「ACID BASE」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

The transparent gas-barrier film 11 is equipped with a plastic base material film 111, a primer layer 112 which is formed on the one main surface of the base material film and contains a polyurethane having aromatic carboxylic acid groups and aliphatic carboxylic acid groups, and an inorganic oxide layer 113 formed on the primer layer by gas phase deposition method.例文帳に追加

透明ガスバリア性フィルム１１は、プラスチック基材フィルム１１１と、前記基材フィルムの一方の主面上に形成され、芳香族カルボン酸基と脂肪族カルボン酸基とを有するポリエステルウレタンを含んだプライマー層１１２と、前記プライマー層上に気相堆積法によって形成された無機酸化物層１１３とを具備する。 - 特許庁

To obtain a 2-aminopurine derivative functioning as an oliginucleotide precursor enabling a specific cross-linking reaction toward a base sequence of a target nucleic acid by developing a reactive group having a high reactivity and a high base sequence specificity to the target nucleic acid and introducing the same into the oligonucleotide.例文帳に追加

標的核酸に対して高い反応性と高い塩基配列特異性を同時に有する反応性基を開発し、それをオリゴヌクレオチドに導入することにより標的核酸の塩基配列に対して特異的な架橋反応を可能とするようなオリゴヌクレオチド前駆体として機能する２−アミノプリン誘導体を提供すること。 - 特許庁

After forming terminals made from a metal film containing additives for raising the adhesion of terminals to a support base so as to adhere it to the surface of the base, a step of washing the terminals with an organic acid solution (preferably water solution of acetic acid) is followed by a heat treatment at about 500°C.例文帳に追加

端子を支持する基体との固着性を高めるための添加物を含有した金属膜からなる端子を、当該基体の表面上に固着するように形成した後、当該端子を有機酸の溶液（好ましくは酢酸の水溶液）で洗浄する洗浄工程を行い、その後、約５００℃の温度で熱処理を行う。 - 特許庁

An oligonucleotide primer is specifically hybritized with optional base sequence designed based on an S-area base sequence of the B-type hepatitis virus; a nucleic-acid amplification method uses the primer; a diagnostic method of infection with the B-type hepatitis virus detects nucleic-acid amplification; and a kit diagnoses infection with the B-type hepatitis virus.例文帳に追加

Ｂ型肝炎ウイルスのＳ領域の塩基配列から設計された任意の塩基配列と特異的にハイブリダイズするオリゴヌクレオチドプライマー、該プライマーを用いた核酸増幅法、核酸増幅の検出によるＢ型肝炎ウイルス感染の診断方法、並びにＢ型肝炎ウイルス感染を診断するためのキット。 - 特許庁

The expanded polyester resin particle is made from base resin mainly consisting of a mixture of an aliphatic polyester resin and an copolymerized polyester resin which contains a terephthalic acid component unit and an adipic acid and/or succinic acid component unit as a polycarboxylic acid component unit and of which the melting point ranges 90-150°C.例文帳に追加

脂肪族ポリエステル樹脂と共重合ポリエステル樹脂との混合物を主成分とする基材樹脂から形成された発泡粒子であって、該共重合ポリエステル樹脂が、多価カルボン酸成分単位として、テレフタル酸成分単位と、アジピン酸成分単位及び／又はコハク酸成分単位とを含む融点が９０〜１５０℃である共重合体であることを特徴とするポリエステル系樹脂発泡粒子。 - 特許庁

The base sheet for dicing contains a component A consisting principally of the chlorine-containing resin, a component B consisting principally of a resin containing as copolymerization components at least one kind of dicarboxylic acid selected out of succinic acid, adipic acid and terephthalic acid, and 1,4-butanediol, and an epoxy group-containing resin in predetermined proportion, the sheet having a single glass transition temperature.例文帳に追加

塩素含有樹脂を主とする成分Ａと、コハク酸、アジピン酸、及びテレフタル酸から選ばれる少なくとも１種のジカルボン酸と、１，４−ブタンジオールとを共重合成分として含む樹脂を主とする成分Ｂと、エポキシ基含有樹脂とを、所定の比率で含有し、シートのガラス転移温度が単一であることを特徴とするダイシング用基材シートを提供する。 - 特許庁

