「Defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(329ページ目) - Weblio英語例文検索

By optical inspection for defects in the glass substrate, it is found that: the substrate 1 has no defect dependent on the propagation direction of the inspection light; the substrate 1 has no stria inside; and flaws present on the substrate surface have the width (length in the direction of the minor axis) smaller than 1 μm.例文帳に追加

光学的なガラス基板の欠陥検査によって、基板１には検査光の進行方向に依存性をもった久陥は存在せず、基板１内部には脈理がなく、また基板１表面に存在する傷は、その幅（短軸方向の長さ）が１μｍより小さいことが確認されたものである。 - 特許庁

To provide an implantable prosthesis for repairing an anatomical defect, such as a tissue or muscle wall hernia, including an umbilical hernia, and for preventing the occurrence of a hernia at a small opening or weakness in a tissue or muscle wall, such as at a puncture tract opening remaining after completion of a laparoscopic procedure.例文帳に追加

臍ヘルニアを含む組織または筋壁のヘルニア等の解剖学的欠損を修復するための、且つ、腹腔鏡手術の完了後に残っている穿刺路開口等の、組織または筋壁の小さな開口または弱所で、ヘルニアの発生を防止するための、埋め込み型プロテーゼを提供する。 - 特許庁

A gas is supplied to the refrigerant space 20, and pressurized to a predetermined pressure, and the change of the pressure in the cold matter space 30 is detected by a sensor 170 installed at the cooled matter space 30 side to confirm that the plate is free from the damage such as holes and defect.例文帳に追加

この板に生じうる穴や傷等の破損がないことを確認するため、冷媒空間２０にガスを供給し所定の圧力まで加圧し、その後、被冷却物空間３０側のセンサ１７０により被冷却物空間３０内の圧力変化を検出する。 - 特許庁

When the semiconductor substrate is exposed to the high-density plasma, a temperature becomes high only on the extreme surface of the substrate and quickly drops along the thickness of the substrate, so that this property is used to repair a spot defect with heat generated on the surface without advancing diffusion.例文帳に追加

高密度プラズマに半導体基板をさらした場合、基板の極表面のみが高温になり基板の厚み方向では急速に温度が低下するので、この性質を利用すれば、拡散を進めることなく、表面に発生した熱により点欠陥を修復することができる。 - 特許庁

Thereby, frictional resistance upon contact is reduced and alignment is made easy, the spherical spacer 30 and the recess 26a are engaged with each other, displacement in overlapping during alignment, conveyance or thermal curing is reliably prevented to reliably prevent generation of a light leakage display defect.例文帳に追加

これにより、接触時の摩擦抵抗を小さくして位置合わせを容易にすると共に、球状スペーサ３０と凹形状部２６ａとを係合させ、重ね合わせ時や搬送中、熱硬化時における重ねズレを確実に防止して光漏れ表示不良の発生を確実に防止する。 - 特許庁

Common defect types to the number of L are collected in each test, and each test of the tests to the number of N is expressed as correlation vectors to the number of N, and a complementary number of the correlation vector having the most non-zero components among the correlation vectors to the number of N is set as the initial value of a vector W.例文帳に追加

上記課題は、各試験ごとにＬ個の共有欠陥型を収集し、Ｎ個の試験の各試験をＮ個の相関ベクトルとして表現し、Ｎ個の相関ベクトルのうち最も多くの非零成分を有する相関ベクトルの補数をベクトルＷの初期値に設定する。 - 特許庁

To provide protection paper for a cylindrical electrophotographic photoreceptor realizing the reduction of an image defect caused by the protection paper by restraining a flaw such as a pressuring mark whose area is comparatively large but which can not be visually confirmed on the surface of a photoreceptive layer even though the thickness of the protection paper is not increased.例文帳に追加

保護紙の厚みを増さなくとも、感光層表面における、目視で確認できない程度であって、比較的、面積の大きい圧迫痕のような傷の発生を抑制でき、前記保護紙に起因する画像不良を低減する円筒状電子写真感光体用保護紙の提供。 - 特許庁

