorosialic acid derivative having the α-glycoside linkage comprises the replacement reaction of the siloxy group of α-2-siloxy-3-fluorosialic acid derivative protected by a benzyl group with a compound represented by X-R (wherein X is a leaving group, and R is an organic group). - 特許庁