The absorbent comprises an acid component additive material having a first carrier comprising a porous carrier, an aromatic amino acid acidic salt supported on the first carrier and acid supported on the first carrier and a basic component additive material having the second carrier comprising a porous carrier, an aromatic amino acid basic salt supported on the second carrier and a base supported on the second carrier.例文帳に追加

本発明の吸着材は、多孔質担体よりなる第一担体と、第一担体に担持された芳香族アミノ酸酸性塩と、第一担体に担持された酸と、を有する酸性成分添着材と、多孔質担体よりなる第二担体と、第二担体に担持された芳香族アミノ酸塩基性塩と、第二担体に担持された塩基と、を有する塩基性成分添着材と、からなることを特徴とする。 - 特許庁

The resist composition comprises a base material component (A) of which the solubility in an alkali developer changes by the action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, wherein the acid generator component (B) is a polymer using an α-(un)substituted acrylic ester having a specific sulfonyl oxime in a side chain as a constitutional unit.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、特定のスルホニルオキシムを側鎖に有するα−（未）置換アクリル酸エステルを構成単位としてなる重合体であることを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

The quality control method of the folic acid microarray includes synthesizing a probe nucleic acid including bases capable of forming base pairs with a plurality of kinds of nucleic acid bases, or a probe nucleic acid set including sequences individually complementary to the whole sequences to prepare a reagent for the quality control, and hybridizing a probe-immobilized carrier with the reagent for the quality control before or at the inspection of a specimen.例文帳に追加

複数種の核酸塩基との塩基対を形成可能な塩基を配列に含むプローブ核酸、または、あらゆる配列に個別に相補的な配列からなるプローブ核酸セット、を合成して品質管理用試薬として用意し、プローブ固定単体を検体の検査に用いる前、または検体の検査と同時に、これらの品質管理用試薬とハイブリダーゼーションさせる。 - 特許庁

The resist pattern thickening material comprises a resin, a crosslinking agent and at least one selected from a cationic surfactant, an amphoteric surfactant and nonionic surfactants consisting of an alkoxylate-base surfactant, a fatty acid ester-base surfactant, an amide-base surfactant, an alcoholic surfactant and an ethylene diamine-base surfactant.例文帳に追加

樹脂と、架橋剤と、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、並びに、アルコキシレート系界面活性剤、脂肪酸エステル系界面活性剤、アミド系界面活性剤、アルコール系界面活性剤及びエチレンジアミン系界面活性剤からなる非イオン性界面活性剤から選択される少なくとも１種とを含有するレジストパターン厚肉化材料。 - 特許庁

This method for detecting the presence of the target DNA is provided by using a target DNA-detecting probe obtained by connecting a complemental base sequence to the target DNA and an optionally selectable base sequence which is not complemental, and amplifying a nucleic acid signal composed of oligo nucleotide containing a base sequence complemental to the base sequence which is not complemental to the target DNA in the probe.例文帳に追加

標的ＤＮＡに対し相補的な塩基配列と相補的でない任意に選択可能な塩基配列とが結合している標的ＤＮＡ検出用プローブを用い、該プローブにおける標的ＤＮＡに相補的でない塩基配列に対して相補的な塩基配列を含むオリゴヌクレオチドからなる核酸シグナルを増幅させる。 - 特許庁

The method for producing the carbon black aqueous dispersion is characterized by subjecting carbon black to a liquid phase oxidation treatment, removing reducing salts in the slurry, neutralizing the residue with a basic amino acid to replace a part or all of the hydrogen atoms of the acidic groups by the basic amino acid base to obtain the basic amino acid salt compound, and then purifying the product.例文帳に追加

その製造方法は、カーボンブラックを液相酸化処理し、次いでスラリー中の還元塩を除去した後、塩基性アミノ酸で中和して酸性基の水素の一部あるいは全部を塩基性アミノ酸塩基で置換して塩基性アミノ酸塩化合物とした後、精製することを特徴とする。 - 特許庁