At this time, the artificial defect 200 is set to a size capable of surely reflecting the ultrasonic beam B, so that even if an inspection object 100 is the weld part 101 of stainless steel by which the ultrasonic beam B is apt to be scattered or deflected, the reflected wave can be surely caught to generate the driving electric signal S3.例文帳に追加

このとき、人工欠陥２００は、超音波ビームＢが確実に反射する大きさとし、検査対象物１００が、超音波ビームＢが散乱、屈折しやすいステンレスの溶接部１０１であっても、反射波Ｒを確実に捉え、駆動用電気信号Ｓ３を生成できるようにした。 - 特許庁

To provide a defective position detecting method and a seek control method performing control for making a head seek at the prescribed cylinder of a recording medium and to reduce the cost of a magnetic disk device by performing the normal positioning control of the head even when the device has the defect related to positional information at the recording medium.例文帳に追加

本発明は記録媒体の所定シリンダにヘッドをシークさせる制御を行う欠陥位置検出方法及びシーク制御方法に関し、記録媒体に位置情報に関する欠陥を有してもヘッドの正常な位置決め制御を行い、低コスト化を図ることを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for preventing the clogging of a nozzle for continuous casting by which the sticking of inclusion in molten steel on the inner wall of the nozzle can reliably be prevented by reducing gas injection rate from the inner wall of the nozzle to such a degree as to prevent a defect caused by gas bubbles.例文帳に追加

本発明は、気泡系欠陥を防止できる程度までノズル内壁からのガス吹き込み流量を低減した上で、溶鋼中介在物のノズル内壁への付着を確実に防止できる連続鋳造用ノズルの閉塞防止方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide the shape of an immersion nozzle with which a steel having small quantity of non-metallic inclusion defect can stably be cast by floating up the non-metallic inclusion stored on the bottom surface of the immersion nozzle to the upper part without again entraining into molten steel, in a continuous casting of the steel.例文帳に追加

鋼の連続鋳造において浸漬ノズルの底面に溜まった非金属介在物を再び溶鋼に巻き込むことなく上部に浮上させることで、非金属介在物欠陥の少ない鋼を安定して鋳造可能とする浸漬ノズルの形状を提供する。 - 特許庁

To provide an optical sheet the transferring original plate of which is fabricated easily and reproducibly, which hardly decreases the brightness of backlight and in which the occurrence of an optical defect due to interference fringes caused by a gap between sheets or close adhesion of sheets can be decreased and to provide a light source using the optical sheet.例文帳に追加

再現性の良い転写原型加工を容易にし、バックライトの輝度を大きく低下せず、シート間の空隙による干渉縞、あるいはシート同士の密着による光学欠陥の発生を低減できる光学シート及びその光学シートを用いた光源を提供する。 - 特許庁

To provide an optical transmission and reception module which is mounted with respective elements such as an optical wave guide and light emitting and receiving elements with high precision without trouble and can increase optical coupling efficiency while preventing an element defect, increase the response speed and transmission speed of the light receiving elements, and also stabilize the reception state.例文帳に追加

光導波路,発光,受光素子の各素子を手間をかけず高精度に実装して、素子不良を防ぎつつ光結合効率を高め、受光素子の応答速度と伝送速度を上げ、かつ受信状態を安定化できる光送受信モジュールを提供する。 - 特許庁

To sense a malfunction of a drainage means within a short period of time from the starting of a drainage step to check the cause of the abnormality according to the contents of a report, thereby rapidly repairing a defect, in a control device of a washing machine wherein a series of a washing, rinsing, and dehydrating steps are automatically performed.例文帳に追加

一連の洗い、すすぎ、脱水行程を自動運転させる洗濯機の制御装置において、排水手段の動作不良故障を排水行程の開始から短時間で検知し、異常原因とその報知内容を一致させて、迅速に修理ができるようにする。 - 特許庁

To provide a receptacle with a bridge function or the like that can reduce the bridge function in the case of extending a home network, prevent a defect due to interruption of transmission of packets caused by extension/ deletion of an IEEE 1394 device, and attain remarkable improvement on the degree of freedom of works or the like.例文帳に追加

