「First Steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The regenerated particle is produced by dehydrating, heat-treating and crushing a treating object 10, wherein the heat-treatment is carried out in divided steps including a first heat-treatment step (42), a second heat-treatment step (14) at a temperature higher than the first step, and a third heat-treatment step (32) at a further high temperature.例文帳に追加

被処理物１０を脱水、熱処理及び粉砕して再生粒子を製造するにあたり、熱処理を、第１の熱処理工程（４２）と、これよりも高温の第２の熱処理工程（１４）と、さらに高温の第３の熱処理工程（３２）とに分けて行う。 - 特許庁

This method comprises steps of forming first wiring 20 on a board 5, arranging a pedestal formed in a predetermined shape on the board 5, and connecting the pedestal to the first wiring 20 and forming second wiring 25 extending on the pedestal.例文帳に追加

基板５上に第１の配線２０を形成する工程と、基板５上に所定形状に形成した台座を配置する工程と、第１の配線２０と接続され、かつ台座上に延在する第２の配線２５を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

A first and a second focus information of a projection optical system are determined by forming images of patterns in a plurality of part area in a first and a second regions on a substrate at every focal points (steps 407-425).例文帳に追加

投影光学系によりパターンの像をフォーカス位置毎に基板上の第１の領域内及び第２の領域内の複数の部分領域にそれぞれ形成し（ステップ４０７〜４２５）、投影光学系の第１のフォーカス情報及び第２のフォーカス情報を求める。 - 特許庁

The manufacturing method of the air gap type FBAR includes the steps of: forming a laminated resonant part on a first substrate; forming a cavity on a second substrate; and mutually bonding the first substrate on the second substrate to position the laminated resonant part within the cavity.例文帳に追加

このエアギャップ型ＦＢＡＲの製造方法は、第１基板上に積層共振部を形成する段階、第２基板上にキャビティを形成する段階、キャビティ内に積層共振部が位置するように第２基板上に第１基板を相互に接合する段階を含む。 - 特許庁

The first and second counter formed bodies 17 and 18 are joined on joint end surfaces 17B and 18B, and steps are formed on respective upper surface parts 17C and 18C along the joint end surfaces 17B and 18B of the first and second counter formed bodies 17 and 18.例文帳に追加

第１及び第２のカウンター形成体１７，１８は、それらの合わせ端面１７Ｂ，１８Ｂで連結されているとともに、第１及び第２のカウンター形成体１７，１８の合わせ端面１７Ｂ，１８Ｂに沿う各上面部１７Ｃ，１８Ｃに段差が形成される。 - 特許庁

The light emitting device is formed using a method including the steps of: preparing a sapphire substrate; growing a first layer of Al_1-xGa_xN on the substrate by vapor deposition at an temperature between about 1,000°C and about 1,180°C, and growing a second layer of III-group nitride on the first layer.例文帳に追加

サファイヤの基板を準備し、約１０００℃と約１１８０℃の間の温度で、蒸着によりＡｌ_1-xＧａ_xＮの第１層を基板上で成長させ、第１層の上にあるＩＩＩ族窒化物の第２層を成長させることを含む発光デバイスを形成する。 - 特許庁

At each cylinder, a first required time ITTMF# needed for a lapse of a first crank angle section corresponding to the initial stage of combustion and a second required time ITTMR# needed for a lapse of a second crank angle section corresponding to the latter stage of combustion are detected at steps T5 and T6.例文帳に追加

各気筒毎に、クランク角信号に基づいて燃焼初期に対応する第１クランク角区間の経過に要する第１所要時間ITTMF#と、燃焼後期に対応する第２クランク角区間の経過に要する第２所要時間ITTMR#とを検出する（Ｔ５，Ｔ６）。 - 特許庁

The process comprises steps of forming a gate oxide on the semiconductor wafer substrate, forming a first transistor having a first gate on the gate oxide, and forming a second transistor having a second gate on the gate oxide.例文帳に追加

本発明のプロセスは、半導体ウエハ基板上にゲート酸化物を形成するステップと、ゲート酸化物上に第１のゲートを有する第１のトランジスタを形成するステップと、ゲート酸化物上に第２のゲートを有する第２のトランジスタを形成するステップとを備える。 - 特許庁

