「FORMATION PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method of color filter comprises a photosensitive resin layer formation process of forming a photosensitive resin layer made of a photosensitive resin on a substrate; and a uniformizing function member formation process of exposing and developing a photosensitive resin layer, by using the gradation mask provided with a translucent film, having prescribed transmittance characteristics and forming at least two kinds of the uniformizing function members made of the photosensitive resin whose heights are adjusted.例文帳に追加

本発明は、基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を、所定の透過率特性を有する半透明膜を備える階調マスクを用いて露光し、現像して、感光性樹脂からなる高さの調整された２種以上の同一機能部材を形成する同一機能部材形成工程とを有するカラーフィルタの製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 - 特許庁

A manufacturing method for the circuit board comprises a process of sticking a reinforcing plate on one metal layer formation surface through a peelable organic body layer after forming the metal layer of <5 μm in thickness on at least one surface of the flexible film, and a process of peeling the flexible film off the reinforcing plate after forming a circuit pattern on the surface where the reinforcing plate is not stuck.例文帳に追加

可撓性フィルムの少なくとも一方の面に厚さ５μｍ未満の金属層を形成した後、該金属層形成面側の一表面に補強板を剥離可能な有機物層を介して貼り合わせ、次いで補強板が貼り合わされていない面に回路パターンを形成してから、該可撓性フィルムを該補強板から剥離する回路基板の製造方法。 - 特許庁

The fixture tool for the thin substrate having the weak adhesion layer formed on one surface of a flat plate is characterized in that the adhesive strength of the weak adhesion layer is less than three times that before the component packaging after the layer goes through a reflow process, namely a component packaging process of the thin substrate, by a post heat treatment after formation of the weak adhesion layer.例文帳に追加

平板の片面に弱粘着性層を形成した薄型基板用固定治具において、弱粘着性層形成後の後熱処理によって、薄型基板の部品実装工程であるリフローを通過した後の弱粘着性層の粘着強度が、部品実装前の粘着強度に対し３倍未満とされていることを特徴とする。 - 特許庁

To solve the problem that Lov dimensions in a TFT cannot be formed with excellent controllability since a resist pattern sidewall tapering angle occurs from a desired tapering angle, in a photolithography process utilizing diazo naphto quinone(DNQ)-novolac resin-based positive resist in the gate electrode formation process of a GOLD structure TFT.例文帳に追加

ＧＯＬＤ構造ＴＦＴのゲート電極形成工程のジアゾナフトキノン（ＤＮＱ）−ノボラック樹脂系ポジレジストを利用するフォトリソグラフィ工程に於いて、レジストパターン側壁テーパー角が所望のテーパー角より起っている為、当該ＴＦＴのＬｏｖ寸法を制御性良く形成できない問題があり、この問題を解決することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method capable of using a rugged pattern formed according to an imprinting process as a mask for controlling a micropore production initiating position when performing micropore formation onto substrate material such as aluminum and silicon according to an electrochemical process and, thereby, efficiently and reliably forming a regular hole array structure.例文帳に追加

インプリントプロセスにより形成される凹凸パターンを利用し、その凹凸パターンを、アルミニウムやシリコン等の基材材料に電気化学プロセスにより細孔形成を行う際の細孔発生開始位置の制御を行うためのマスクとして使用することで規則的なホールアレー構造を効率良く確実に形成できるようにした手法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the partition of the biochip 100 including a substrate 10 and the partition 20 for partitioning its surface includes a first film formation process for forming a first film on the substrate 10 by using the radiation-sensitive composition containing a color former (A), and a partition forming process for forming the partition 20 by patterning the first film by a lithography method.例文帳に追加

基板１０とその表面を区画する隔壁２０とを備えるバイオチップ１００における隔壁製造方法で、カラーフォーマー（Ａ）を含む感放射線性組成物を用いて基板１０上に第１膜を形成する第１膜形成工程と、第１膜をリソグラフィー法によりパターニングして隔壁２０を形成する隔壁形成工程と、を備える。 - 特許庁

To provide an anti-glare film that has excellent anti-glare properties and can sufficiently suppress the occurrence of discoloration and scintillation even when used in a high definition display, and can also sufficiently suppress the formation of cracks during a polarizing element laminating process or a liquid crystal cell assembly process, and changes in anti-glare property with time.例文帳に追加