ホームネットワークの拡張に際して、ブリッジとしての機能の軽減化、ＩＥＥＥ１３９４機器の増設／削除によるパケットの伝送の中断による弊害防止、施工上の自由度の飛躍的な向上等を図ることができるようにしたブリッジ機能付きコンセントなどの提供。 - 特許庁

Therein, a part of a defect or the like contained in the polarizing film is cut and removed in the cutting process and, moreover, a time delayed by the processing is reduced by adjusting the processing speed of at least the cutting mechanism side among respective processing mechanisms disposed in the cutting process and the attachment process.例文帳に追加

このとき、偏光フィルムに含まれる欠損などの部分を切断工程で切断除去しつつも、この処理により遅延する時間を切断工程と貼合せ工程に備わった各処理機構のうち、少なくとも切断機構側の処理機構の処理速度を調節して短縮する。 - 特許庁

To provide a transfer-carrying belt by which a defect such as a void is eliminated by crushing the protrusion of a belt surface, whose measure accuracy is excellent and by which meandering is eliminated and a manufacturing method and a manufacturing device to mold the transfer-carrying belt in a short time.例文帳に追加

本発明は、ベルト表面の突起を押し潰して白抜けなどの欠点がなく、寸法精度が高く蛇行することがない転写搬送ベルト及びこの転写搬送ベルトを短時間で成形する製造方法および製造装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

When the roller 21 is opened immediately after the end of scanning, the check 3 fed toward the discharge port 5 may possibly be skidded down into the vertical carrying path 8b from between the roller 21 and the image scanner 20 and the defect can be avoided by slowing down the escaping operation of the roller 21.例文帳に追加

スキャン終了後直ちにローラ２１を開くと、排出口５の側に送り出された小切手３がローラ２１とイメージスキャナ２０の間から垂直搬送経路８ｂ内に滑り落ちるおそれがあるが、ローラ２１の退避動作を遅延させることによりこの弊害を回避できる。 - 特許庁

To make a condition set efficiently, to shorten an inspection time, and to enhance reliability of inspection, in a circuit pattern inspection device for inspecting a defect, a foreign matter, a residue or the like in the same design pattern of a semiconductor device on a wafer under a production process for the semiconductor device, by an electron beam.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上の半導体装置の同一設計パターンの欠陥，異物，残渣等を電子線により検査する回路パターン検査装置において、条件設定の効率、検査時間の短縮及び検査の信頼性を向上する。 - 特許庁

To provide a glass press molding machine where an operator is separated from a high temperature part in a molding section and a movable part in a carrying apparatus section, so as to further improve safety, and simultaneously, the defect in molding caused by contaminants and impurities and unevenness in a temperature distribution at the circumference of the molding machine is reduced.例文帳に追加

ガラスプレス成形機において、成形部の高温部や搬送機器部の可動部からオペレータを隔離してさらなる安全性の向上を図ると同時に、成形機周辺の汚染物や夾雑物や温度分布の不均一に起因する成形不良の低減を図る。 - 特許庁

To solve the problem that the cut waste of a gate part metal, provided on a substrate scatters on a solder ball surface and causes a short-circuit defect between the solder balls of a semiconductor device, in a cutting process of making the substrate provided with a plurality of semiconductor chip loading regions into the individual pieces of a semiconductor device single body.例文帳に追加

複数の半導体チップ搭載領域を備えた基板を半導体装置単体に個片化する切断工程において、基板に設けられたゲート部金属の切断くずがはんだボール面上に飛散して半導体装置のはんだボール間のショート不良を招く。 - 特許庁

To enable manufacturing of an organic EL element which is superior in wetproofness and which has a superior productivity without a dark spot by being provided with a transparent conductive substrate in which there is no defect of a transparent electroconductive layer, and which is suitable for a roll winding working method, and which is superior in the wetproofness.例文帳に追加

本発明の課題は、透明導電層の欠陥がなく、ロール巻取り工法に適し、耐湿性に優れた透明導電性基材を提供することにより、ダークスポットがなく耐湿性に優れ生産性の良い有機ＥＬ素子の製造を可能とするものである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an anti-reflective film, in which the occurrence of repellent defect and color irregularity is suppressed even if using a hydrophilic solvent as a solvent for coating liquid, when manufacturing the anti-reflective film in a coating method of an open system in which the moisture is easily mixed into the coating liquid.例文帳に追加

