First Stepの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7098件
The cured coating film formation method is used for an active energy-curable composition and involves a step of applying the active energy- curable composition to a substrate surface, a first radiation step of radiating active energy in a gas atmosphere having 15% or higher oxygen concentration, and a second radiation step of radiating active energy in a gas atmosphere having less than 15% oxygen concentration in this order.例文帳に追加
活性エネルギー線硬化性組成物の硬化皮膜形成方法であって、基材表面に、活性エネルギー線硬化性組成物を塗工する工程の後、酸素濃度15%以上のガス雰囲気中で活性エネルギー線を照射する第一の照射工程、及び、酸素濃度15%未満のガス雰囲気中で活性エネルギー線を照射する第二の照射工程をこの順に有することを特徴とする硬化皮膜の形成方法。 - 特許庁
The method of manufacturing the molded article from thermoplastic resin includes a first introducing step for introducing the thermoplastic resin in the form of molten resin into a mold for molding the molded article, a second introducing step for introducing supercritical fluid in which an organometallic complex is dissolved into the mold, and a step of solidifying the molten resin, while arranging the metal element on the surface of the molded article.例文帳に追加
熱可塑性樹脂から成形品を製造する方法であって、前記成形品を成形するための成形部に、前記熱可塑性樹脂を溶融樹脂として導入する第1の導入工程と、前記成形部に、有機金属錯体が溶解した超臨界流体を導入する第2の導入工程と、前記溶融樹脂を固化し、金属元素を前記成形品の表面に配置させる工程とを有することを特徴とする方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method includes a first step of forming the insulating film 35 on the pixel region 10 and the peripheral region 50, a second step of lowering the height of a part of the insulating film 35 formed in the peripheral region 50 selectively, and a third step of planarizing the insulating film 35 by performing CMP polishing of the insulating film 35 entirely over the pixel region 10 and peripheral region 50.例文帳に追加
その製造方法は、絶縁膜35を画素領域10及び周辺領域50に形成する第1の工程と、絶縁膜35における周辺領域50に形成された部分について、選択的にその高さを低くする第2の工程と、その後に、絶縁膜35に対して画素領域10及び周辺領域50の全体に渡ってCMPによる研磨を行って、絶縁膜35を平坦化する第3の工程と、を備える。 - 特許庁
In the printed circuit board manufacturing method for forming a metal conductor for interlayer connection by applying electroless plating in a through hole of a multilayer flexible printed circuit board, a conditioning step being the pretreatment is performed in two stages of a first conditioning step of immersing a work in aqueous solution mainly consisting of amine-based surfactant and a second conditioning step of immersing the work in aqueous solution mainly consisting of diols.例文帳に追加
多層フレキシブルプリント基板のスルーホールに、無電解メッキを施して層間接続用金属導体を形成するプリント基板の製造方法において、前処理となるコンディショニング工程を、アミン系界面活性剤を主成分とする水溶液に被処理物を浸漬する第1コンディショニング工程と、ジオール類を主成分とする水溶液に被処理物を浸漬する第2コンディショニング工程との2段階で行なうことを特徴とする、プリント基板の製造方法。 - 特許庁
The method includes preferably a step of plotting the image data frame into a video image constituted with first resolution and offering it to the user, a step of receiving the demand of an image data corresponding to one image data frame, and a step of plotting the demanded image data corresponding to one frame into a static image with second resolution and offering it to the user.例文帳に追加
好ましくは、この方法は、画像データのフレームを、第1の解像度を有するように構成されたビデオ画像として描画するためにユーザに提供できるようにするステップと、画像データのフレームの1つに対応する画像データに対する要求を受け取るステップと、要求された1つのフレームに対応する画像データを、第2の解像度を有するように構成された静止画像として描画するためにユーザに提供できるようにするステップを含む。 - 特許庁