To detect a specific sequence of a nucleotide containing a DNA sequence in various nucleic acid samples, more specifically only one change in nucleic acid base pairs in those samples, i.e., any difference from the normal sequence of a nucleic acid sequence containing deletion, insertion, or transposition.例文帳に追加

種々の核酸試料中で、ヌクレオチドの特異的な配列、より詳細にはそれらの試料中に１つだけの核酸塩基対の変化、即ち、欠失、挿入、または転移を含んでいる核酸配列の標準配列との違いを特徴とするＤＮＡ配列を含んでいるヌクレオチドの特異的な配列を検出する。 - 特許庁

The method for producing a polyimide film comprises using a solution consisting of a polyamic acid and a catalyst compound capable of conducting an acid-base interaction with the polyamic acid by a film casting method to form a film, immersing the obtained film in a liquid in which the catalyst compound in the solution and the film-forming solvent are soluble and drying the film.例文帳に追加

ポリアミック酸と、前記のポリアミック酸と酸塩基相互作用可能な触媒化合物からなる溶液を用い流延法により製膜し、得られたフィルムを、前記溶液中の触媒化合物および製膜溶媒が可溶である液に浸漬した後、フィルムを乾燥することを特徴とするポリイミドフィルムの製造方法。 - 特許庁

The negative resist composition includes a base material component (A) consisting of a polynuclear phenol compound having a functional group which is chemically converted by the action of an acid to reduce solubility in an alkali developer and a triphenylmethane compound, and an acid generator component (B) which generates an acid upon irradiation with radiation.例文帳に追加

酸の作用によって化学変換されアルカリ現像液に対する溶解性が減少する官能基を有する多核フェノール化合物および、トリフェニルメタン化合物から構成される、基材成分（Ａ）と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含むことを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The alloy electrode is manufactured by performing electrolysis using a plating solution which contains a souble salt of the iron, a soluble salt of the cobalt, a soluble salt of the nickel, oxycarboxylic acid and aminocarboxylic acid and is regulated in pH to ≤2 by adding an acid thereto, and depositing an Fe-Co-Ni-C alloy on a suitable cathode base material.例文帳に追加

この合金電極は、鉄の可溶性塩、コバルトの可溶性塩、ニッケルの可溶性塩、オキシカルボン酸およびアミノカルボン酸を含有し、酸を加えてｐＨ２以下としたメッキ液を使用して電解を行ない、適宜の陰極基材上に、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃ合金を析出させることにより製造する。 - 特許庁

The base for the acid gel food that contains low methoxyl pectin, collagen peptides, organic acids, and organic acid salts, wherein the collagen peptide of 2-10 mass% and the organic acids of 2 mass% or less are contained while a mass ratio of the organic acid salts content to the organic acids content is less than 1.例文帳に追加

低メトキシルペクチンと、コラーゲンペプチドと、有機酸と、有機酸塩とを含み、前記コラーゲンペプチドの含有量が２質量％〜１０質量％、前記有機酸の含有量が２質量％以下、且つ前記有機酸塩の含有量が前記有機酸に対する質量比で１未満である酸性ゲル状食品用ベースである。 - 特許庁

A positive type chemical amplification type resist material containing a base resin which is made alkali-soluble by reaction in the presence of an acid, an acid generating agent which generates the acid when irradiated with electron beams, and an amine compound with 250°C or lower boiling point is applied on a semiconductor substrate 10 to form a resist film 11.例文帳に追加

酸の存在下で反応してアルカリ可溶性に変化するベース樹脂と、電子ビームが照射されると酸を発生する酸発生剤と、沸点が２５０℃以下のアミン化合物とを含むポジ型の化学増幅型レジスト材料を半導体基板１０の上に塗布してレジスト膜１１を形成する。 - 特許庁

This anthranilic acid synthase of the rice is formed by introducing variation into a base sequence of anthranilic acid synthase gene OASA2 of the rice and bringing about substitutions at two or more specified amino acids, wherein the synthase acquires the resistance against the feedback inhibition caused by the tryptophane and keeps enzyme activity equal to or higher than that of an anthranilic acid synthase of wild-type rice.例文帳に追加