This image forming device has a fixing unit 5 to be used commonly in a first and second fixing steps, and a paper form accumulation tray (recorded sheet storage) 6 for once storing the paper forms (recorded sheet) P with images tentatively fixed in the first fixing step.例文帳に追加

１次定着工程と２次定着工程の双方を行う共通の定着器５を備えるとともに、１次定着工程でトナー像を仮定着した用紙（記録シート）Ｐをいったん蓄積する用紙蓄積トレイ（記録シート蓄積手段）６を備える。 - 特許庁

In one embodiment, a method is provided including steps of storing a buffer flag busy indicator data value within a first cacheable memory location and setting a load/store operation reservation on the first cacheable memory location via the store and reserve instructions.例文帳に追加

ある実施形態においては、第１のキャッシュ可能メモリ・ロケーション内にバッファ・フラグ・ビジー標識データ値を格納するステップと、ストア及び予約命令を介して、第１のキャッシュ可能メモリ・ロケーション上にロード／ストア・オペレーション予約を設定するステップを含む方法が提供される。 - 特許庁

The method includes the steps of: detecting a touch of a screen; and setting a luminance value of the screen of a screen area to which touch is detected, to a first value and setting a luminance value of the screen of the residual screen area to a second value that is lower than the first value.例文帳に追加

該方法は、画面のタッチを感知する過程と、タッチが感知された画面領域の画面の明るさの値を第１値に設定し、残りの画面領域の画面の明るさの値を前記第１値より低い第２値に設定する過程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This method includes steps (80 and 82) for giving a previously fixed number of configuration accesses given from a primary bus to the first secondary port and steps (80 and 84) for giving the configuration access given from the primary bus to the secondary port after the previously fixed number of configuration accesses.例文帳に追加

この方法は、プライマリバスから与えられる予め定められる数のコンフィギュレーションアクセスを、第１のセカンダリポートに与えるステップ（８０および８２）と、予め定める数のコンフィギュレーションアクセスの後、プライマリバスから与えられるコンフィギュレーションアクセスを、第２のセカンダリポートに与えるステップ（８０および８４）とを含む。 - 特許庁

A voltage adjustment process S30 of a battery cell 1 includes primary discharging steps S310 to S370 for discharging electricity until a voltage (V) of the battery cell 1 becomes a first target voltage value (V1), and secondary discharging steps S410 to S440 for discharging electricity until the voltage (V) of the battery cell 1 becomes a second target voltage value (V2).例文帳に追加

電池セル１の電圧調整工程Ｓ３０は、電池セル１の電圧（Ｖ）が第一目標電圧値（Ｖ１）となるまで放電する一次放電ステップＳ３１０〜Ｓ３７０と、電池セル１の電圧（Ｖ）が第二目標電圧値（Ｖ２）となるまで放電する二次放電ステップＳ４１０〜Ｓ４４０と、を具備する。 - 特許庁

Reflecting members 30 are aligned in the vicinity of the rear face of the light guide 20 at a constant interval 28, and are provided with second diffusion steps 31 reflecting the irradiation light α1 toward the first diffusion steps 24 of the light guide 20 at the front face, as well as second step faces 32 as reflecting surfaces for reflecting the irradiation light α1.例文帳に追加

反射部材３０は、導光体２０の後面近傍で一定の間隔２８を保って配置され、出射光α１を導光体２０の第１拡散ステップ２４へ向けて反射する第２拡散ステップ３１を前面に有し、出射光α１を反射する反射面である第２ステップ面３２を有している。 - 特許庁

Then, the phase comparator 13 is connected to the DLL loop by the switching circuit 15 at a timing of rise edge of the input clock CLK1, the number of steps of delay cells of the first variable delay circuit 11 is set at the number of steps corresponding to a counter value of the counter 14, and a usual DLL locking operation is performed.例文帳に追加

そして、入力クロックＣＬＫ１の立上りエッジのタイミングで、切換回路１５により位相比較器１３をＤＬＬループに接続するとともに、カウンタ１４のカウンタ値に相当する段数に、第１可変遅延回路１１の遅延セル段数を設定してから、通常のＤＬＬロック動作を行わせる。 - 特許庁

