Filmsを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 13275件
The polishing compound for CMP contains a copper (II) or nickel (II) compound of 0.05-5 mass%, abrasive grains for polishing of 0.01-10 mass%, and an oxidant 0.01-10 mass%, and the CMP polishing method for copper films uses the polishing component for CMP.例文帳に追加
銅(II)またはニッケル(II)の化合物0.05〜5質量%、研磨砥粒0.01〜10質量%、および酸化剤0.01〜10質量%を含有してなることを特徴とするCMP用研磨組成物、および当該CMP用研磨組成物を使用することを特徴とする銅膜のCMP研磨方法。 - 特許庁
To provide a thermosetting gas barrier polyurethane resin having very high gas barrier properties to oxygen, water vapor, perfume components, etc., not losing its high gas barrier properties even after subjected to a treatment such as boiling or retorting especially under high humidity, and is excellent in adhesion to base films and to provide a gas barrier film containing the resin.例文帳に追加
酸素、水蒸気、香気成分等に対するガスバリア性が極めて高く、特に高湿度下においてボイル処理およびレトルト処理を受けた後にも高いガスバリア性を維持し、さらに基材フィルムとの密着性にも優れた熱硬化型ガスバリア性ポリウレタン樹脂およびこれを含むガスバリア性フィルムを提供する。 - 特許庁
Thus, even in the case film formation is continuously executed onto plural substrates 10 by cooling a shower plate 5 whose temp. has been raised by being left standing in a vacuum, the atmosphere in the vacuum tank 2 can almost be made fixed, so that it is made possible that the film forming rate is made hardly changed even in the case the number of films to be formed is increased.例文帳に追加
このため、真空中放置で温度上昇したシャワープレート5を冷却することで、連続して複数の基板10上に成膜しても、真空槽2内の雰囲気をほぼ一定にすることができるので、成膜枚数が増えても成膜速度がほとんど変化しないようにすることができる。 - 特許庁
The conductive supports 10 and 11 are composed of main body parts 10a and 11a having a Young's modulus capable of sufficiently suppressing the propagation of vibrations from the piezoelectric element 1 to the substrate 20 and conductive films 10a and 11b formed on the surface parts of these main body parts 10a and 11a and conducted with the electrodes 8 and 9 on the lower surface of the piezoelectric element 1.例文帳に追加
導電性支持体10,11を、圧電素子1から基板20への振動伝播を十分に抑制しうるヤング率を有する本体部10a,11aと、この本体部10a,11aの表層部に形成され、圧電素子1の下面電極8,9と導通する導電膜10b,11bとで構成する。 - 特許庁
On at least one surface of a transparent base 2, the patch antenna elements 3 for blocking an electromagnetic wave of predetermined frequency are arranged two dimensionally, and the pattern of the patch antenna elements 3 is formed by using a mesh pattern composed of thin wires of conductive thin films of 10 to 80 μm in wire width so as to have the see-through property.例文帳に追加
透明基材2の少なくとも一方の面に、所定周波数の電磁波を遮蔽するためのパッチアンテナ素子3が2次元的に配設されてなり、前記パッチアンテナ素子3のパターンは、線幅が10〜80μmの導電性薄膜の細線からなるメッシュパターンを用いて、透視性を有するように形成する。 - 特許庁
To eliminate the need for using a phase compensation means of electrical driving and relax restrictions of designing an optical system, in the optical pickup system for recording/reproducing two or more kinds of magneto-optical recording media having a recording layer formed of multi-layered films and differing from each other in a phase difference between rays of polarized light produced at the time of reproducing a signal.例文帳に追加
多層膜で構成される記録層を有し、かつ信号再生時に生じる偏光間位相差が互いに異なる複数種の光磁気記録媒体を記録/再生する光ピックアップにおいて、電気的に駆動する位相補償手段を用いることなく、また光学系設計制約を緩和することを可能にする。 - 特許庁