イネアントラニル酸合成酵素遺伝子ＯＡＳＡ２の塩基配列に変異を導入し、特定の複数のアミノ酸に置換が生じたイネアントラニル酸合成酵素は、トリプトファンによるフィードバック阻害に対する抵抗性を獲得すると共に野生型イネアントラニル酸合成酵素と同程度以上の酵素活性を維持している。 - 特許庁

The sulfuric acid base copper plating liquid for a semi-additive comprises at least one kind selected from 3-mercapto-1-propanesulfonic acid and bis(3-sulfopropyl) disulfide, a quaternary ammonium salt polymer with a cyclic structure and chlorine, and has a copper concentration of 23 to 55 g/L and a sulfuric acid concentration of 50 to 250 g/L.例文帳に追加

セミアディティブ用硫酸系銅めっき液であって、３−メルカプト−１−プロパンスルホン酸又はビス（３−スルホプロピル）ジスルフィドから選択された少なくとも一種と環状構造を持つ４級アンモニウム塩重合体と塩素とを含み、銅濃度が２３〜５５ｇ／Ｌであり、硫酸濃度が５０〜２５０ｇ／Ｌである。 - 特許庁

This positive type resist composition contains: a fluorine-contained high molecular compound (F) containing a structural unit (f1) having decomposition property to an alkali liquid developer as a block copolymerization part ; a base material component (A) increased in solubility to the alkali liquid developer by action of acid; and an acid generating agent component (B) adapted to generate an acid by exposure.例文帳に追加

アルカリ現像液に対して分解性を有する構成単位（ｆ１）をブロック共重合部位として含む含フッ素高分子化合物（F）と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、 露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A resist film 11 consisting of a chemical amplification type resist material including a hydrophobic base polymer which is made hydrophilic by elimination of a protective group by an acid elimination reaction and an acid generating agent to generate an acid with light is formed and thereafter this resist film 11 is irradiated with an F_2 laser beam 14 across a mask 12 and is thus exposed with patterns.例文帳に追加

酸脱離反応により保護基が脱離して親水性となる疎水性のベースポリマーと、光により酸を発生する酸発生剤とを含む化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１１を形成した後、該レジスト膜１１にマスク１２を介してＦ_2 レーザ光１３を照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

The cosmetic comprises the mixture of the surface treated powder in which the surface of two or more kinds of base powders (titanium oxide, iron oxide, etc.) is coated with a polymer containing an acrylic monomer of a specific structure (e.g. 12-methacrylamidododecanoic acid homopolymer or a 11-methacrylamidoundecanoic acid/1-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid copolymer) as a constituent monomer.例文帳に追加

２種以上の基粉体（酸化チタン、酸化鉄など）の表面上に特定構造のアクリル系モノマー（例えば、１２−メタクリルアミドドデカン酸ホモポリマー、１１−メタクリルアミドウンデカン酸／１−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸コポリマー）を構成モノマーとして含有するポリマーが被覆された表面処理粉体混合物を含有する化粧料。 - 特許庁

This sealing agent is prepared by blending at least one kind of compound selected from the group; 5-aminotetrazole, 5-methylbenzotriazole, 2-(4-tiazolyl)benzoimidazole and 2-mercaptobenzotoiazole as a rust preventive agent and at least one kind of compounds selected from the group; dibasic acid, the amine salt of the dibasic acid, neopentylpolyol ester and fatty acid of castor oil ester as base oil.例文帳に追加

防錆剤として５−アミノテトラゾール、５−メチルベンゾトリアゾール、２−（４−チアゾリル）ベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾチアゾールのうち少なくとも一種を、ベース油として二塩基酸、二塩基酸のアミン塩、ネオペンチルポリオールエステル、ヒマシ油脂肪酸エステルのうち少なくとも一種を、溶剤に配合して封孔処理剤を調製する。 - 特許庁

The resist composition for liquid immersion lithography includes a base component (A) of which the solubility in an alkali developer changes by the action of an acid, an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure to light, and the fluorine-containing copolymer (C) having a constitutional unit represented by general formula (c1-1).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、下記一般式（ｃ１−１）で表される構成単位を有する含フッ素共重合体（Ｃ）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 - 特許庁