防眩性に優れるとともに、高精細化ディスプレイに適用した場合であっても、白茶けやシンチレーションの発生を充分に抑制でき、更に、偏光素子との貼合工程や液晶セル組立工程の途上でのクラックの発生や、防眩性の経時変化を充分に抑制することができる防眩性フィルムを提供する。 - 特許庁

A manufacturing method of a wiring board formed by laminating at least one conductor layer and one resin insulation layer includes a groove formation process in which a groove is formed on at least one resin insulation layer and a Cu paste filling process in which the groove is filled with Cu paste forming the conductor layer with an ink jet device.例文帳に追加

導体層と樹脂絶縁層とがそれぞれ少なくとも１層積層されてなる配線基板の製造方法であって、前記少なくとも１層の樹脂絶縁層に溝部を形成する溝部形成工程と、前記溝部に対してインクジェット装置を用いて前記導体層となるＣｕペーストを充填するＣｕペースト充填工程と、を備える。 - 特許庁

This manufacturing method of semiconductor parts includes a process that starts the work of a semiconductor wafer, where the new element materials are subjected to film formation by using a conventional manufacturing device, and a process that cleans the region of the surface of the wafer which is in contact with the conventional manufacturing apparatus.例文帳に追加

課題を解決する半導体部品の製造方法は、新規な素子材料を成膜された半導体ウェハを、従来の製造装置を用いて着工する工程と、当該ウェハの表面であって、前記の従来の製造装置と接触する領域を洗浄する工程(以下、本発明にかかる洗浄工程という)とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The membrane formation method for the surface of the porous cylindrical body comprises: the immersing/pulling-up process of immersing the porous cylindrical body in a liquid with membrane forming components and then pulling it up; and the rotating/drying process of rotating the porous cylindrical body, scattering the excess liquid with gas separation membrane forming components by centrifugal force at the time of rotation and then drying it.例文帳に追加

多孔質円筒体を膜成形性成分を有する液に浸漬したのち引き上げる浸漬・引き上げ工程と、該多孔質円筒体を回転させ、回転時の遠心力によって、過剰なガス分離膜成形性成分を有する液を飛散させた後、乾燥させる回転・乾燥工程とを有する多孔質円筒体の表面の製膜方法。 - 特許庁

To provide a display device and a manufacturing method of a display device capable of omitting a high-vacuum process, after formation of an electron emission part by eliminating a process of exposing the electron emitting part in the atmosphere, capable of reducing the manufacturing cost, restraining to a minimum a volume of gas molecules desorbing from a substrate surface, and restraining degradation of the lifetime.例文帳に追加

電子放出部を大気に晒す工程をなくすことで、電子放出部形成後の高真空工程を省略でき、製造コストを低減できるとともにガス分子が基板表面から脱離する量を最小限に抑え、寿命劣化を抑制することが可能となる表示装置及び表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The smear removing method comprises (a) a process of applying an ultraviolet laser beam to the insulating resin layer of a workpiece having an insulating resin layer coating a metal-made inner wiring layer for the formation of a via hole in the insulating resin layer, and (b) a process of removing smears residual on the via hole bottom floor by exposure to rare gas plasma.例文帳に追加

スミアの除去方法は、（ａ）金属からなる内層配線層を被覆する絶縁樹脂層を有する加工対象物の該絶縁樹脂層に紫外レーザを照射して前記絶縁樹脂層にビアホールを形成する工程と、（ｂ）前記ビアホールの底面に残留するスミアを、希ガスのプラズマに晒して除去する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device and a harmful particle removal device of a spraying air, by which any corrosive reaction formation impurity is hard to be formed, even if any adhesion prevention process of a harmful particle caused by the spraying of a cleaning gas accompanied by using an ionizer is added to a manufacturing process of a semiconductor wafer in a clean room.例文帳に追加

クリーンルーム内での半導体ウエハの製造工程に対して、イオナイザーの使用を伴う清浄ガスの吹き付けによる有害パーティクルの付着防止工程を加えても、腐食性のある反応生成不純物が生成され難い半導体装置の製造方法および吹き付けエアーの有害パーティクル除去装置を提供すること。 - 特許庁