By the use of a printer which is called a 3D printer and can form relief-like irregularity, an operation in which a multiphase object including metal powder, inorganic compound powder, polymer material powder, etc., and a binding agent is sprayed on a target face is performed at least once, thereby stacking films of an additive object to obtain the irregularity having an arbitrary shape.例文帳に追加
3Dプリンタと称される、レリーフ状の凹凸を形成可能なプリンタを用い、金属粉末、無機化合物粉末、高分子材料粉末などと、結合材を含む混相物を、対象面に噴き付ける操作を、少なくとも1回行うことにより、混和物の膜を積層し、任意の形状を有する凹凸を得る。 - 特許庁
A plurality of capacitors C1, C2, C3 comprising a lower electrode 15, dielectrics 16a, 16b, 16c, and an upper electrode 23, respectively, are incorporated into chips and disposed on a substrate 10, and each of dielectric films 16a, 16b, 16c of the plurality of capacitors C1, C2, C3 has a different film thickness.例文帳に追加
下部電極15、誘電体膜16a,16b,16c及び上部電極23により構成される複数のキャパシタC1,C2,C3が基板10上に1チップ化されて形成され、複数のキャパシタC1,C2,C3のそれぞれの誘電体膜16a,16b,16cの膜厚が異なっていることを含む。 - 特許庁
Also, an electron emitting element is equipped with a pair of conductive films 4 disposed on a base 1 at an interval and an organic film 6 disposed on the conductive film 4, and the sticking part of the organic film 6 extruded from the rim side of the conductive film on the base 1 is kept within a width of not more than 5 μm.例文帳に追加
また、基板上に、間隙を隔てて配置された一対の導電性膜と、前記導電性膜上に配置された有機膜とを備える電子放出素子であって、前記有機膜の前記基板上における前記導電性膜縁辺からのはみ出し部分が5μm以下であることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing flash memory element by which the reliability of a flash memory element can be improved by securing the stability of a process by improving the EFH differences induced among a cell region, a high-voltage transistor region, and a low-voltage transistor region by the projecting sections of the field oxide films of the regions.例文帳に追加
セル領域、高電圧トランジスタ領域及び低電圧トランジスタ領域それぞれのフィールド酸化膜の突出部によってこれらの領域間に誘発されるEFH差を改善させて工程の安定性を確保し、素子の信頼性を向上させることが可能なフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
In depositing five layers of the antireflection films, the respective layers are continuously deposited by opening a shutter 24 for starting the vapor deposition of a material for vapor deposition (ZrO_2) 12a for deposition of the second layer before closing a shutter 23 for stopping the vapor deposition of a material for vapor deposition (SiO_2) 11a for deposition of the first layer.例文帳に追加
蒸着により5層の反射防止膜16を成膜する際に、第1の層を成膜する蒸着材料(SiO_2)11aの蒸着を停止するシャッター23を閉じる前に、第2の層を成膜する蒸着材料(ZrO_2)12aの蒸着を開始させるシャッター24を開けて、各層を連続で成膜する。 - 特許庁
The sealing members consisting of films 36 and 38 are arranged at both side parts and on the front side of the blade member 35 functioning as a layer thickness regulating member for the developing roller 25 arranged to be opposed to a photoreceptor drum 12 in the developing device, and the sealing member 32 consisting of foam is provided at the peripheral part 21a of the opening of the device frame.例文帳に追加
現像装置の感光体ドラム12に対向させて配置する現像ローラ25に対して、層厚規制部材としてのブレード部材35の両側部と、前側にはフィルム36、38によるシール部材を配置し、装置フレームの開口部の周囲部21aには、発泡体によるシール部材32を設ける。 - 特許庁
When the content of the sum of the 8C fatty acids and the 10C fatty acids in the fatty acids constituting the oils and fats is ≥98 mass%, and the content of the 8C fatty acids is ≥66 mass%, the composition is extremely superior in the properties to be packed in capsule films.例文帳に追加