The information retrieval method comprises a first step of accessing an information source comprising a plurality of selectable fields via the online or offline, a second step of selecting and extracting a specific field establishing a retrieval condition from the information source, and a third step of grouping and displaying the contents of the extracted specific field with respect to the time of the X axis and technical classification of the Y axis.例文帳に追加
本発明による情報検索方法は、オンラインまたはオフラインを介して、複数の選択可能なフィールドで構成された情報ソースに接近する1段階と;前記情報ソースで、検索条件を満足させる特定フィールドを選別抽出する2段階と;前記抽出された特定フィールドの内容を、X軸の時間とY軸の技術分類を基準にグルーピングして表示する3段階とを含んで構成されることを特徴としている。 - 特許庁
The first semiconductor layer and second semiconductor layer are formed through: a film-forming step of forming a film by making the rare earth iron oxide made powdery adhere to the surface of a conductive layer formed of copper or copper alloy; and a heat treatment step of forming the second semiconductor layer of the film through a heat treatment and also forming the first semiconductor layer between the conductive layer and second semiconductor layer.例文帳に追加
第1の半導体層及び第2の半導体層の形成は、銅または銅合金で形成した導電層の表面に粉末状とした希土類鉄酸化物を被着させて被膜を形成する成膜工程と、熱処理することにより前記被膜から前記第2の半導体層を生成するとともに、前記導電層と前記第2の半導体層との間に前記第1の半導体層を生成する熱処理工程とにより行う。 - 特許庁
A presentation controlling CPU 101 can execute advance-notice presentation to gradually change the presentation mode from the first stage to a plurality of stages according to a predetermined order, and executes first step-up advance-notice presentation and second step-up advance-notice presentation with a high rate of executing advance-notice presentation to gradually change the presentation mode to higher stages when a jackpot is made than when a jackpot is not made.例文帳に追加
演出制御用CPU101は、予め定められた順番に従って1段階から複数段階まで演出の態様を段階的に変化させる予告演出を実行可能で、大当りとする場合は大当りとしない場合よりも多い段階まで演出の態様を段階的に変化させる予告演出を実行する割合が高い第1ステップアップ予告演出と第2ステップアップ予告演出とを実行する。 - 特許庁
The method includes: a step of removing a chemically stable first impurity-containing layer by performing dry etching to a Zn polar face (+c face) in the surfaces of the substrate; and a step of removing a second impurity-containing layer lying at a position deeper than the first impurity-containing layer.例文帳に追加
)」で表される組成を有する酸化亜鉛系基板の処理方法であって、前記基板の表面のうち、Zn極性面(+c面)をドライエッチングすることにより、化学的に安定な第一の不純物含有層を除去する工程と、前記ドライエッチング面をさらにウェットエッチングすることにより、前記第一の不純物含有層よりも深い位置にある第二の不純物含有層を除去する工程と、を有することを特徴とする酸化亜鉛系基板の処理方法。 - 特許庁
The process for fabricating a ferroelectric capacitor consisting of a first electrode 20, a ferroelectric film 30, and a second electrode 40 comprises a step for performing heat treatment after the second electrode 40 is formed at least on the ferroelectric film 30, and a step for performing polarization of the ferroelectric film 30 by applying a specified voltage at least between the first electrode 20 and the second electrode 40.例文帳に追加
第1電極20、強誘電体膜30、及び第2電極40からなる強誘電体キャパシタの製造方法であって、少なくとも強誘電体膜30の上に第2電極40を形成した後に熱処理を行うこと、熱処理の後に、少なくとも第1電極20と第2電極40との間に所与の電圧を印加することにより強誘電体膜30に対して分極処理を行うこと、を含む。 - 特許庁
A method for producing a molding made from a vegetable fiber is provided which comprises the step of separately preparing a first vegetable fiber mixed with a thermosetting resin and a second vegetable fiber mixed with an elasticized resin and mixing the first vegetable fiber with the second vegetable fiber to prepare a preliminary molding material, and the step of preparing a molding by applying pressure to the preliminary molding material under heating.例文帳に追加