To prevent a blade from sounding by making the friction small between a cleaning member and a photosensitive drum when a process speed is lowered without consuming much toner in an image forming apparatus that removes toner on an image carrier with a cleaning member which wipes and cleans the toner, for example, a blade and can vary an image forming speed (process speed) according to image formation modes.例文帳に追加

像担持体上のトナーの除去を掻き取ってクリーニングするクリーニング部材、例えばブレードにて実施しており、又、画像形成速度（プロセス速度）を画像形成モードに対応して変更できる画像形成装置において、多量のトナー消費を伴わずに、プロセス速度を下げている時のクリーニング部材と感光ドラムの摩擦を小さくし、ブレード鳴きを防止する。 - 特許庁

An oxide film formation method for the semiconductor element comprises: a stage for providing a silicon substrate wherein a natural oxide film is removed; a stage for performing an oxidizing process to form an oxide film on the silicon substrate; and a stage for performing a high-temperature heat treatment process under a mixed gas atmosphere of inert gas and oxygen gas in order to reduce trap charge existing in the oxide film.例文帳に追加

自然酸化膜の除去されたシリコン基板を提供する段階と、酸化工程を行って前記シリコン基板上に酸化膜を形成する段階と、前記酸化膜の内部に存在するトラップチャージを減少させるために不活性ガスと酸素ガスとの混合ガス雰囲気の下で高温熱処理工程を行う段階とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for continuously producing a propylene polymer, especially a low-crystalline propylene polymer by a gas-phase polymerization process to remove the reaction heat mainly by the evaporation heat of liquefied propylene, while keeping the good fluidity of the polymer and reducing the formation of a bulky polymer which inhibits the stable operation of the process.例文帳に追加

反応熱を主として液化プロピレンの気化熱により除去する気相法重合プロセスにおいて、プロピレン系重合体、特に低結晶性プロピレン系重合体を連続的に製造する際に、重合体の流動性を良い状態にし、安定運転を阻害する塊状ポリマーを低減して、プロピレン系重合体を製造する方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the magnetic recording medium using the imprint method for pattern formation, as the preprocessing of an imprint process, an exposure process is performed for exposing a substrate having the resist film formed on the surface thereof to an atmosphere of a temperature higher than a temperature upon imprint and environmental pressure lower than environmental pressure upon imprint.例文帳に追加

パターン形成にインプリント法を用いる磁気記録媒体の製造方法において、インプリント工程の前処理として、表面にレジスト膜を形成した基板を、インプリント時の温度より高い温度、かつ、インプリント時の環境圧力より低い環境圧力の雰囲気に暴露させる暴露処理を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device using a laser crystallization process for preventing formation of a grain boundary in the channel forming region of a TFT, significant lowering in mobility of the TFT due to the grain boundary, reduction of on current, or increase of off current, and to provide a semiconductor device fabricated by that method.例文帳に追加

ＴＦＴのチャネル形成領域に粒界が形成されるのを防ぎ、粒界によってＴＦＴの移動度が著しく低下したり、オン電流が低減したり、オフ電流が増加したりするのを防ぐことができるレーザー結晶化法を用いた、半導体装置の作製方法及び該作製方法を用いて作製された半導体装置の提供を課題とする。 - 特許庁

To provide a transparent conductive layer, and a photovoltaic element employing it, which exhibits superior photoelectric conversion characteristics even under a high temperature, high humidity or long term use or when a process in reducing atmosphere, e.g. annealing or hydrogen processing, is included in the process following to formation of a transparent conductive layer containing zinc oxide.例文帳に追加

高温下、多湿下、あるいは長期間にわたる使用下などにおいても、あるいは酸化亜鉛を含む透明導電層を形成した後の行程において加熱処理、アニール処理、水素処理のような還元雰囲気の行程を含む場合にも優れた光電変換特性をもつ透明導電層、それを用いた光起電力素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

(1) A pattern formation method, comprises a process where a photoresist formed on a base body is exposed in a pattern, a background exposure process I where the entire surface of a forming region of the photoresist or a range comprising at least the region exposed in a pattern is exposed.例文帳に追加