This patch contains a pressure-sensitive adhesive matrix which contains a rubber-based pressure-sensitive adhesive base and a fatty acid metal salt component, wherein a blended ratio of the fatty acid metal salt component is 0.1-9 mass% based on a total amount of the pressure-sensitive adhesive matrix and the fatty acid metal salt component contains at least magnesium stearate.例文帳に追加

ゴム系粘着基剤と、脂肪酸金属塩成分とを含有する粘着マトリクスを含む貼付剤であって、該脂肪酸金属塩成分の配合割合が粘着マトリクス全体の０．１〜９質量％であり、該脂肪酸金属塩成分が少なくともステアリン酸マグネシウムを含有する貼付剤。 - 特許庁

The resist composition contains a base component (A) whose solubility with respect to an alkali developing solution changes by an action of an acid, and an acid generator component (B) generating an acid by exposure.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

This layer 6 has a laminated structure and a lower layer 6a of the layer 6 that is in contact with the base 1 contains at least one kind of acid type phosphoric ester, while an upper layer 6b formed on the lower layer 6a contains specific polyglycerin fatty acid ester or specific glycerin fatty acid ester.例文帳に追加

耐熱滑性層６は積層構造をなし、耐熱滑性層６のうち基材１に接している下層６ａが、酸型リン酸エステルを少なくとも１種含有し、下層６ａの上に形成される上層６ｂが、特定のポリグリセリン脂肪酸エステルまたは特定グリセリン脂肪酸エステルを含有している。 - 特許庁

The method for preparation of rebamipide specified in formula (1) comprises a step reacting a halomethylcarbostyryl compound and diethylmalonate and then adding a base to the reaction product to produce an acetylcarbostyryl compound by decarboxylation, a step producing a carbostyrylamino acid compound by deprotecting the acetylcarbostyryl compound in a mixture of hydrochloric acid-acetic acid, and an acylation step.例文帳に追加

本発明は、ハロメチルカルボスチリル化合物とジエチルマロネート化合物を反応させた後、反応物に塩基を加えて脱炭酸させてアセチルカルボスチリル化合物を製造した後、塩酸−酢酸の混合液中でアセチルカルボスチリル化合物を脱保護させてカルボスチリルアミノ酸化合物を製造し、アシル化反応させることを特徴とする。 - 特許庁

This bearing oil composition is prepared by dissolving a nonionic surfactant such as a polyoxyalkylene glycol or its ether or ester and an anti-wear agent such as a fatty acid ester (optionally containing a partial ester) of neopentyl glycol, trimethylol propane or pentaerithritol, a phosphate, a phosphite, an acid phosphate or an amine salt of an acid phosphate in a base oil.例文帳に追加

基油に、ポリオキシアルキレングリコール又はそのエーテル若しくはエステルなどの非イオン系界面活性剤と、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン又はペンタエリスリトールの脂肪酸エステル（部分エステルを含んでも良い）、ホスフェート、ホスファイト、アシッドホスフェート、及びアシッドホスフェートのアミン塩などの摩耗防止剤を溶解させて、軸受油組成物とする。 - 特許庁

An apparatus, a method, and a program are disclosed, wherein according to an equation to simulate a binding phenomenon by perfect match and partial match of a nucleic acid fragment, a coefficient to correct an error originating from a part binding of a nucleic acid fragment is obtained, and a concentration of a nucleic acid fragment in a sample is measured in each base sequence.例文帳に追加

核酸断片の完全一致および部分一致により結合する現象をシミュレーションする方程式に従い、核酸断片の部分結合に起因する誤差を補正するための係数を求め、試料中の核酸断片の濃度を塩基配列毎に定量する装置、方法ならびにプログラム。 - 特許庁

The oil and fat composition comprises, in an oil phase, a SUS-type triglyceride of 15-80 mass% (oil phase base) and also comprises a sucrose fatty acid ester having ≤3 HLB and a polyglycerol fatty acid ester having ≤5 HLB at the mass ratio of the former to the latter of 1:9-9:1, wherein the S and the U represent the following fatty acid respectively.例文帳に追加