塗液の水分混入が発生しやすい開放系の塗工方式において反射防止フィルムを製造する際、溶剤に親水性溶剤を用いても、ハジキ欠陥、色ムラの発生を抑えた反射防止フィルムを製造することができる方法を提供すること。 - 特許庁

To prevent the occurrence of a chip break or a bonding defect to be caused by the nonuniformity of pressurization and heating due to the deflection of a pressurizing mechanism, which occurs by a high bonding load, concerning the manufacturing of a semiconductor device having a structure where a semiconductor chip constituted of an area pad is mounted on a thin circuit substrate by facing down.例文帳に追加

エリアパッド構成の半導体チップが薄型回路基板上にフェースダウンで搭載される構造の半導体装置の製造において、高い接合荷重により発生する加圧機構の撓みによる加圧・加熱の不均一化に起因するチップ破壊あるいは接合不良の発生を防止する。 - 特許庁

To realize a manufacturing process of a semiconductor which is free from defect/failure and inner contamination of production installation due to fragment of film peeling of the oxide film of a high melting point metal formed in the wafer rear surface of a semiconductor in a semiconductor device wherein the oxide film of a high melting point metal is used.例文帳に追加

高融点金属の酸化膜を使用する半導体装置において、半導体のウエハ裏面に形成された高融点金属の酸化膜の膜剥離した破片による欠陥不良および生産設備内部汚染がない半導体の製造工程を実現する。 - 特許庁

To provide a defect marking apparatus that allows defective parts to be confirmed easily, and preventing conforming parts from being used due to the transfer of the wet ink at a marking section to a carrying roll and that of the wet ink from the carrying roll to the succeeding sheet material.例文帳に追加

次工程において、容易に欠陥箇所を確認することを可能とするとともに、マーキング部分の未乾燥インクが搬送ロールに転写し、さらに搬送ロールから後続のシート材料に転写することにより良品部分が使用できなくなることを防止する欠陥マーキング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing method, a polishing device, and a manufacturing method of a polishing tool for excellently exhibiting a polishing characteristic for various kinds of polishing objects by reducing a defect such as a scratch and sticking of resin caused on a polishing object surface of the polishing objects of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェーハの研磨対象物の被研磨面に発生するスクラッチ等の欠陥および樹脂の付着を低減し、各種の研磨対象物に対してその研磨特性を良好に発揮できる研磨方法、研磨装置、および研磨工具の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon wafer heat treatment method which can considerably reduce void defect of a surface layer part of a wafer, and improve oxygen concentration of the surface layer part, suppress deterioration of surface roughness of a polished surface, and improve productivity in an RTP.例文帳に追加

ウェーハの表層部のボイド欠陥を大きく低減することができ、表層部の酸素濃度を向上させることができ、研磨面の表面粗さの悪化も抑制でき、かつ、ＲＴＰにおける生産性を向上させることができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an operation control method for a sterilizer which is capable of surely performing a sterilization treatment by continuing sterilization work and sufficiently discharging air even when the defect of a pressure sensor for detecting the pressure in a sterilizing vessel occurs.例文帳に追加

この発明が解決しようとする課題は、滅菌槽内の圧力を検出する圧力センサの不良が発生したときにも、滅菌作業を継続させ、かつ空気排出を十分に行い、確実に滅菌処理を行うことができる滅菌器の運転制御方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus realizing setting for accurately positioning a writing head and a photoreceptor drum, and restraining the vibration of the writing head caused by the vibration of a movable member, thereby preventing an image defect such as banding associated with resonance and obtaining excellent image quality.例文帳に追加

書き込みヘッドと感光体ドラムとの高精度な位置決め設定を実現すると共に、可動部材の振動による書き込みヘッドの振動を抑制し、これにより共振に伴うバンディング等の画像欠陥を防止し、良好な画質品質を得ることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To effectively remove the generation in the defect of unplating caused by the generation in the floating of a product in a barrel after the charging of the barrel into a plating tank, and the generation in the storing of gas in the barrel as a cause for making the amount of ions in the barrel unstable and giving influence on the quality of the plating itself.例文帳に追加