また、上記構成において、油脂の構成脂肪酸に占める炭素数8の脂肪酸と炭素数10の脂肪酸との和の割合が98質量%以上であり、炭素数8の脂肪酸の割合が66質量%以上であるものとすれば、カプセル皮膜への充填性に極めて優れている。 - 特許庁
The adhesive label has an information display part on one side of a base material, and has an adhesive layer on the other side, and the base material is stacked with resin films on a metallic foil, and the adhesive label is stuck on the outer surface of the hard disk drive case, and can thereby reduce noise generation at the time of driving the hard disk drive.例文帳に追加
基材の片面に情報表示部を有し、他面に粘着剤層を有する粘着ラベルであって、前記基材は、金属箔の両面に樹脂フィルム層が積層され、前記粘着ラベルは、ハードディスクドライブの筐体外面に貼付されることでハードディスクドライブ駆動時の発生音を低減することが可能な粘着ラベル。 - 特許庁
The method for producing the self-supporting substrate essentially consists of the step D of forming an intermediate layer comprising a thin ZnO film and a thick GaN film on the intermediate layer on a flat substrate comprising GaN in the given order a plurality of times and the step E of removing the plurality of intermediate layers and separating the substrate from the plurality of thick GaN films.例文帳に追加
GaNからなる平板状の基材の上に、ZnO薄膜からなる中間層と中間層の上にGaN厚膜を順に複数回形成する工程Dと、複数の中間層を除去し、基材と複数のGaN厚膜とを分離する工程Eと、を少なくとも具備した自立基板の製造方法。 - 特許庁
A tightly adhesive layer 40 for increasing a tightly adhesive force between a first insulating film 8 and a second insulating film 11 is provided between the first and second insulating films 8 and 11 at sites where at least the end face of the first insulating film 8 and the end face of the second insulating film 11 are brought into contact with a liquid.例文帳に追加
本発明は、少なくとも第1の絶縁膜8の端面及び第2の絶縁膜11の端面が液体と接触する部位においては、第1の絶縁膜8と第2の絶縁膜11との密着力を増大させる密着層40を第1及び第2の絶縁膜8及び11の間に設ける。 - 特許庁
To provide a method for continuously manufacturing a liquid crystal element, for preventing reduction in the yield of an optical film and preventing decrease in the inspection accuracy of an optical inspection (for example, an inspection by reflected light and an inspection by transmitted light) in the process of laminating two or more sheet pieces of optical films on a liquid crystal panel.例文帳に追加
液晶パネルに2以上の光学フィルムのシート片を積層する場合において、光学フィルムの歩留まりを低下させず、かつ、光学的検査(例えば、反射光による検査、透過光による検査)の検査精度を低下させないようにした液晶表示素子の連続製造方法を提供する。 - 特許庁
While relatively moving the material gas discharging device 30 and a processing table 12 along the thin film forming direction 5, the material gas is discharged from each of the discharging device bodies 31_1, 31_2 and 31_3 into a vacuum tank 11 to make the gas reach a film forming object 20 on the mounting surface 13 to form a plurality of linear thin films simultaneously.例文帳に追加
材料ガス放出装置30と処理台12を一の薄膜形成方向5に沿って相対移動させながら、各放出装置本体31_1、31_2、31_3から材料ガスを真空槽11内に放出させて載置面13上の成膜対象物20に到達させ、直線状の薄膜を複数本同時に形成する。 - 特許庁
To provide a polyolefinic laminated structure obtained by providing polyolefinic resin films on both surfaces of a polyolefinic lightweight material, which is a core material, with good adhesiveness, capable of being recycled and suitably used for various uses as a decorative sheet, a decorative panel or a building material such as a heat insulating material, a sound insulating material or the like.例文帳に追加