熱硬化性樹脂が混合されている第1の植物繊維と、弾性が付与された樹脂が混合されている第2の植物繊維とを別々に準備してから、前記第1の植物繊維と前記第2の植物繊維とを混合することにより成形前材料を作成する工程と、前記成形前材料を加熱しながら加圧して成形体を作成する工程と、を有する植物繊維からなる成形体の製造方法とした。 - 特許庁
The control means 14 increases the temperature of the inner pot 3 up to the boiling temperature and maintains it in a first step of the first half of the rice cooking process and lowers the temperature of the inner pot 3 up to below the boiling temperature and maintains it in a second step of the second half of the rice cooking process.例文帳に追加
内鍋3と、内鍋3を加熱する加熱手段4と、予熱工程、炊飯工程及び蒸らし工程の各工程毎に加熱手段4を制御する制御手段14とを備え、制御手段14は、炊飯工程前半の第1の工程で、内鍋3の温度を沸騰温度まで上昇させて維持すると共に、炊飯工程後半の第2の工程で、内鍋3の温度を沸騰温度未満に降下させて維持することを特徴とする。 - 特許庁
The method includes a step of detecting the instruction of relocation of serving radio network subsystem for escaping control of a first radio network control device to a user device; and a step of selectively transiting at least one scrambled code among one or several scramble codes, associated with uplink from the first radio network control device for the user device to a second radio network control device via an intermediate transition, in response to the instruction.例文帳に追加
この方法は、ユーザ装置に第1の無線ネットワーク制御装置の支配下を抜けさせるサービング無線ネットワーク・サブシステム再配置の指示を検出する工程と、前記指示に応答して、中間遷移を介して、前記ユーザ装置の第1の無線ネットワーク制御装置から第2の無線ネットワーク制御装置に、アップリンクに関連する1つまたは複数のスクランブル符号のうちの少なくとも1つのスクランブル符号を選択的にトランジットする工程とを含む。 - 特許庁
The method of manufacturing the secondary battery includes: a step in which a first electrolyte layer consisting of a polymer, ionic liquid, and Li salt is installed on an electrode with a gap provided between small pieces of the electrolyte layer; and a step in which a second electrolyte layer consisting of ionic liquid and Li salt is installed on the first electrolyte layer laminated on the electrode and on the gap of the electrolyte layers.例文帳に追加
電極と電解質を含む二次電池を製造する方法であって、電極上に、ポリマーとイオン液体とLi塩からなる第一の電解質層を、該電解質層の小片同士の間に間隙を有して設ける工程と、電極上に積層された第一の電解質層及び該電解質層の間隙上に、イオン液体とLi塩からなる第二の電解質層を設ける工程を含むことを特徴とする二次電池の製造方法。 - 特許庁
The method for producing the enteric granules comprises a step for forming the first enteric layer by coating raw granules or granules containing one or more layers for applying the raw granules with an enteric coating agent containing HPMCAS and a step for forming the second enteric layer on the first enteric layer by using an enteric coating agent containing HPMCAS having dissolution pH which is lower than that of the above HPMCAS.例文帳に追加
また、素顆粒又は素顆粒を被覆する一以上の層を含む顆粒を、HPMCASを含む腸溶性コーティング剤で被覆して第1腸溶性層を形成する工程と、上記第1腸溶性層の上に、上記HPMCASよりも溶解pHが低いHPMCASを含む腸溶性コーティング剤を用いて第2腸溶性層を形成する工程とを含んでなる腸溶性顆粒剤の製造方法を提供する。 - 特許庁
In one aspect and one example, a method for calibrating robotic picker mechanisms in automated storage library systems includes a step in which a calibration mark is detected with at least one sensor from a first position and a second position, where the first position and the second position are separated by an offset distance.例文帳に追加
この発明の一局面および一例において、自動記憶ライブラリシステムにおいてロボットピッカー機構を較正する方法は、較正マークを少なくとも1つのセンサで第1の位置および第2の位置から検出するステップを含み、上記第1の位置と上記第2の位置とはオフセット距離によって隔てられる。 - 特許庁
As the input step, a single ended push-pull amplifier circuit 1 provided with the collector of a first transistor 3 having collector and emitter resistors 7 and 8 and second and third transistors 4 and 5 serially connected between a power source and the ground is used while connecting a base to the collector and emitter of this first transistor 3.例文帳に追加