The method for semiconductor solidification includes steps for: forming a bath of molten semiconductor 103 from a first charge 120 of semiconductor which includes dopants; and solidifying the molten semiconductor 103, and in addition includes, during solidification, the implementation of one or more steps for the addition of supplementary charges 120 of semiconductor, which also contains dopants, to the bath of molten semiconductor 103.例文帳に追加

ドーパントを含む第一の半導体チャージ１２０から溶融半導体１０３のバスを形成する段階と、溶融半導体１０３の凝固段階とを含み、更に、ドーパントを含む補充半導体チャージ１２０を溶融半導体１０３のバスに添加する一つ以上の段階を、凝固中に実施することを含む。 - 特許庁

The process steps from forming the diffusion-barrier base film to forming the first copper film are performed continuously in vacuum without exposing the semiconductor substrate to the atmospheric air, and during the process steps, the diffusion barrier base film is heated after the vacuum condition is reached to a vacuum level of 1 × 10^-4 Pa or lower.例文帳に追加

拡散バリア用下地膜の形成から前記第１の銅膜形成までの工程が、前記半導体基板を大気に晒すことなく真空一貫の状態で行われると供に、当該工程の間に、到達真空度で１×１０^-4Ｐａ以下の真空状態にしてから前記拡散バリア用下地膜が加熱される。 - 特許庁

In the moving sidewalk having a plurality of steps which circularly move while maintaining the same vertical plane between an entry port side and an exit port side, the steps are comprised of a first step 2a and a second step 2b which are alternately arranged while a front edge side and a posterior edge side formed in different shapes along a moving direction abutting on each other.例文帳に追加

乗り口側と降り口側との間を同一垂直面内で循環移動する複数の踏段を有する動く歩道であって、踏段は、異なる形状に形成されて移動方向に沿った先端側と後端側とを互いに当接させて交互に配置された第１踏段２ａと第２踏段２ｂとからなる。 - 特許庁

The purge rate PGR (PGR0 in a step 130) at a purge cut time is compared with the first guard value LMTPCUT and the second guard value LMTPTNK, and the smallest one is set at a desired purge rate PGR in restarting the purge (steps 138 to 144 and 128).例文帳に追加

パージカット時点のパージ率PGR（ステップ１３０のPGRO）と、第１ガード値LMTPCUTおよび第２ガード値LMTPTNKとを比較し、最も小さいものをパージ再開時のパージ率PGRの目標とする（ステップ１３８〜１４４，１２８）。 - 特許庁

The method further comprises steps of forming a first resist film (4a) and a second resist film (4b) of the film (4) having different solubilities due to exposure, and removing the film (4a) with a developer to form a resist pattern.例文帳に追加

次に、露光によって溶解度が異なる化学増幅型レジスト膜(4)の第１のレジスト膜(4a)及び第２のレジスト膜(4b)を形成し、現像液で第１のレジスト膜(4a)を除去してレジストパターンを形成する。 - 特許庁

The first reflector 3 is constituted in many steps having different reflection angles, and the second reflector 4 is moved to a positioned corresponding thereto, and the image corresponding to the depth of the inner wall 71 is acquired.例文帳に追加

この第一の反射体３は、反射角の異なる多段に構成されており、これに対応した位置に第二の反射体４を移動させて内壁７１の深さに応じた画像を取得する。 - 特許庁

A method for processing a mold comprises the steps of first obtaining a three-dimensional tread surface shape capable of making a ground contact pressure operating on the tread surface uniform in the case of contacting a block with a ground by using a computer 30, and generating three-dimensional data of the tread surface shape.例文帳に追加

先ず、コンピュータ３０を用い、ブロックが接地した際の踏面に作用する接地圧を均一化可能な３次元の踏面形状を得て、踏面形状の３次元データを生成する。 - 特許庁

In the case of confirming that one of the area A near the entrance and the conveying area C is crowded, the control device body 2 sets the travel speed of the steps to a first slow-down speed.例文帳に追加

このときに、制御装置本体２は、乗り口の近傍領域Ａ、及び搬送領域Ｃの一方が混雑していることを確認した場合、ステップの走行速度を第１徐行速度に設定する。 - 特許庁

The spot of the light formed on a panel is elliptical in the vicinity of the diagonal parts, but its position in the first step is different from that in the second step, so that the spot formed by both the steps looks like a circle when it is viewed as a whole.例文帳に追加