めっき槽内へのバレル投入後、バレル内での製品の浮きの発生による「めっき無し」不良の発生や、バレル内イオン量が不安定となってめっき品質そのものへの影響を与えてしまう原因となるバレル内ガス溜まりの発生を効果的に除去可能とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrooptical apparatus which can flexibly deal with the variations in the amount of a dropped liquid crystal when a liquid crystal dropping method is used, and which can easily prevent the deterioration in display quality such as the display unevenness, due to a seal cut, an air bubble defect, or variations in cell thickness.例文帳に追加

液晶滴下法を用いる場合に液晶の滴下量ばらつきに柔軟に対応でき、シール切れや気泡不良、あるいはセル厚ばらつきに起因する表示ムラ等の表示品位の低下を容易に抑制し得る電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for evaluating a wafer including a step of measuring an infinitesimal internal crystal defect in which a BMD from the front surface of a wafer to be measured to the depth of about 10 μm can be observed with high resolution of a depthwise direction of the wafer and with a difficulty to measure so far.例文帳に追加

被測定ウェーハの深さ方向の高い分解能を有し、かつ、今まで測定することが困難であった被測定ウェーハの表面から１０μｍ程度の深さまでのＢＭＤを観察可能とした微小内部結晶欠陥の測定によるウェーハの評価方法を提供する。 - 特許庁

To highly accurately measure a projection defect of a height exceeding a projected structure, by scanning of a stylus, in a color filter having the projected structure such as a partition wall for which the end edge parts of adjacent colored layers are laminated with each other at the boundary part of the colored layers.例文帳に追加

着色層の境界部分に、隣接する着色層の端縁部分を相互に積層した隔壁などの突起状構造物を有するカラーフィルタにおいて、触針の走査によって、突起状構造物を越える高さの突起欠陥を高精度に測定できるようにする。 - 特許庁

To provide an original paper for thermal stencil printing and the manufacturing method of the same, permitting highly precise stencil processing as well as the acquisition of a high-grade printing image without generating any defect, such as dimming or the like, improved in resistance to printing and in durability, facilitated in the manufacture of the same and inexpensive in the manufacturing cost thereof.例文帳に追加

高精細な穿孔製版が可能であり、高品位な印刷画像を得ることができ、白抜け等の欠点が発生することがなく、耐刷性および耐久性が向上し、しかも製造が容易であり、製造コストも低廉な感熱孔版印刷用原紙とその製法を提供すること。 - 特許庁

To provide a wiper device capable of performing wiper wiping action by one direction rotation of a wiper motor even if the wiper device is brought into a state that a defect occurs in normal/reverse rotation control for reciprocating the wiping action of a wiper, and the wiper motor is brought into a state of one direction rotation from normal/reverse rotation.例文帳に追加

ワイパの往復払拭動作のための正逆反転制御に欠陥が生じてワイパモータが正逆回転から一方向回転となる状況に陥っても、そのワイパモータの一方向回転によりワイパ払拭動作を行うことができるワイパ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a stand for building up a concrete leveling form and a construction method therefor capable of adjusting unevenness of a leveling concrete surface, capable of eliminating a cross-sectional defect of a corrugated steel plate panel and nonuniformity of a slab thickness, capable of reducing a cost capable of improving a construction quality and capable of shortening a construction period.例文帳に追加

捨てコンクリート面の不陸調整ができ、コルゲート鉄板パネルの断面欠損やスラブ厚の不均一が解消でき、コストの低減、施工品質の向上、施工期間の短縮を達成することができるコンクリート捨て型枠建込み用架台及びその施工方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a fragrant sheet produced by a simple production step, having a rework property, free from residue of paste to a surface to be attached, free from defect of adhesive force by addition of a fragrance, radiating adequate aroma for a long period, preferably further excellent in see-through property and suitable for surface protection.例文帳に追加

本発明は、製造工程が簡単で、リワーク性があり、被着面への糊残りがなく、且つ芳香剤添加による接着力不良が無く、適度の芳香が長期間放散され、好ましくはさらに透視性が優れた、表面保護用に適した芳香性シートを提供する。 - 特許庁