基体上に形成したフォトレジストをパターン状に露光する工程を備えるパターン形成方法において、フォトレジストの形成領域の全面もしくは少なくとも上記パターン状に露光を行う領域を含む範囲を露光する背景露光工程Ｉを具備し、該背景露光工程は、形成されるフォトレジストパターンのエッジラフネスを低減する条件を選択して行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable effectively preventing mutual diffusion in the components between the gate electrodes of n- and p-type transistors in a gate electrode formation process and the subsequent heat treatment process for the method for manufacturing the semiconductor device having a wiring layer substituted for metal and metal silicide.例文帳に追加

金属や金属シリサイドに置換した配線層を有する半導体装置の製造方法に関し、ゲート電極形成過程及びその後の熱処理工程において、Ｎ型トランジスタのゲート電極とＰ型トランジスタのゲート電極との間における構成材料の相互拡散を効果的に防止しうる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a green sheet and its manufacturing method in which a manufacturing process is simplified and a loss of a material used for an electrode is prevented and an electrode pattern can be formed without a drying process during a formation of the electrode, and provide a plasma display panel using the above green sheet and a manufacturing method of the plasma display panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル及びその製造工程において、製造工程を単純化し、電極に用いられる材料の損失を防止し、電極形成時、乾燥工程なしに電極パターンを形成できるグリーンシート及びその製造方法と製造装置、並びにこれを用いたプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing an easy-to-manufacture droplet discharge head which can be miniaturized while attaining high resolution by achieving formation of nozzles at high density and fine pitch wiring incident thereto, and to provide a droplet discharge head manufactured through this process, and a droplet discharge device equipped with that droplet ejection head.例文帳に追加

製造しやすい上に、ノズルの高密度化と、それに伴う微細ピッチ配線の形成を実現可能にして高解像度化が図れ、かつ小型化も図れる液滴吐出ヘッドの製造方法と、その製造方法によって製造される液滴吐出ヘッドと、その液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置の提供を課題とする。 - 特許庁

The magnetoresistance effect element 10 is manufactured by the method including a ferromagnetic layer formation process for forming a layer made of a ferromagnetic material on a substrate 14, and a patterning process for patterning the formed layer to set the maximum length of the nano-junction 12 for connecting the ferromagnetic layers 11, 13 to the Fermi length or smaller of the ferromagnetic material.例文帳に追加

こうした磁気抵抗効果素子１０は、基板１４上に強磁性材料からなる層を形成する強磁性層形成工程と、形成された層をパターニングして、前記２つの強磁性層１１，１３を連結するナノ接合部１２の最大長さを前記強磁性材料のフェルミ長以下にするパターニング工程とを有する方法により製造される。 - 特許庁

This method for forming the amino acid comprises a first process for preparing minerals which are weathered and eroded and further subjected to soil formation and pulverizing the minerals by making them collide with one another, while supplying them with a gas under a heating and pressurizing condition, so as to obtain a pulverized material, and a second process for soaking the pulverized material in water and forming the amino acid in the water.例文帳に追加

本発明のアミノ酸生成方法は、風化侵食を受け、土壌化された鉱物を用意し、加熱および加圧下において、ガスを供給しつつ前記鉱物同士を衝突させることにより粉砕して粉砕物を得る第１の工程と、該粉砕物を水に浸漬し、該水中にアミノ酸を生じさせる第２の工程とを有する。 - 特許庁

To facilitate management of a manufacturing process by supplying inspection data capable of inspecting the electrical characteristics of a TFT formed on the same substrate and the formation defect of a contact hole provided on a transparent organic insulating film to an inspection apparatus.例文帳に追加

同一基板上に形成されたＴＦＴの電気的特性及び透明有機絶縁膜に設けられたコンタクトホールの形成不良を検査可能な検査データを検査装置に供給し、製造プロセスの管理を容易にすることを課題とする。 - 特許庁

To provide a biodegradable base material for medical purpose, having cytophilic property, and especially facilitating entering of cell to the inside of a base material to have a structure close to a thick woven fabric without a technically difficult process such as multi-layer formation or weave knitting.例文帳に追加

細胞親和性、特に基材内部への細胞侵入を容易にし、重層化や織り編み等の技術的に困難な工程を伴うことなく、厚みある織布に近い構造を有する医療用の生分解性基材を提供する。 - 特許庁