入力段として、コレクタ及びエミッタ抵抗7、8を有する第1トランジスタ3のコレクタ及びこの第1トランジスタ3のコレクタ及びエミッタにベースが接続され、電源と接地間に直列接続された第2トランジスタ4及び第3トランジスタ5を含むシングルエンドプッシュプル増幅回路1を使用する。 - 特許庁
In a first forming step, the starting cylinder is continuously installed by a perforator arranged coaxially with the longitudinal directional axis line while forming a temporary installed shape having a prescribed wall thickness and including a cavity inside in a front heating zone part of a heating zone having a first heating zone temperature.例文帳に追加
第1の成形ステップでは、出発シリンダが、第1の加熱ゾーン温度を有する加熱ゾーンの前方加熱ゾーン部分内で、所定の壁厚を有する内部にキャビティを含む一時的なアプセット形状を形成しながら、長手方向軸線と同軸上に配置されている穿孔器によって連続的にアプセットされる。 - 特許庁
A single bar member provided with a plurality of locking step parts is constituted so as to be used in common by the first locking lever revolved by spring force in connection with the opening operation of the first front safety door and the second locking lever revolved by spring force in connection with the opening operation of the second side safety door.例文帳に追加
正面の第1の安全ドアの開放動作に連動してバネ力によって回動する第1の係止レバーと、側面の第2の安全ドアの開放動作に連動してバネ力によって回動する第2の係止レバーとが、複数の係止段部を設けた単一のバー部材を共用する構成をとる。 - 特許庁
A method to manufacture a folding tube 10 for a heat exchanger includes a brazing step in which a first tube portion 20 is brought into contact with the support face of a second tube portion 22 in a contact zone (Z) and the first/second tube portions (20), (22) are brazed in the contact zone (Z) by using a brazing filler metal and brazing flux.例文帳に追加
熱交換器用折畳みチューブ10の製造方法は、第1チューブ部位20を接触域(Z)において第2チューブ部位22の支持表面に対して接触させ、また、ろう材とろう付け用フラックスを用いて前記接触域(Z)において第1(20)及び第2(22)のチューブ部位をろう付けする工程を備える。 - 特許庁
When the skin material 5 is laminated on the surface 6a of the intermediate material 6, an intermediate material aligning step is performed to align the position of the intermediate material 6 with the skin material 5 while visually recognizing the first marking line L1 of the skin material 5 through the first slit 6c from the rear face 6b of the intermediate material 6.例文帳に追加
中間材6の表面6aに表皮材5を積層するときに、中間材6の裏面6b側から第1スリット6cを通して表皮材5の第1マーキングラインL1を視認しつつ、表皮材5に対して中間材6の位置を合わせる中間材位置合わせ工程を実施する。 - 特許庁
The correction function creation step creates the optical condition correction function that corrects a lighting parameter other than an exposure amount to be used in exposure processing onto the first substrate based on exposure coordinates within the first substrate surface on the basis of a substrate in-surface size distribution of a pattern formed on a second substrate.例文帳に追加
補正関数作成ステップでは、第1の基板上への露光処理に用いる露光量以外の照明パラメータを前記第1の基板面内の露光座標に基づいて補正する光学条件補正関数を、第2の基板上に形成したパターンの基板面内寸法分布に基づいて作成する。 - 特許庁
A gray code changing point detection circuit 24 outputs a first trigger signal when the signal level of a second step signal S2 at its rising edge exceeds a first threshold Vth1 while outputting a second trigger signal when the signal level of the signal S2 at its falling edge falls below a second threshold Vth2.例文帳に追加
グレイコード変化点検出回路24は、第2ステップ信号S2の立ち上がりエッジでの信号レベルが第1閾値Vth1を上回ったときに第1トリガ信号を出力し、第2ステップ信号S2の立ち下がりエッジでの信号レベルが第2閾値Vth2を下回ったときに第2トリガ信号を出力する。 - 特許庁