ポリオレフィン系軽量材料を芯材とし、その両面にポリオレフィン系樹脂フィルムを接着性よく設けたものであって、リサイクルが可能であり、例えば化粧シート、化粧パネル、断熱材や遮音材などの建築材料などとして各種用途に好適に用いられるポリオレフィン系積層構造体を提供する。 - 特許庁
In the optical waveguide device 1, optical waveguide layers 5 each of which is constituted of cores 3 and clads 4a, 4b which are formed by silicon oxidized films whose refractive indexes are different from each other are provided to a silicon substrate 2 and the refractive index of the silicon oxidized film as the clads is smaller than that of the silicon oxidized film as the core 3.例文帳に追加
シリコン基体2に、互いに屈折率の異なるシリコン酸化膜によって形成されたコア3及びクラッド4a、4bからなる光導波層5が設けられ、前記クラッドとしての前記シリコン酸化膜の屈折率が、コア3としての前記シリコン酸化膜の屈折率より小さい、光導波装置1。 - 特許庁
Glass electrolyte is adhered to a woven fabric or non-woven fabric 11 of inorganic material (glass fiber, ceramic fiber, or the like) having gas permeability and heat resistance, and polymer films 12 and 12 containing fluorine having a functional group are laminated on both front and back surfaces of the woven fabric or non-woven fabric 11, thereby forming the solid polyelectrolyte film 10.例文帳に追加
ガス透過性と耐熱性を有する無機系素材(ガラス繊維・セラミック繊維等)の織布または不織布(11)にガラス電解質を付着形成させ、同織布または不織布(11)の表裏両面に、官能基を有する含フッ素重合体膜(12,12)を積層固着して固体電解質膜(10)を形成した。 - 特許庁
To provide a suction roller which can surely convey and guide a web such as extremely thin films or paper requiring delicate handling in the state sucked and held over the entire width direction, in which structure is simple and a group of suction blocks can be easily assembled to a roller body and whose manufacturing cost can be small as the whole.例文帳に追加
極薄のフィルムや紙などの繊細な取り扱いが必要なウェブを、全幅方向に亘って吸着保持した状態で確実に搬送案内でき、構造が簡単で一群の吸引ブロックがローラ本体に簡単に組み付けられ、全体として製造コストが少なくて済むサクションローラを提供する。 - 特許庁
On a first surface of a Si wafer 1, a pad oxide film 4 and a nitride film 5 are laminated successively, field oxidation is formed between the etched nitride films 5 to form a field oxide film 6, and on a second surface of the Si wafer an oxide film 2, a polysilicon film 3, a pad oxide film 4 and a nitride film 5 are laminated successively.例文帳に追加
シリコンウェハ1の第1の面側においては、パッド酸化膜4及び窒化膜5を順次積層し、エッチングされた窒化膜5間をフィールド酸化させてフィールド酸化膜6を形成し、シリコンウェハの第2の面側には、酸化膜2とポリシリコン膜3とパッド酸化膜4と窒化膜5とを順次積層する。 - 特許庁
The semiconductor integrated circuit device comprises a lower electrode D of the MIM capacitance element having a lower electrode D, a capacity insulating film C and an upper electrode U, and the gate electrode G of the MISFET for constituting the CMOS, made of a tantalum films so that the capacity insulating film C of the MIM capacitance element is a thermal oxidation silicon film 17 formed on the tantalum film.例文帳に追加
下部電極D、容量絶縁膜Cおよび上部電極Uを有するMIM容量素子の下部電極Dと、CMOSを構成するMISFETのゲート電極Gをタンタル膜とし、MIM容量素子の容量絶縁膜Cをタンタル膜上に形成された熱酸化シリコン膜17とする。 - 特許庁
This method of stably manufacturing the electrogalvanized steel plate having the excellent electrical conductivity, corrosion resistance has a process step of electrogalvanizing a steel plate by a chloride plating bath of a pH 4 to 5 and a process step of coating the steel plate with corrosion resistant films at a coating weight of 0.9 to 1.5 g/m^2 per one surface of the steel plate.例文帳に追加