To provide a proximity switch which does not need another material for a shield member for formation of an electromagnetic wave shield structure in a manufacturing process of semiconductor IC's and can be structured so that its inside structure can be visually observed.例文帳に追加

この発明は、半導体集積回路の製造プロセスで電磁波のシールド構造が形成し得て、別部材によるシールド部材が不要となり、さらに、内部構造が目視可能な構成にすることができる近接スイッチの提供を目的とする。 - 特許庁

The objective method for screening the highly ammonia-oxidizing bacteria comprises collecting at least one kind of microorganisms from a filter bed tank in an effluent treatment process equipped with a bioreactor using humic soil pellets, culturing the microorganisms and then subjecting the microorganisms to screening with the presence/absence of nitrous acid formation as indicator.例文帳に追加

腐植土ペレットを用いたバイオリアクターを付設した排水処理工程におけるろ床槽から一種以上の微生物を採取し、培養した後、亜硝酸生成の有無を指標としてスクリーニングする、高アンモニア酸化細菌のスクリーニング方法。 - 特許庁

To provide a method of producing cyclododecanones via the isomerization of epoxycyclododecanes, being suitable as an industrial-scale process because it attains the high reaction velocity, high conversion, high selectivity and substantially no formation of high-boiling substance.例文帳に追加

本発明は、エポキシシクロドデカン類の異性化反応によりシクロドデカノン類を製造する方法において、反応速度が大きく、高転化率、高選択率で、さらに高沸物の生成がほとんどない工業的製造法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The process controller 11 performs film forming by calculating (Ii/Ie) upon film forming, obtaining D/R by using the calibration curve of a film formation rate, controlling a mass flow controller 5 based on the obtained D/R, and controlling the flow rate of the delivery gas.例文帳に追加

プロセスコントローラ１１は成膜時に（Ｉｉ／Ｉｅ）を算出し、前記成膜速度検量線を用いてＤ／Ｒを求め、求めたＤ／Ｒに基づいてマスフローコントローラ５を制御し、搬送ガスの流量を制御して、成膜処理を行う。 - 特許庁

To provide a processing method capable of executing formation of a minute hole of 1 nm or a groove 2 nm wide on a surface of a base material without using a multistage process such as masking, and processing by combining them with one another, and a device therefor.例文帳に追加

マスク等の多段階のプロセスを使用することなく基材の表面に１ナノメートルの微細な穴あけや幅２ナノメートルの溝掘り、また、これらを組み合わせた加工を行なうことができる加工方法とそのための装置を提供する。 - 特許庁

To provide a continuous baking furnace capable of facilitating formation of temperature distribution corresponding to each treating process and manufacturing a burned product by continuously firing a substance to be fired, to provide a method for manufacturing the burned product, and to provide the burned product.例文帳に追加

各処理工程に対応する温度分布を炉内に容易に形成することができ、被焼成体を連続的に焼成して焼成体を製造することができる連続焼成炉、焼成体の製造方法及び焼成体を提供する。 - 特許庁

In the recess formation process, a pressure pin 8 in which a plane in a shape corresponding to the bottom surface of the recess is formed on an apical surface 8b is pressed to the surface side of the pressure reception surface 13a of the material 13 supported by a guide ring 4 and a lifter 6.例文帳に追加

凹部形成工程では、ガイドリング４と受け台６によって支持された素材１３の受圧面１３ａの表面側に、凹部の底面に対応する形状の平面が先端面８ｂに形成されている加圧ピン８を押し付ける。 - 特許庁

To provide a corrosion-resistant composite member which shows a high durability against a corrosive halogen gas or its plasma and an excellent impact resistance even if it has a complicated shape, despite being a product obtained through film formation, and its manufacturing process.例文帳に追加

成膜製品でありながら、複雑な形状であってもハロゲン系腐食ガスまたはハロゲン系腐食ガスのプラズマに対する耐性が高く、かつ耐熱衝撃性に優れる耐食性複合部材およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a silicon laser element that includes, as a basic component, a group-IV semiconductor such as silicon and germanium based thereupon on a substrate of silicon etc., in a method for easy formation using a normal silicon process; and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