The second jig member 30 has a protrusion 34, which is brought into contact with the center of another main surface 12t of the substrate 12, when the second jig member has the jointed material 10 interposed together with the first jig member 40 in the second step, and biases the substrate 12 against the side of the first jig member 40 and makes the substrate 12 warp.例文帳に追加
第2の治具部材30は、第2の工程において第1の治具部材40とともに接合体10を挟んだときに基板12の他方主面12tの中心部に当接して基板12を第1の治具部材40側に付勢し、基板12を反らせる突出部34を有する。 - 特許庁
A beam 6 for a corner has to be locked to first and second binding holders 8 and 9 of first and second specific supports 2p and 2q, the directions of which are different from each other by an angle of 90°, so that the step can be prevented from being made between treads 3 arranged at the corner portion where the two tread rows cross each other in the temporary scaffolding.例文帳に追加
仮設足場において2つの踏み板列が交差するコーナー部に配置される踏み板3に段差が生じないようにするためにはコーナー用梁6を90度向きの異なる第1の特定支柱2pと第2の特定支柱2qの第1及び第2の緊結ホルダー8、9に係止させる必要がある。 - 特許庁
The method comprises the steps of forming a first alignment key on a substrate; forming a material film covering the first alignment key; forming an opaque film on the material film; and lowering a light absorption coefficient of the opaque film by executing an ion implanting step into the opaque film.例文帳に追加
この方法は、基板上に第1アライメントキーを形成する段階と、前記第1アライメントキーを覆う物質膜を形成する段階と、前記物質膜上に不透明膜を形成する段階と、前記不透明膜にイオン注入工程を実施して不透明膜の吸光係数を低くする段階とを含む。 - 特許庁
In a base section 30, when an identification signal is received from a base station 40, an adaptive array control part stops updating first and second complex waits, and a mobile station direction estimating part obtains estimation direction information, corresponding to the update final values of the first and second complex weights W1 and W2 (step 303).例文帳に追加
基地局30において、基地局40の識別信号を受け、アダプティブアレイ制御部は、第1及び第2の複素ウエイトの更新を停止し、移動局方向推定部は、第1及び第2の複素ウエイトW1、W2の更新最終値に対応する推定方向情報を求める(ステップ303)。 - 特許庁
In this case, in a step of growing a second semiconductor layer structure on a substrate in an area where the first layer structure 11 is etched and removed, the diffusion of an excessive material from a first area R1 to a second area R2 is reduced, thus suppressing the growth speed of the layer structure or the change of a crystal composition.例文帳に追加
このとき、第1層構造11がエッチング除去された領域の基板10上に第2半導体層構造を成長する工程において、第1領域R1から第2領域R2への余分な原料の拡散が低減され、層構造の成長速度の増加や結晶組成の変化の発生が抑制される。 - 特許庁
In the method for manufacturing a semiconductor device, after first resin is formed on a front surface of a semiconductor wafer and second resin is formed on a rear surface thereof, and when the thickness of the first resin is A and the thickness of the second resin is B, a step of polishing the second resin is provided so as to satisfy 0.2≤B/A≤1.例文帳に追加
本発明の半導体装置の製造方法は、半導体ウエハの表面上に第1の樹脂、裏面上に第2の樹脂を形成した後、第1の樹脂の厚さをA、前記第2の樹脂の厚さをBとした場合、0.2≦B/A≦1を満たすように第2の樹脂を研磨する工程を備える。 - 特許庁
By being mounted to an equipment in a deformed state in which the center part is raised while its outer peripheral part is compressed from both sides, the push-down receiving part releases float rise above the outer peripheral part at the timing of being pushed down by a shallower second stroke than a prescribed first stroke, and gives the sense of click of the first step.例文帳に追加
その外周部を両側から圧縮して中央が上に浮き上がった形状に変形した状態のまま機器に取り付けることにより、押下受け部が所定の第1のストロークよりも浅い第2のストロークだけ押下されたタイミングで外周部の上への浮き上がりを解消させて1段目のクリック感を与える。 - 特許庁