鋼板をpH4〜5の塩化物めっき浴により電気亜鉛めっきする工程と、その後、耐食性皮膜を鋼板の片面あたり0.9〜1.5g/m^2 の付着量で被覆する工程とを具備する、導電性、耐食性および外観に優れる電気亜鉛めっき鋼板の製造方法。 - 特許庁
The plurality of divided elements are arranged such that long-axis directions of films of divided elements which are adjacent in the first direction are different or such that the divided elements which are adjacent in the first direction shift from each other in the second direction orthogonal to the first direction by an amount smaller than the length of the divided elements in the second direction.例文帳に追加
複数の分割素子は、第1の方向において隣接する分割素子の膜の長軸方向が異なるか、または、第1の方向において隣接する分割素子が、第1の方向と直交する第2の方向に、当該第2の方向における分割素子の長さよりも小さい量だけずらして配置される。 - 特許庁
On the outside connecting terminal layers 3 of this lead-less chip component, barrier metallic layers 4 are adhesively formed and plated Sn-based binary alloy coating films 5, the Sn of which contains a precipitated metallic element, such as Bi, Ag, Cu, Zn, In, Ni, etc., as metallic layers having high corrosion resistances to the lead-free solder by a barrel electroplating method.例文帳に追加
外部接続端子層3上に、バリア金属層4を被着し、さらにその表面に、バレル電気めっき法によって鉛フローはんだに対して耐食性に優れた金属層として、SnにBi,Ag,Cu,Zn,In,Ni等の金属元素を共析させたSn系の2元合金めっき被膜5を被着したものである。 - 特許庁
The method for measuring a protease comprises the following processes: (1) a process where a protease-containing sample is allowed to come into contact with a thin film (photographic films are excluded) containing a protease substrate and a hardening agent, and formed on the surface of a support; and (2) a process where the digestion marks formed on the thin film by the action of a protease are detected.例文帳に追加
プロテアーゼの測定方法であって、(1)プロテアーゼ基質と硬膜剤とを含み支持体表面に形成された薄膜(ただし写真用フイルムを除く)に対してプロテアーゼを含む試料を接触させる工程;及び(2)プロテアーゼの作用により該薄膜に形成された消化痕を検出する工程を含む方法。 - 特許庁
In the apparatus for laminate molding, a vacuum laminator 1 and a flattening press 2 are provided adjacently, and a laminating material (5) and a carrier 6 in the form of continuous films are disposed such that they are respectively extended from supply rolls 7, 8 toward take-up rolls 9, 10 while passing through between two hot plates 1A and 1B and between 2A and 2B.例文帳に追加
積層成形装置は、真空ラミネータ1と平坦化プレス機2とが隣接して配設され、連続したフィルム状の積層材(5)および搬送体6が、それぞれ供給ロール7、8から両熱盤1Aと1B、および、2Aと2Bの間を通って巻き取りロール9、10に向って延びるよう配置されている。 - 特許庁
This antistatic structure 8 of a charged particle beam device 1 is characterized by including: the insulators 81 each allowing a charged particle beam EB to pass through the inside thereof; and antistatic films 82 formed at least on the inside surfaces 81a of the insulators 81, and having a specific resistance value of 10^4-10^10 Ω cm.例文帳に追加
荷電粒子線装置1の帯電防止構造8であって、内部に荷電粒子線EBを通過させる絶縁体81と、前記絶縁体81の少なくとも内周面81aに形成され、比抵抗値が10^4Ω・cm〜10^10Ω・cmである帯電防止膜82と、を備えていることを特徴とする。 - 特許庁
In the method for forming a reflection preventing film by laminating thin films composed of materials with respective refractive indices different individually on a substrate 2 for an optical device by vapor phase film formation, the thin film 4 corresponding to the first layer on the substrate 2 for the optical device side is formed under a film forming temperature lower than the temperature for forming the thin film 10 corresponding to the outermost layer.例文帳に追加
