「FORMATION PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a polyphenylsulfone porous membrane excellent in a pure water permeation performance, a fractioning performance, strength, heat resistance, a low water absorption property and chemical resistance and further excellent in a process controlling property, a cost efficiency and a pore formation property, and to provide its production method.例文帳に追加

純水透過性能や分画性能、強度、耐熱性、低吸水性、耐薬品性に優れ、さらに工程制御性、コスト性、孔形成性に優れたポリフェニルスルホン多孔膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the fixing device, a control part 70 drives the pressurizing mechanism 60 through a driver 71 only in the execution of the image formation process concerned with a printing request and the pressure roller 36b is made away from the heating roller 36a.例文帳に追加

また、印刷要求に係る画像形成プロセスの実行中にのみ制御部７０がドライバ７１を介して加圧機構６０を駆動させるとともに加圧ローラ３６ｂを加熱ローラ３６ａから離間させる。 - 特許庁

Moreover, by including a heat treatment process in the formation of an element, hydrogen is released and emitted from the carbon-hydrogen bonds in an outside base layer 6, which increases the density of carriers in the outside base layer 6 and thereby realizes a low base resistance.例文帳に追加

さらに、素子形成時に熱処理工程を入れることにより、外部ベース層中のＣ−ＨのＨを解離、放出することにより、外部ベース層中のキャリア濃度を増加させ、低いベース抵抗を実現する。 - 特許庁

To provide a light scanning optical device capable of reducing a relative difference of signal detection precision between a plurality of synchronization detection means by eliminating to the extent possible the influence of thermal strain of weld lines on a housing during the process of resin formation.例文帳に追加

樹脂成形時に筺体に生じるウェルドラインの熱歪みによる影響を極力排除して、複数の同期検出手段による信号検出精度の相互差を小さくできる光走査光学装置を得る。 - 特許庁

To reduce the quantum of damage occurring in an image formation means arranged in the downstream of conveyance direction or in a continuous paper on which a picture is formed in an image forming process in the case of forming a picture in one side.例文帳に追加

搬送方向下流側に配置された画像形成手段または画像が形成される連続紙が、片面に画像を形成する場合の画像形成過程において受けるダメージの量を減少する。 - 特許庁

In a cutting process K4, regions corresponding to boundary regions between the circuit formation regions are cut to a prescribed depth from the surface opposite from the circuit-formed one, to form parts left untouched on the circuit-formed surface of the substrate.例文帳に追加

切削工程Ｋ４では、反対側表面から回路形成領域間の境界領域に対応する領域を、所定の深さまで切削手段で切削して回路形成面側に切り残し部を形成する。 - 特許庁

To provide a high reliability thin film capacitor by preventing the exfoliation of the periphery of a thin film upper electrode and a dielectric layer from a support substrate, in a photolithographic etching process, after the formation of the thin film upper electrode layer.例文帳に追加

薄膜上部電極層形成後のフォトリソエッチング工程において、薄膜上部電極及び誘電体層の外周部の支持基板からの剥離を防止し、信頼性の高い薄膜コンデンサを提供する。 - 特許庁

To obtain phosphor which has reduced luminance deterioration by baking of a fluorescent screen formation process and high luminous efficiency and emits a blue light, a phosphor paste composition and a VUV-excited light-emitting element using the phosphor.例文帳に追加

蛍光膜形成工程のベーキング処理による輝度劣化が少なく、発光効率の高い青色発光を呈する蛍光体、この蛍光体を用いた蛍光体ペースト組成物並びにＶＵＶ励起発光素子の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing technique for minimizing weaving in winding an electrode group into a nearly oval shape when a winding type manufacturing method is employed in formation of the electrode group in a manufacturing process of a rectangular battery.例文帳に追加

角形電池の製造工程における極板群の形成に際して巻回式の製造方法を採用する場合に、略長円形状に巻回する際の巻きズレを最小限に抑える製造技術を提供する。 - 特許庁

The casting die 41 is used and thereby the stay of a casting dope near the outlet 41a is inhibited so that the formation of a skin coating of a casting dope can be prevented in a casting process.例文帳に追加