The conductor layer 13 is formed on a first substrate 15, the wireless tag chip section 14 is mounted on a second substrate 16, and the conductor layer 13 and wireless chip section 14 are electrically connected across a step between the first substrate 15 and second substrate 16 by an inter-substrate connection path 22 formed of a conductive paste material.例文帳に追加
導体層13は第1基板15に形成され、無線タグチップ部14は第2基板16に搭載され、導電性ペースト材によって形成される基板間接続路22によって第1基板15と第2基板16と段差を乗り越えて、導体層13と無線タグチップ部14とが電気的に接続される。 - 特許庁
However, while the determination of inventive step is based on the “time the application was filed (or the date of priority, if priority is claimed)” in the JPO and the EPO, where the first-to-file principle has been adopted, it is based on the “time the invention was made” in the USPTO, where the first-to-invent principle is adopted (see the explanation of the USPTO in Case 1, 3-6). 例文帳に追加
ただし、進歩性の判断は、先願主義が採用されるJPO及びEPOでは、「出願時(優先権主張を伴う場合は優先日)」を基準とするのに対して、先発明主義が採用されるUSPTOでは「発明時」を基準とする(事例1、3-6についてのUSPTOの説示を参照)。 - 特許庁
An oxide film existing on a surface of the first layer and an oxide film existing on a surface of the second layer are resolved at a temperature less than a temperature at which a metal configuring the first electrode is solid-phase diffused and less than a temperature at which a metal configuring the second electrode is solid-phase diffused (step S2).例文帳に追加
前記第1の電極を構成する金属が固相拡散する温度未満、かつ前記第2の電極を構成する金属が固相拡散する温度未満の温度で、前記第1の層の表面に存在する酸化膜及び前記第2の層の表面に存在する酸化膜を還元する(ステップS2)。 - 特許庁
In a resist layer RS on a board SB, after the first pattern B is transferred to the left half of a region 1 to be transferred, the board SB is stepped by a half of a pitch P of a step, corresponding to the length X and the first and second patterns A and B are respectively transferred to the left half and right half of the region 1.例文帳に追加
基板SB上のレジスト層RSには、被転写領域1の左半分に第1のパターンBを転写した後、基板SBを長さXに対応する1ステップピッチPの1/2だけステップさせて領域1の左半分及び右半分に第1及び第2のパターンA及びBをそれぞれ転写する。 - 特許庁
The phase shifter having an annular step around an optical axis as a center is provided on one surface of the objective lens and the phase shifter is constituted of steps in a range of 1.01 to 1.13 λ_1 to light having the first wavelength when an absolute value of the phase difference is expressed in terms of a distance and when the first wavelength is defined as λ_1.例文帳に追加
対物レンズの片面には、光軸を中心とする輪状の段差部を備える位相シフタが設けられ、この位相シフタは第1の波長の光に対して、第1の波長をλ_1とするとき、位相差の絶対値が距離に換算した場合に、1.01λ_1から1.13λ_1の範囲の段差で構成されている。 - 特許庁
For a plurality of capacitors 11a-11c, first and second switching elements 15a and 15b are connected in parallel during first period to perform charging with an input voltage Vin, and third and fourth switching elements 15c and 15d are connected in series during second period to perform step-up discharge for a load 21.例文帳に追加
複数のコンデンサ11a〜11cに対し、第1の期間で、第1及び第2のスイッチング素子15a,15bで並列接続して入力電圧Vinによる充電を行うとともに、第2の期間で、第3及び第4のスイッチング素子15c,15dで直列接続して負荷21に対し昇圧放電を行う。 - 特許庁
In a step ST4, a first parameter (contour data) is extracted from the data in the pattern design, the first parameter is converted to a second parameter (the parameter obtained by dividing a plane area by an effective gate area after resizing +Xr) which is added in the electrification in response to the pattern density, and the degree of easiness in electrification is evaluated.例文帳に追加
ステップST4において、第1パラメータ(輪郭データ)をパターン設計上のデータから抽出し、第1パラメータを、パターンの密集度に応じた帯電のしやすさを加味した第2パラメータ(+Xrリサイズ後の平面積を実効ゲート面積で割ったもの)に変換し、帯電の受けやすさを評価する。 - 特許庁