光学素子用基材2に気相成膜法により屈折率の異なる材料の薄膜を積層させた反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法は、光学素子用基材2側の第1層目の薄膜4を最外層の薄膜10より低い成膜温度で形成する。 - 特許庁
The infrared ray shielding film comprises: an alternate multilayer film part made by alternately laminating a transparent infrared absorption film and a dielectric film; and a dielectric multilayer film part which is disposed so as to adjoin to the alternate multilayer film part and is made by alternately laminating at least two or more kinds of dielectric films.例文帳に追加
透明な赤外線吸収膜と誘電体膜とが交互に積層されてなる交互多層膜部分と、この交互多層膜部分に隣接するようにして設けられた、少なくとも2種以上の誘電体膜が交互に積層してなる誘電体多層膜部分とから赤外線遮蔽膜を構成する。 - 特許庁
To provide a method for preventing the increase of particles in a copolymer for semiconductor resists suitable for resist films used for forming fine patterns for the production of semiconductors, by which the copolymer for the semiconductor resists extremely reduced in development defects can be obtained, because the particles are little deposited during storage.例文帳に追加
半導体製造の微細なパターン形成に用いられるレジスト膜として好適な、保存中のパーティクルの析出が僅かであるために現像欠陥が極めて少ない半導体レジスト用共重合体を得ることのできる半導体レジスト用共重合体におけるパーティクルの増加防止方法を提供する。 - 特許庁
During a manufacturing process of a membrane sheet for forming the probe card, respective surfaces of a polyimide film 41 covering a metallic film 21A, polyimide films 44A and 44B covering a wire 23, and a polyimide film 45 covering a wire 27 are subjected to flattening and thinning treatment by partial grinding or etching.例文帳に追加
プローブカードを形成する薄膜シートの製造工程において、金属膜21Aを覆うポリイミド膜41、配線23を覆うポリイミド膜44A、44B、および配線27を覆うポリイミド膜45のそれぞれの表面に対し、部分的に研磨もしくはエッチングによる平坦化および薄型化処理を施す。 - 特許庁
The light barrier packaging material comprising a laminated film having oxygen barrier properties and light barrier properties is constituted by successively laminating a stretched polypropylene film, a black polyolefin film, a vapor deposition nylon film and a polyolefin film by providing an adhesive layer between the respective films and reduced in bending deterioration and superior in pinhole resistance.例文帳に追加
酸素バリア性と遮光性とを有する積層フィルムからなる遮光包材において、延伸ポリプロピレンフィルム、黒色ポリオレフィンフィルム、蒸着ナイロンフィルム、ポリオレフィンフィルムが順次積層されており、各層間に接着層を設けた屈曲劣化が少なく耐ピンホール性に優れることを特徴とする遮光包材である。 - 特許庁
This invention is related to the etching solution composition that includes fluorine compounds and iron ions and is used for bulk etching of metal laminate films wherein a layer comprising aluminum or an aluminum alloy is laminated on top and a layer comprising titanium or a titanium alloy on bottom, and an etching method using the etching solution composition.例文帳に追加
本発明は、フッ素化合物と鉄イオンを含むエッチング液組成物であって、上部にアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる層、下部にチタンまたはチタン合金からなる層が積層された金属積層膜を一括エッチングするのに用いられる、前記エッチング液組成物、該エッチング液組成物を用いたエッチング方法に関する。 - 特許庁
In the optical element (polymer gel composition), ions are prevented from permeating an area including the polymer gel particles 12 and the liquid 14 from the outside so as to prevent reduction in response speed required for volume change of polymer gel and repetition stability by the ion impermeable films 16 as ion impermeable members.例文帳に追加
このような光学素子(高分子ゲル組成物)では、イオン不透過部材としてのイオン不透過性フィルム16により、高分子ゲル粒子12及び液体14を含む領域に外部からのイオンの侵入を防止し、高分子ゲルの体積変化に要する応答速度や繰り返し安定性の低下防止を図ることができる。 - 特許庁