流延ダイ４１を用いることにより、流出口４１ａ近傍における流延ドープの滞留が抑制されるため、流延工程において流延ドープに皮張りが生成することを防ぐことができる。 - 特許庁

In the image formation system 1, when a process 31 targeted for retrieval of the log information operates, the log information about this operation is written into a file system (ring file system) 32 in ring buffer format for storage.例文帳に追加

画像形成システム１において、ログ情報取得の対象となるログ取得対象プロセス３１が動作すると、その動作のログ情報をリングバッファ形式のファイルシステム（リングファイルシステム）３２に書き込んで記憶する。 - 特許庁

To provide: a photoreceptor which has high wear resistance and good electrical properties, is free of filming of toner, and achieves good image formation for a long period of time; an image forming method using the high-performance photoreceptor; an image forming apparatus; and a process cartridge for the image forming apparatus.例文帳に追加

本発明は、高い耐摩耗性、良好な電気特性を有し、かつトナーのフィルミングがなく、長期間にわたり良好な画像形成を実現できる感光体を提供することを課題とする。 - 特許庁

To increase process margin, while reducing manufacturing cost in the formation of a trench capacitor which is increased in a capacitor area, by forming a silicon film having an uneven surface on an inner wall in the lower part of the trench.例文帳に追加

トレンチの下部内壁上に表面が凹凸状のシリコン膜を形成し、キャパシタ面積の増大を図ったトレンチキャパシタの形成方法において、プロセスマージンの増大および製造コストの削減を図ること。 - 特許庁

To provide a packing method for a process cartridge capable of preventing detachment of a photoreceptor and a charging roll due to vibration and the like, during transportation and the like, and capable of restraining generation of stripe-like defect, and the like in image formation.例文帳に追加

輸送時等の振動等による感光体と帯電ロールとが離れることを防止し、画像形成時の筋状等の欠陥の発生を抑制することができるプロセスカートリッジの梱包方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that can obtain an arbitrary required breakdown voltage by the same process as CMOS formation and has a diode with superior properties.例文帳に追加

本発明は、ＣＭＯＳ形成と同一の工程により、任意の所望のブレークダウン電圧を得ることが可能で、さらに特性の優れたダイオードを有する半導体装置およびその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In an LOCOS oxide film formation process, after heating the inside of a chamber to the oxidization temperature at which LOCOS oxidization is carried out, thermal control is performed so as to make the oxidizing velocity in LOCOS oxidization increase gradually.例文帳に追加

ＬＯＣＯＳ酸化膜形成工程において、ＬＯＣＯＳ酸化が行われる酸化温度までチャンバー内を加熱したのち、ＬＯＣＯＳ酸化における酸化速度を徐々に増加させるように制御する。 - 特許庁

The manufacturing method for the organic electro-luminescence display comprises a process that an organic electro-luminescence layer is formed in an EL formation room 10 with air atmosphere having water density less than that of the air.例文帳に追加

本発明に係る有機エレクトロルミネッセンスディスプレイの製造方法は大気よりも水分濃度が低い空気雰囲気を有するＥＬ形成室１０において有機エレクトロルミネッセンス層を形成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide the contact formation method of a semiconductor device that two-stage self-aligned contact etching process of different conditions of etching processes is performed, to form a contact hole having stable characteristics.例文帳に追加

食刻工程の条件が異なる２つの段階の自己整合的なコンタクト食刻工程を行ない、安定的な特性を有するコンタクトホールを形成する半導体素子のコンタクト形成方法を提供する。 - 特許庁

The quantity of air charged into a combustion chamber is relatively reduced to allow the combustion chamber 5 to have a high temperature at an early stage to thereby allow a shift to the steady combustion process T2, thus suppressing the formation of HC and formaldehyde.例文帳に追加

燃焼室に投入される空気量を相対的に減らすことにより、燃焼室５を早期に高温にして、定常燃焼工程Ｔ２に移行可能とし、ＨＣやホルムアルデヒドの発生を抑制する。 - 特許庁

To provide a method for oxide dielectric layer formation by a sol-gel process where the oxide dielectric layer is less likely to undergo damage by an etching liquid and has excellent dielectric properties such as high electric capacity.例文帳に追加