A part 6-7 which requires a defect check and is selected out of parts (e.g. a gate transistor region of a logic part), having a large effect on performance characteristics of a semiconductor device and furthermore being provided with circuit patterns that are fine and apt to be affected by micro defects, is considered as the specific region of the mask.例文帳に追加

マスクの特定領域としては、半導体装置の動作特性に多大な影響を与え、かつ、回路パターンが微細で微小欠陥の影響を受けやすい部分（例えばロジック部のゲートトランジスタ領域）における欠陥検査が必要な部分６−７が挙げられる。 - 特許庁

When a SYNC pattern is composed of six symbols, the SYNC pattern and read data are made to 6C2=15 sorts of groups G1 to G15 composed of four symbols including a symbol overlapping a part of other groups and collated in a group unit in order to correspond to, e.g. a defect being ≤2 symbols.例文帳に追加

ＳＹＮＣパターンが６シンボルから構成されているときに、例えば２シンボル以下のディフェクトに対応するために、他の一部のグループと重複するシンボルを含む４シンボルからなる_6Ｃ_2 ＝１５通りのグループＧ１〜Ｇ１５に、当該ＳＹＮＣパターン及びリードデータをグループ分けして、グループ単位で照合する。 - 特許庁

When position functions corresponding to time series T1-Tn of the moving body whose defect is to be detected are expressed by X(T1)-X(Tn) (n: a natural number that is fully large) and an arbitrary natural number that is smaller than (n) and is larger than 1 is expressed by j, X (T1)=X(Tj) results.例文帳に追加

欠陥の検出対象である動体の時刻系列Ｔ１〜Ｔｎに対応する位置関数をＸ（Ｔ１）〜Ｘ（Ｔｎ）で表し（ｎは十分に大きい自然数）、ｎより小さく１より大きい任意の自然数をｊで表すと、Ｘ（Ｔ１）＝Ｘ（Ｔｊ）である。 - 特許庁

In the main mask MM, it is not necessarily needed that all the split masks MDM are respectively constituted of a split mask having no defect, the substantial yield of the manufacture of the exposure mask is raised, a shortening of the forming time of the exposure mask is enabled and a reduction in the cost of the exposure mask can be realized.例文帳に追加

主マスクＭＭは必ずしも全ての分割マスクＭＤＭが欠陥のない分割マスクで構成される必要はなく、露光用マスクの実質的な製造歩留りを向上し、露光用マスクの作製時間の短縮を可能にして低コスト化が実現できる。 - 特許庁

A microcomputer 15 judges a defect when the pushed-up dark level output is not a prescribed value while at least one of the low luminance range output and the high luminance range output in effective pixels not to be the object of light shielding is a saturated value or a minimum value.例文帳に追加

マイコン１５は、遮光の対象とならない有効画素における低輝度レンジ出力および高輝度レンジ出力の少なくとも一方が飽和値または最小値になっている時に、押し上げておいた暗レベル出力が所定値となっていないと不良であると判定する。 - 特許庁

Toner particles forming an image on the intermediate transfer belt 70 receive vibrations from from the toner layer diffusion member 10 to be peeled off a surface of the intermediate transfer belt 70 and dispersed in carrier liquid, so that the secondary transfer defect at the secondary transfer unit 80 can be prevented.例文帳に追加

中間転写ベルト７０上で画像を形成するトナー粒子は、このトナー層拡散部材１０からの振動を受け中間転写ベルト７０表面から剥がされ、キャリア液中に分散するような状態となり、二次転写ユニット８０での二次転写不良の発生を防止することができる。 - 特許庁

This carbon nanotube can be manufactured through a defect introducing process for introducing defects into a raw material carbon nanotube, and a heating process for heating the raw material carbon nanotube into which the defects have been introduced, to a temperature of 1,000 to 2,000°C in a vacuum or in an innert gas atmosphere.例文帳に追加

このカーボンナノチューブは、原料カーボンナノチューブに欠陥を導入する欠陥導入工程と、欠陥を導入された原料カーボンナノチューブを、真空中又は不活性ガス雰囲気中で１０００〜２０００℃に加熱する加熱工程と、を経て製造することができる。 - 特許庁