To provide a surface conditioning method for aluminum-containing parts capable of removing natural oxidation films and segregated matters and improving corrosion resistance without uselessly consuming a treating liquid in surface treatment of aluminum or aluminum alloy parts and parts provided with iron, copper or zinc or their alloy parts.例文帳に追加
アルミニウムまたはアルミニウム合金部品と鉄、銅もしくは亜鉛またはこれらの合金部を備えた部品の表面処理において、処理液を無駄に浪費することなく、自然酸化皮膜や偏析物を除去して耐食性を向上させることができるアルミニウム含有部品の表面調整方法を提供する。 - 特許庁
The method of manufacturing a polyarylenesulfide resin for films or fibers comprises reacting a polyhalogen aromatic compound with a sulfiding agent in a polar organic solvent to polymerize a polyarylenesulfide resin by using 3.2-5.5 mols of the polar organic solvent per mol of the sulfiding agent.例文帳に追加
本発明のフィルムまたは繊維用ポリアリーレンスルフィド樹脂の製造方法は、ポリハロゲン芳香族化合物とスルフィド化剤とを極性有機溶媒中で反応させてポリアリーレンスルフィド樹脂を重合する際に、該スルフィド化剤1モル当たり、該極性有機溶媒を3.2〜5.5モル使用して重合を行うことを特徴とするものである。 - 特許庁
Preferable mesoporous oxide films are formed, by performing spin-on deposition of the sol-gel precursor containing tetraethyl orthosilicate, water and a surfactant in an alcohol-based solvent onto a substrate, to cure the deposited sol-gel precursor to form a cubic-phase film and exposing the film to an oxidizing atmosphere.例文帳に追加
好ましい中多孔性酸化物膜は、アルコールベースの溶剤中にテトラエチルオルトシリケート、水及び界面活性剤を含むゾルゲル前駆物質の基板上へのスピン・オン処理、立方相膜を形成するための処理されたゾルゲル前駆物質の硬化、次いで、その膜を酸化環境にさらすことによって作る。 - 特許庁
In the fiber reinforced vinyl chloride resin sheet characterized in that a large number of yarns comprising vinyl chloride resin fibers are held between two vinyl chloride resin films and integrated as a whole, the shrinkage factor of the vinyl chloride resin fibers at 90°C is 10% or below.例文帳に追加
塩化ビニル系樹脂繊維からなる複数の糸条が2枚の塩化ビニル系樹脂フィルムの間に狭着され、かつ、全体が一体化されてなる繊維強化塩化ビニル系樹脂シートにおいて、前記塩化ビニル系樹脂繊維の90℃における収縮率が10%以下である繊維強化塩化ビニル系樹脂シート。 - 特許庁
Impurity semiconductor films 12 and 13 of the transistors 4 are formed by film-depositing an impurity doped metallic oxide film wherein a metallic oxide (zinc oxide, magnesium zinc oxide, cadmium zinc oxide, cadmium oxide, etc.) to be a transparent semiconductor contains impurities in one film and then etching the film by using a mask to the film.例文帳に追加
そのトランジスタ4の不純物半導体膜12,13は、透明な半導体である金属酸化物(酸化亜鉛、酸化マグネシウム亜鉛、酸化カドミウム亜鉛、酸化カドミウム等)に不純物を含んだ不純物ドープ金属酸化物膜をべた一面に成膜した後、その膜にマスクを施した状態でエッチングすることによって形成する。 - 特許庁
The silicon wafer cut from a silicon single crystal ingot grown by the Czochralski method is subjected to RTA treatment in a nitride gas atmosphere to form oxide films on both the surfaces of the wafer, then a polysilicon layer is formed and finally the polysilicon layer formed on the surface side of the wafer is removed (1).例文帳に追加
(1)チョクラルスキー法により育成されたシリコン単結晶インゴットから切り出されたシリコンウェーハに対して窒化ガス雰囲気中でRTA処理を施し、ウェーハの両面に酸化膜を形成した後、ポリシリコン層を形成し、その後、ウェーハの表面側のポリシリコン層を除去するシリコンウェーハの製造方法。 - 特許庁
In the coating device for the electrophotographic photoreceptor simultaneously immersing a multiple number of cylindrical substrates in coating liquid and forming coating films on the cylindrical substrates by withdrawing them, drying hoods corresponding to each of the multiple number of cylindrical substrates are provided over a coating tank.例文帳に追加