ゾル−ゲル法を用いて誘電層を形成し、その誘電層がエッチング液による損傷を受けにくく、且つ、高い電気容量等の誘電特性に優れた酸化物誘電層の形成方法を提供する。 - 特許庁

After a resist pattern formation process with a prescribed layer of a semiconductor wafer, a selected wafer is irradiated with an inspection light which causes fluorescence emission in the resist pattern, for example, ultraviolet ray (UV) of a prescribed wavelength band.例文帳に追加

半導体ウェハ所定層におけるレジストパターン形成工程終了後、選ばれたウェハは、そのレジストパターンに対して蛍光発光させる検査用の光、例えば所定の波長帯を有する紫外線（ＵＶ）を照射する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device by which a gate insulating film is formed on a semiconductor substrate only by one time of a film formation process and gate electrodes having conductive materials of different job functions are then formed.例文帳に追加

半導体基板上に１回のみの成膜工程でゲート絶縁膜を形成した後、仕事関数の異なる導電材料を有するゲート電極を形成する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for the formation of an antireflection film having a high antireflection effect, free from intermixing with a resist layer, and usable for the lithographic process using irradiation light of a F2 excimer laser (at 157 nm wavelength).例文帳に追加

反射光防止効果が高く、レジスト層とのインターミキシングを起こさない、Ｆ２エキシマレーザー（波長１５７ｎｍ）の照射光を用いたリソグラフィープロセスにおいて使用できる反射防止膜形成組成物を提供すること。 - 特許庁

The release sheet is used for a process paper in the formation of resin films and includes a polypropylene base layer A and a matte resin layer B containing a polymer-based antistatic agent arranged on the polypropylene base layer A.例文帳に追加

樹脂フィルム成膜の工程紙として使用される剥離シートであり、ポリプロピレン基材層Ａと、ポリプロピレン基材層Ａの上に設けられた、高分子系の帯電防止剤を含む艶消し樹脂層Ｂとを備える。 - 特許庁

After the catalyst-formation treatment process, an electroless plating treatment step of forming an electroless-plated metal thin film by electroless plating on the surface of a resin material precipitated by the catalytic metal is performed.例文帳に追加

また、この製造方法は、触媒化処理工程の後に、触媒金属が析出した樹脂材料子の表面に、無電解メッキにより無電解メッキ金属薄膜を形成する無電解メッキ処理工程を有する。 - 特許庁

To provide a production method of polymerized toner which prevents the formation of deposits in a polymerization apparatus, gives a high productivity and produces a toner having stable product performances when a polymerization process is carried out.例文帳に追加

重合法トナーの製造方法において、重合工程を行う際に、重合装置内での付着物の生成を防ぎ、生産性が高く、且つ安定した製品性状を有するトナーの製造法を提供する。 - 特許庁

The removing and/or formation-inhibiting effects on the biofilm by the treating agent for the contact lens are evaluated readily and efficiently by using the biofilm formed by the forming process.例文帳に追加

また、本発明の作製工程により作製したバイオフィルムモデルを使用することにより、簡便かつ効率的にコンタクトレンズ用処理剤のバイオフィルムに対する除去および／または形成阻害効果を評価することができる。 - 特許庁

To provide a process liquid for migration layer formation for forming a migration suppression layer capable of improving insulation reliability between electric wiring by suppressing migration of copper ions between electric wiring.例文帳に追加

本発明は、配線間の銅イオンのマイグレーションを抑制し、配線間の絶縁信頼性を向上させるマイグレーション抑制層を形成するためのマイグレーション層形成用処理液を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a yttria-stabilized zirconia powder which can be applied to various forming methods, and is suitable for producing spherical sintered compact media, each of which is almost free from internal defects and has a uniform grain size, especially by utilizing a rolling granulation/formation process.例文帳に追加

各種成形法に適用でき、特に転動造粒成形法において、内部欠陥がほとんど無く、粒度のそろった球状焼結体メディアの製造に好適なイットリア安定化ジルコニア粉末を提供する。 - 特許庁