通常のシリコンプロセスを用いて容易に形成可能な方法によって、シリコンなどの基板上に、シリコンやそれに順ずるゲルマニウムなどのＩＶ族半導体を基本構成要素としたシリコンレーザー素子及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a driving device capable of reducing shock jitters appearing in an image by relaxing an abutting shock when a developing unit abuts against a photoreceptor during color image formation, a developing device, a process cartridge, and an image forming apparatus.例文帳に追加

本発明の課題は、カラー画像形成時の現像ユニットが感光体に当接する際に、当接ショックを和らげることで、画像に現れるショックジターを低減できる駆動装置、現像装置、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することにある。 - 特許庁

To enable use of the same vacuum system as one used in a case of normal film formation during in-situ cleaning, regarding semiconductor manufacturing equipment which executes the in-situ cleaning after a film is formed on a wafer in an insulating film forming process.例文帳に追加

本発明は絶縁膜形成工程でウエーハ上に膜を成膜した後にin-situクリーニングを実行する半導体製造装置に関し、in-situクリーニング中に、通常の成膜の場合と同じ真空系が使用できるようにすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a process for producing 1,3-di(2-p-hydroxyphenyl-2-propyl) benzene in high selectivity and high yield as the formation of isomers and high-order condensates is suppressed by reaction of phenol with 1,3-di(2- hydroxy-2-propyl)benzene.例文帳に追加

フェノールと1,３−ジ（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンとの反応によって、異性体や高次縮合物の生成を抑えて、高選択性高収率にて、1,３−ジ（２−ｐ−ヒドロキシフェニル−２−プロピル）ベンゼンを製造する方法を提供することにある。 - 特許庁

According to this method, the process from formation of the flow-casting membrane to the acid treatment and the film manufacturing can be carried out continuously, and the solid electrolyte film 70 with high proton conductivity is enabled to be mass-produced continuously.例文帳に追加

この方法によると、流延膜の形成から酸処理及びフィルムを製造するまでの工程を連続して行うことができ、かつプロトン伝導度が高い固体電解質フィルム７０を連続して大量に生産することが可能となる。 - 特許庁

The trench 106 is formed in a semiconductor silicon substrate 101 by dry etching using the mask, and hydrophilic treatment is performed on the interior of the hydrophobic trench 106, and then, the SiO_2 film 104 used as the mask for trench formation is removed by a wet process.例文帳に追加

マスクを用いて、シリコン基板１０１にドライエッチングにより溝部１０６を形成し、その疎水性の溝部１０６の内部に親水化処理を行った後に、溝部形成にマスクとして用いたＳｉＯ_２膜１０４をウェット処理により除去する。 - 特許庁

To provide a ridge type semiconductor laser so constituted as to improve the reproducibility of diffraction grating formation during a production process, and to prevent the deterioration of the crystal quality of an etching stopper layer, and a method for manufacturing the ridge type semiconductor laser.例文帳に追加

製造中に回折格子形成の再現性を良くすること及びエッチングストッパ層の結晶品質の劣化を防ぐことができる構造のリッジ型半導体レーザ及びリッジ型半導体レーザの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an organic thin-film transistor which can be fabricated by a solution process with a high production efficiency, exhibiting high solution resistance after formation and having a gate insulating film formed with a uniform film thickness, and to provide its fabrication method.例文帳に追加

生産効率が高い溶液プロセスによって製造することが可能で、形成後は高い耐溶剤性を有し、しかも均一な膜厚で形成されたゲート絶縁層を有する有機薄膜トランジスタ、及び有機薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film formation method where, in an AD (Aerosol Deposition) process of depositing raw material powder on a substrate by jetting the raw material powder toward the substrate, a dense film of high quality can be produced by paying attention on the dispersibility of the raw material powder.例文帳に追加

原料粉を基板に向けて噴射することにより、原料粉を基板上に堆積させるＡＤ法において、原料粉を分散性に着目することにより、緻密で高品質な膜を作製できる成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having a protective layer excellent in the cleaning property for a toner or in the preventing property against buckling of a cleaning blade, to provide a method for manufacturing the photoreceptor, and to provide a method for image formation, an image forming device and a process cartridge by using the photoreceptor.例文帳に追加

本発明はトナーのクリーニング性やクリーニングブレードのめくれ防止に対して優れた保護層を有する電子写真感光体、該感光体の製造方法、該感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、プロセスカートリッジを提供。 - 特許庁