複数本の円筒状基体を同時に塗布液に浸漬し、引上げて該円筒状基体上に塗布膜を形成する電子写真感光体の塗布装置において、塗布槽の上に複数本それぞれの円筒状基体に対応した乾燥フードを有することを特徴とする電子写真感光体の塗布装置。 - 特許庁
A transparent common electrode 1 is formed on a transparent base 3, and pixel electrodes formed of metal films etc., and thin film transistors 2 are formed in matrix on a base 6 opposite the transparent common electrode 1, and further the electrolytic layer sandwiched between those opposite electrodes is formed of two stacked electrolytic layers.例文帳に追加
透明支持体3の上に、透明共通電極1を形成し、これに対向して、支持体6の上に金属膜等からなる画素電極5と薄膜トランジスタ2とをマトリクス状に形成し、更に、これらの対向電極間に挟持される電解質層を、積層された2つの電解質層で構成する。 - 特許庁
A first inter-layer insulation film 15 is formed on a semiconductor substrate formed with transistors; and lower electrodes 22 electrically connected to the transistors, capacitive insulation films 23, and upper electrodes 24 sequentially formed from the lower side form the capacitive element on the first inter-layer insulation film 15.例文帳に追加
トランジスタが形成された半導体基板の上に、第1の層間絶縁膜15が形成され、第1の層間絶縁膜15の上には、トランジスタと電気的に接続され、下から順次形成された下部電極22と、SBTNからなる容量絶縁膜23と、上部電極24とによって容量素子が形成されている。 - 特許庁
In the lustrous laminated film 10, a metal vapor deposition layer 20, wherein a vapor deposition layer 21 of a Hastelloy alloy and a vapor deposition layer 22 of chromium or a chromium alloy are formed succeessively and continuously as films, is formed on the rear surface of the transparent surface substrate 11.例文帳に追加
透明表面基材11の裏面側にハステロイ合金の蒸着層21及びクロム又はクロム合金の蒸着層22が順次連続して成膜された金属蒸着層20が形成されているともに、前記金属蒸着層が接着剤層14を介してバッキング材15と一体に積層されている。 - 特許庁
To provide an attaching apparatus for check spouting nozzles capable of substantially improving the efficiency of fusion-joining the check spouting nozzles with films for package bags by a simple and small mechanism by simple operation control irrespective of whether a nozzle forming film is delivered continuously or intermittently and traveled.例文帳に追加
ノズル型取りフィルムが連続的に繰出し走行されると、間欠的に繰出し走行されるとの別なく、簡単にして小型な機構および、簡易な作動制御の下で、逆止注出ノズルの、包装袋用フィルムへの融着接合能率を大きく向上させることができる、逆止注出ノズルの取付装置を提供する。 - 特許庁
The boron carbide-containing aluminum composite material is characterized in that boron carbide particles 2 are uniformly dispersed into the matrix of an aluminum alloy 1 in an amount of 2 to 10 vol.%, the films of aluminum borides 3 are formed on the surfaces of the boron carbide particles, and tensile fracture elongation is ≥10%.例文帳に追加
アルミニウム合金1のマトリックス中に炭化ホウ素粒子2が2〜10体積%均一分散してなり、前記炭化ホウ素粒子の表面にアルミニウムホウ化物3の膜が形成されており、引張り破壊伸びが10%以上であることを特徴とする炭化ホウ素含有アルミニウム複合材料。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive composition which effectively sensitizes (extremely) far ultraviolet rays such as KrF excimer laser, ArF excimer laser, or EUV, X-rays such as synchrotron radiations, and electron beams, has excellent sensitivity, and can form chemical amplification type positive resist films capable of high precisely and stably forming fine patterns.例文帳に追加
KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー、EUV等の(極)遠紫外線、シンクロトロン放射線等のX線、電子線に有効に感応し、感度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁
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