油相中に、ＳＵＳ型トリグリセリドを１５〜８０質量％（油相基準）含有し、且つ、ＨＬＢが３以下のショ糖脂肪酸エステルと、ＨＬＢが５以下のポリグリセリン脂肪酸エステルとを、１：９〜９：１の質量比率（前者：後者）で含有することを特徴とする油脂組成物。 - 特許庁

In the slippery polyester film, a resin layer including acid-modified polyolefin resin and a crosslinking agent is provided at least on one face of a base material polyester film, and the resin layer includes 100 pts.mass of the acid-modified polyolefin resin wherein a rate of an acid-modified component is 1-10 mass% and 1-50 pts.mass of the crosslinking agent.例文帳に追加

基材ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、酸変性ポリオレフィン樹脂と架橋剤を含有する樹脂層を有し、樹脂層は酸変性成分の割合が１〜１０質量％の酸変性ポリオレフィン樹脂１００質量部と架橋剤１〜５０質量部を含有することを特徴とする易滑性ポリエステルフィルム。 - 特許庁

To provide a filter and a method for cleaning therefor which are excellent in safety because of not using an acid such as hydrochloric acid and sulfuric acid, or a chlorine base sterilant and the like, and which are simple in structure and capable of cleaning for separating microorganisms from a reverse osmosis membrane and for preventing the generation of scales or the like thereon, using a strongly acidic aqueous solution.例文帳に追加

塩酸や硫酸等の酸や塩素系の滅菌剤等を使用しないため安全性に優れ、また、簡単な構造で強酸性水を使用した逆浸透膜の除菌やスケール等の発生を予防するための洗浄を行うことができる濾過装置、及び、その洗浄方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The resist composition contains: base material component (A) caused to change in solubility to an alkali developing liquid by the action of acid; an acid generator component (B) caused to generate acid by exposure; and a nitrogen-containing organic compound (D).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、含窒素有機化合物成分（Ｄ）とを含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物成分（Ｄ）は、下記一般式（ｄ１）で表される化合物を特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

The production method comprises a monoesterification process for reacting a dicarboxylic acid anhydride with an alcohol in the presence of a base catalyst to give a dicarboxylic acid monoester and a recrystallization process for isolating the dicarboxylic acid monoester by a recrystallization method without carrying out an extrusion process and a cleaning process for a reaction solution obtained by the monoesterification.例文帳に追加

ジカルボン酸無水物とアルコールとを塩基触媒の存在下で反応させてジカルボン酸モノエステルとするモノエステル化工程と、該モノエステル化工程で得られた反応液に対して抽出工程や洗浄工程を行うことなく再結晶化法によって該ジカルボン酸モノエステルを単離する再結晶工程とを備える。 - 特許庁

This method for purifying the 4-(2-aminoanilino)pyridine or its acid salt containing the 2-methylbenzimidazole as an impurity, is characterized by mixing the 4-(2-aminoanilino)pyridine or its acid salt with an acid or base in a water solvent in a range of pH 7.5 to 8.1.例文帳に追加

不純物として２−メチルベンズイミダゾールを含有する４−（２−アミノアニリノ）ピリジン又はその酸塩を精製するにあたり、水溶媒中で該４−（２−アミノアニリノ）ピリジン又はその酸塩を酸又は塩基と混合してｐＨ７．５〜８．１の範囲に調整することを特徴とする４−（２−アミノアニリノ）ピリジンの精製方法。 - 特許庁

There are provided antisense compounds of 8-80 nucleic acid base length, targeting nucleic acid molecules encoding the glucocorticoid receptor, wherein the compounds are complementary to the nucleic acid molecules encoding the glucocorticoid receptor, the compounds inhibit expression of the glucocorticoid receptor mRNA and the antisense compounds contain a specific sequence.例文帳に追加