To provide a modified PPE resin sheet which is free of formation of projections even when thermoformed and accordingly dispenses with a process of polishing the projections away, in regard to the modified PPE resin sheet used as an exterior component for an automobile.例文帳に追加

自動車用外装部品として用いられる変性ＰＰＥ樹脂シートにおいて、熱成形しても突起物の発生がなく、従って、その突起物を磨き上げる工程を不要とするものを提供する。 - 特許庁

To provide: a liquid developing agent solution satisfying development property, inhibiting the influence on coloring by magnetic powder, and permitting formation of clear images; a process cartridge using the same; and an image forming device.例文帳に追加

現像性を満足させつつ、磁性粉による発色への影響を抑制し、鮮明な画像が形成される液体現像剤液、並びに、それを利用したプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin composition for color filter protecting film which is excellent in curing property and storage stability, has a layer provided with basic performances and is excellent in adhesive property and process durability upon the formation of transparent electrode.例文帳に追加

優れた硬化性と保存安定性を有し、樹脂硬化物の層が基本性能を備え、密着性、透明電極形成時のプロセス耐性に優れるカラーフィルター保護膜用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a developing device using a joint belt as a toner conveying means, where the joint area of the belt does not directly participate in image formation, and also, the influence at the joining process is not given to conveying electrodes, then, a high-quality image is obtained.例文帳に追加

接合ベルトからなるトナー搬送手段を用いた現像装置において、接合領域が画像形成に直接関与せず、高品質な画像を得ることができる現像装置を提供することである。 - 特許庁

To attain high quality and high yield by preventing occurrence of failure resulting from material formation in an assembly process of a liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置の組み立て工程における、材料形成に起因する不良の発生を未然に防止し、高品質・高歩留まりを実現することができる液晶表示装置の製造方法及び製造装置の提供。 - 特許庁

To provide a magnetic field generating member capable of enhancing rigidity and downsizing, a development device with the magnetic field generating member, a process cartridge, an image formation device, and a method for manufacturing the magnetic field generating member.例文帳に追加

剛性を高めて小型化できるようにした磁界発生部材、この磁界発生部材を備えた現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置、並びに、この磁界発生部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the above tempering process, since the film-formation temperature of the DLC film with the plasma CVD method reaches to the tempering temperature of the base material, the tempering treatment and the plasma CVD treatment can simultaneously be applied.例文帳に追加

上記の焼戻し工程において、プラズマＣＶＤ法によるＤＬＣ膜の成膜温度が上記基材の焼戻し温度に達するため、焼戻し処理とプラズマＣＶＤ処理とを同時に行うことができる。 - 特許庁

In a second laser scribe process, the positions of marks 21, 22 provided in the first laser scribe process are confirmed prior to the formation of a second groove 6, the distance among respective laser optical systems 30, 31, 32, 33 is corrected, and an adjustment is made so that the interval of the laser beams emitted to the substrate 1 becomes equal to that between prior first grooves 3.例文帳に追加

第二レーザスクライブ工程では、第二溝６の形成に先立って、第一レーザスクライブ工程の際に設けられたマーク２１，２２の位置を確認し、各レーザ光学系３０，３１，３２，３３同士の距離を補正し、基板１へ照射されるレーザ光の間隔が先の第一溝３同士の間隔と等しくなる様に調整する。 - 特許庁

Then, when drawing processing is completed and printing start request is made to an engine part 108, start of the image formation process of MYK of a plane of color where drawing point discrimination is performed and a plane of a color used by the stamp pattern is performed by the engine part 108, synchronized with the imaging process operation of the engine part 108, and the data are printed and outputted.例文帳に追加

そして、描画処理が完了し、エンジン部１０８に印刷起動を行う際、描画点判別された色のプレーンとスタンプパターンが使用する色のプレーンのＭＹＫの作像プロセス起動をエンジン部１０８で行い、エンジン部１０８の作像プロセス動作に同期させて印刷出力する。 - 特許庁

The manufacturing method of a wiring board 1 has a process that measures the position of an alignment mark 65 of a frame 61 in an interlock substrate 63 consisting of a product assembly part 59 and the frame 61, and calculates hole-machining data; and a hole formation process that forms a hole 23 at the product assembly part 59 based on the hole-machining data.例文帳に追加