After a first electrode layer 34 is formed on the second antiferromagnetic layer 31, a step of forming a second electrode layer 36 from the internal end faces 31a and 34a of the second antiferromagnetic layer 31 and first electrode layer 34 to the upper surface of a multilayer film 40 through another layer is performed.例文帳に追加
第2反強磁性層31上に第1電極層34を形成し、この第1電極層34とは別工程で、前記第2反強磁性層31及び第1電極層34の内側端面31a、34a上から多層膜40の上面にかけて他層を介して第2電極層36を形成する。 - 特許庁
A step for displaying the connection map on the digital system by mixing video information processed so as to match a display on a display device and a signal representing the video information and the connection map, and the operation of a first local host within the plurality of local hosts are controlled in response to the operation of corresponding a first graphical display.例文帳に追加
コネクションマップを、表示装置での表示に適するように処理されたビデオ情報とともに、ビデオ情報とコネクションマップを表す信号とを混合することにより、ディジタルシステムに表示するステップと、複数のローカルホストのうちの第1のローカルホストの動作を、対応する第1のグラフィカル表示の操作に応じて制御する。 - 特許庁
If it is determined that the plurality of packets are restorable based on the first packet and the FEC packet, the retransmission packet deciding section 107 decides packets to be retransmitted together with the first packet from among the packets obtained by excluding at least some packets from the plurality of restorable packets (step S1505).例文帳に追加
そして、再送パケット決定部107は、第1のパケットとFECパケットに基づいて複数のパケットが復元可能であると判定された場合、復元可能な複数のパケットから少なくとも一部のパケットを除いたパケットから、第1のパケットと共に再送させるパケットを決定する(ステップS1505)。 - 特許庁
A mobile communication method has step A wherein the second wireless base station FBS adjusts the transmission timing of a downlink signal in a second cell under the control of the second wireless base station FBS, based on the measurement result of the reception timing of a downlink signal from a first cell under the control of the first wireless base station MBS.例文帳に追加
本発明に係る移動通信方法は、第2無線基地局FBSが、第1無線基地局MBS配下の第1セルからの下り信号の受信タイミングの測定結果に基づいて、第2無線基地局FBS配下の第2セルにおける下り信号の送信タイミングを調整する工程Aを有する。 - 特許庁
Source potentials of the NMOS transistors of the paired first and second transistor are maintained to be a lower negative potential than a ground potential, respectively, and normally on type NMOS transistors 42, 44 of one step or more intervene between a drain terminal of the PMOS transistors and the drain terminal of the NMOS transistors of the paired first and second transistor.例文帳に追加
第1及び第2のトランジスタ対のNMOSトランジスタのソース電位がそれぞれ接地電位より低い負電位に維持され、かつ、第1及び第2のトランジスタ対のPMOSトランジスタのドレイン端子とNMOSトランジスタのドレイン端子との間に1段以上のノーマリオン型NMOSトランジスタ42、44が介在する。 - 特許庁
In the method for manufacturing the chemically tempered glass having a compressive stress layer in a glass surface layer, formed by ion exchange by a dipping method, a second dipping treatment for dipping the glass in a dipping liquid of a temperature higher by 20-50°C than the temperature of the dipping liquid used in the first step for 10-60 min is applied after a first dipping treatment.例文帳に追加
浸漬法でイオン交換することによりガラス表層に圧縮応力層を形成させた化学強化ガラスにおいて、第1段の浸漬処理後に、第1段の浸漬液温度よりも20℃以上50℃以下の高い温度かつ10分間以上60分間以下で、第2の浸漬処理する化学強化ガラスの製造方法。 - 特許庁
To omit a welding step from a terminal connecting process for connecting a first to fourth circuit board terminal portions 41, 43 provided extending from an FPC 5 and a control circuit board 6 to a first to fourth terminal portions 22, 24 provided at a rectangular cylinder shaped FPC case 7 extending upward from top surface of a flange 1.例文帳に追加