グルココルチコイドレセプターをコードする核酸分子を標的とする8〜80核酸塩基長のアンチセンス化合物であって、前記化合物がグルココルチコイドレセプターをコードする前記核酸分子に相補的であり、前記化合物がグルココルチコイドレセプターmRNAの発現を阻害し、前記アンチセンス化合物が特定の配列を含む、アンチセンス化合物。 - 特許庁

This method for designing the probe nucleic acid, comprising selecting a sequence used for the probe nucleic acid from a base sequence obtained as gene information, is characterized by including a process for removing a sequence region having a prescribed base sequence from the selected range on the basis of profile data related from the double strand nucleic acid with the intercalator, or a process for weighting the sequence region.例文帳に追加

遺伝子情報として取得した塩基配列から、プローブ核酸に用いる配列を選択するプローブ核酸設計方法であって、２本鎖核酸とインターカレーターとの相互作用に関するプロファイルデータに基づいて、所定の塩基配列を有する配列領域を選択範囲から除外する工程、若しくは前記配列領域の重み付けを行う工程を含むプローブ核酸設計方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains a base component which exhibits increased solubility in an alkali developer under the action of an acid and generates an acid upon exposure, wherein the base component contains a polymeric compound having a hydroxystyrene unit, a hydroxystyrene unit having an acetal bond in a side chain, and a hydroxystyrene unit to which a structural unit which generates an acid upon exposure bonds through an acetal bond.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ露光により酸を発生する基材成分を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分が、ヒドロキシスチレン単位と、側鎖にアセタール結合を有するヒドロキシスチレン単位と、露光により酸を発生する構成単位がアセタール結合を介して結合しているヒドロキシスチレン単位とを有する高分子化合物を含有するレジスト組成物。 - 特許庁

A coating solution prepared by mixing at least one kind of an amine compound with poly(meth)acrylic acid is applied to one side or both sides of a film base material comprising a plastic material, and the coated film base material is dried to provide a gas barrier coating film layer.例文帳に追加

プラスチック材料からなるフィルム基材の片面もしくは両面に、少なくとも１種類以上のアミン化合物およびポリ（メタ）アクリル酸を混合してなるコーティング溶液を塗布、乾燥してなるガスバリア性被膜層を設ける。 - 特許庁

The detection of up to a single nucleotide polymorphism can be carried out by designing a probe comprising a completely complemental base sequence to the target nucleic acid, and a probe having a base sequence containing a mismatch in a probe sequence, and comparing the hybridization results.例文帳に追加

プローブ配列において、標的核酸に対し完全相補的な塩基配列からなるプローブとミスマッチを含む塩基配列を有するプローブを設計し、ハイブリダイゼーション結果を比較することで一塩基差まで検出することができる。 - 特許庁

The nucleic acid standard sample having a specific base sequence to be objected is detected by using a probe for standard substrate detection including oligonucleotide comprising at least continuous 15 bases of one of the specific base sequences.例文帳に追加

いづれかの特定の塩基配列の連続する少なくとも１５塩基からなるオリゴヌクレオチドを含む標準物質検出用プローブを用いて、対象となる特定の塩基配列を有する核酸標準試料を検出する。 - 特許庁

The lubricating oil composition includes a lubricating base oil, and 5-5,000 mass ppm of 3, 4, 5-trihydroxy benzoic acid ester and 0.001-10.0 mass% of phosphorous compound based on the total amount of a lubricating base oil component.例文帳に追加

本発明の潤滑油組成物は、潤滑油基油と、潤滑油組成物全量基準で、５〜５０００質量ｐｐｍの３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸のエステルと、０．００１〜１０．０質量％のリン化合物と、を含有する。 - 特許庁

An odor absorbing and moisture absorbing material made of a hydrous magnesium silicate clay mineral or added with diamino monocarboxylic acid salt to it is arranged in an optional state at the boundary face section between a tatami mat facing and a tatami mat base or in the air-permeable structure of the tatami mat base.例文帳に追加

畳表と畳床との界面部又は畳床の通気性構造内部に、含水珪酸マグネシウム質粘土鉱物等や、これにジアミノモノカルボン酸の塩を添着させた吸臭・吸湿材料を任意の形態で配置する。 - 特許庁