配線基板１の製造方法は、製品集合部５９と枠部６１とからなる連結基板６３のうち、枠部６１の位置合わせマーク６５の位置を計測し、孔加工データを算出する工程、及び、孔加工データに基づき、製品集合部５９に孔２３を形成する孔形成工程を備える。 - 特許庁

An image formation device is provided with a process information acquisition part 117 that acquires item data of a logging item based on a setting file 301 in which the logging items in control services (for example, ECS 124 and MCS 125) or process information on applications 130 (for example, a copy application 112) are set.例文帳に追加

画像形成装置において、コントロールサービス（例えば、ＥＣＳ１２４、ＭＣＳ１２５など）またはアプリケーション１３０（例えば、コピーアプリ１１２など）のプロセス情報の中のロギング項目が設定された設定ファイル３０１に基づいて、ロギング項目の項目データを取得するプロセス情報取得部１１７を備えた。 - 特許庁

In the manufacturing process of the magnet, the slurry is dispersed and the aggregate of the primary particle of the magnetic powder is decomposed in the slurry dispersion process, thus improving the orientation properties of the magnetic powder in formation by manufacturing the magnet using the manufacturing method of the magnet and hence improving the magnetic characteristics of the magnet.例文帳に追加

この磁石の製造方法においては、スラリー分散工程で、スラリーが分散されて磁性粉末の一次粒子の凝集体が分解されるため、この磁石の製造方法を用いて磁石を作製することで、成形時における磁性粉末の配向性の向上が図られ、その結果、磁石の磁気特性が向上する。 - 特許庁

To provide a method for pre-treating molten iron and its refining method by which the refining without using fluorite can be performed at the molten iron pretreatment and also, a decarburizing process, and the formation of slag for dephosphorizing in the decarburizing process is minimized and a heat tolerance is improved by efficiently adding carburizing material into the molten iron.例文帳に追加

溶銑予備処理・脱炭工程ともに蛍石を使用しない精錬を可能にし、脱Ｐ工程、脱炭工程での脱Ｐ用スラグの形成を最小限にし、溶銑中に加炭材を効率よく添加して熱裕度の向上を図る溶銑予備処理方法及び精錬方法を提供する。 - 特許庁

A film formation method for forming a Cu film on a substrate to be treated comprises a first process of forming a contact film on the Cu diffusion prevention film formed on the substrate to be treated, and a second process of forming the Cu film on the contact film containing Pd.例文帳に追加

被処理基板上にＣｕ膜を成膜する成膜方法であって、前記被処理基板上に形成されたＣｕ拡散防止膜上に密着膜を形成する第１の工程と、前記密着膜上にＣｕ膜を成膜する第２の工程と、を有し、前記密着膜はＰｄを含むことを特徴とする成膜方法。 - 特許庁

The method for producing a silicon wafer includes: a process of forming an epitaxial layer (2) on a silicon wafer (1) to which carbon is added; and a process of accelerating the formation of carbon and oxygen-containing precipitates formed in the silicon wafer (1) by heat treating the silicon wafer (1) formed thereon with the epitaxial layer (2) at 650 to 1,000°C.例文帳に追加

本発明のシリコンウェーハの製造方法は、炭素を添加したシリコンウェーハ（１）上にエピタキシャル層（２）を形成する工程と、該エピタキシャル層（２）を形成したシリコンウェーハ（１）に対して６５０℃〜１０００℃の熱処理を施して、シリコンウェーハ（１）中に生成する、炭素及び酸素を含む析出物を促進する工程を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes an element manufacturing process wherein a semiconductor element is formed on a semiconductor substrate 10 and an interlayer film formation process wherein a LOCOS oxide film 12 having an opening at a desired position is formed as a constituent component of the semiconductor device on the surface RS of the semiconductor substrate 10.例文帳に追加

当該半導体装置の製造方法は、半導体基板１０に半導体素子を作製する素子作製工程と、当該半導体装置の構成要素として、所望の位置で開口するＬＯＣＯＳ酸化膜１２を半導体基板１２の表面ＲＳに形成する層間膜形成工程とを備える。 - 特許庁