フランジ1の上面から上方側に延設された角筒状のFPCケース7に設けられた第1〜第4フランジ端子部22、24に、FPC5および制御回路基板6から延設された第1〜第4回路基板端子部41、43を接続する端子接続工程から溶接工程を省くことを課題とする。 - 特許庁
Further, the substrate has, in the substrate, a first conductivity type source region 121 formed below the first upper surface, a second conductivity type drain region 121 formed below the second upper surface, and a second conductivity type lateral diffusion region 123 formed between the step lateral face S3 and the source region 121.例文帳に追加
さらに、基板内において、第1上面の下方に形成された第1導電型のソース領域121と、第2上面の下方に形成された第2導電型のドレイン領域122と、段差側面S3とソース領域122との間に形成された第2導電型の側方拡散領域123とを備える。 - 特許庁
When a pressure fluid is supplied to the lock chamber (25) in a step for driving locking of the output rod (2), first the upwardly driven first piston (21) drives the output rod (2) upward, and then the downwardly driven second piston (22) boost-drives the output rod (2) upward by means of a boost mechanism (36).例文帳に追加
上記出力ロッド(2)のロック駆動工程において、上記ロック室(25)に圧力流体を供給すると、まず、上向きに駆動された第1ピストン(21)が出力ロッド(2)を上方へ駆動し、次いで、下向きに駆動された第2ピストン(22)が倍力機構(36)を介して上記出力ロッド(2)を上方へ倍力駆動する。 - 特許庁
In a resonator cover 5, a second sidewall 21 toward an opposite direction of the first sidewall 11 is provided, a second seal face 22 in a face contact with the first seal face 12 is provided, and a step portion 26 having a corner portion 26a in line contact with the inclined seal face 13 and facing the inclined seal face 13 is formed.例文帳に追加
レゾネータカバー5には、第1側壁11と反対側に向かう第2側壁21が設けられているとともに、第1シール面12に面接触する第2シール面22を有し、傾斜シール面13に対向して該傾斜シール面13に線接触する角部26aを有する段部26が形成される。 - 特許庁
When an amount of relative movement of both substrates before and after the correction is smaller than a predetermined amount after the positional deviation of the two sheets of substrates is corrected (step 350: NO), target alignment precision is changed from a first precision where the target alignment precision is preliminarily set into a second precision where the target alignment precision is mitigated as compared to that in the first precision.例文帳に追加
2枚の基板の位置ずれを補正した後、その補正前後における両基板の相対的な移動量が所定量未満の場合(ステップ350:NO)には、目標整合精度を予め設定されている第1精度からそれよりも整合精度の緩和された第2精度に変更する(ステップ360)。 - 特許庁
In the boundary area (20), laser shocking peening can be performed by using a step-down low fluence laser beam which begins from one first fluence laser beam (24) which is in order from the maximum fluence to the minimum fluence in the outward direction from the first area to the non-laser shocking peening area (22) through the boundary area (20).例文帳に追加
境界区域(20)は、第1の区域から境界区域(20)を通って非レーザショックピーニング区域(22)に至る外向き方向に最大フルエンスから最小フルエンスの順になっている、1つの第1のフルエンスレーザビーム(24)から始まる逓減低フルエンスレーザビームを用いて、レーザショックピーニングすることができる。 - 特許庁
A linearly polarized first laser beam with approximately a treatment threshold value is irradiated to the surface of a material, and, while overlapping the irradiation part, the same laser pulse is applied while scanning in a predetermined direction to form a surface ridge-shaped fine periodic structure extended in a direction depending upon the polarization direction on the surface of the material (first step).例文帳に追加
材料表面に直線偏光の加工閾値近傍の第一のレーザを照射すると共に当該照射部をオーバラップさせながら同レーザパルスを所定方向にスキャン照射して前記材料表面に偏光方向に依存した方向に延在する表面畝状微細周期構造を形成する(第一工程)。 - 特許庁
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