パネルにできる光のスポットは、対角部付近では楕円形であるが、その位置が１回目と２回目とではずれているため、２回分のスポット全体としてみると円形である。 - 特許庁

When this is done, local displacement of the openings (1) resulting from subsequent steps in the process, and which lead to a change in the tension state of the substrate (2), are avoided because the coordinates of a central reference point (4) are determined first.例文帳に追加

この場合、基板（２）の応力状態を変化させることとなる、後の処理手順による穴（１）の場所的な変位は、先ずは中央の基準点（４）の座標を決めることによって防止される。 - 特許庁

In the steps for forming the printing parts of the second and subsequent layers, the printing parts of the second and subsequent layers are formed in the arrangement/discharge order of ink dots different from that of the first layer printing part.例文帳に追加

この際、２層目以降の印刷部を形成する工程で、１層目の印刷部のインクドットの配列・吐出順序とは異なるインクドットの配列・吐出順序で２層目以降の印刷部を形成する。 - 特許庁

In the method for writing the data in the semiconductor memory device, the method includes writing data in a memory cell through two data writing steps having different magnitude relations of voltages applied to a first impurity region and a second impurity region of the memory cell.例文帳に追加

メモリセルの第１不純物領域及び第２不純物領域に印加される電圧の大小関係が互いに異なる２つのデータ書込みステップによってメモリセルにデータの書込みをなす。 - 特許庁

In the manufacturing apparatus of an inflation film, at least three steps of an airing which cool a resin bubble 1 are arranged, and the air capacity of cooling air delivered from an airing of each step is adjusted so as to be: the first step < the second step < the third step.例文帳に追加

樹脂バブル１を冷却するエアーリングを少なくとも３段配置し、各段のエアーリングから吐出される冷却エアーの風量を、１段目＜２段目＜３段目となるように調整する。 - 特許庁

The method includes the initial step of comprising the steps of providing a first metallic component including a surface having a galvanized coating provided thereon and providing a second metallic component including a surface.例文帳に追加

ガルバニック被覆１１を施された表面を有する第１の金属部品１０を用意するステップと、ある表面を有する第２の金属部品を用意するステップとを備える最初のステップを含む。 - 特許庁

In the case of sending large capacity data from a server to a client terminal, first the server informs the client terminal about it (steps 25, 26) to allow the client terminal to monitor a state of a user side channel (step 27).例文帳に追加

サーバーがクライアント端末に対し大容量データの送信をする際には、まず、その旨をクライアント端末に通知し（ステップ２５、２６）、ユーザ側回線の状態監視を行わせる（ステップ２７）。 - 特許庁

The method for manufacturing the stamper for the resin formed article is the method for manufacturing the stamper for the resin article with the multi-step constitution having step differences of at least two steps, and the first layer resist 2 is formed on a base 1.例文帳に追加

樹脂成形品用スタンパの製造方法は２段以上の段差を有する多段構成の樹脂成形品用スタンパの製造方法であって、基板１に１層目のレジスト２を形成する。 - 特許庁

Through exposure and development steps, an external connection terminal part pattern 7 is formed on the first photosensitive insulation resin layer 5, while a semiconductor element connection terminal part pattern 8 is formed on the second photosensitive insulation resin layer 6.例文帳に追加

露光、現像工程を通して第一の感光性絶縁樹脂層５に外部接続端子部パターン７を、第二の感光性絶縁樹脂層６に半導体素子接続端子部パターン８を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrate includes the steps of forming a coupling substrate 30 by coupling a first substrate 10c to a second substrate 20 after the substrate 10c is formed, and thereafter dividing the substrate 30 by a part of an isolation layer 15.例文帳に追加

第１基板１０ｃを作成した後に該第１基板１０ｃを第２基板２０に結合させて結合基板３０を作成し、その後、結合基板３０を分離層１５の部分で分割する。 - 特許庁

Further, the method includes steps 130, 140 of estimating a first magnetic flux orthogonal to the axis of the internal permanent magnet motor, and estimating a second magnetic flux aligned on the axis of the internal permanent magnet motor.例文帳に追加

更に、前記内部永久磁石モータの軸に直交する第１の磁束を推定し、前記内部永久磁石モータの軸に整列する第２の磁束を推定する、各工程１３０、１４０を備える。 - 特許庁

An SWP slave 241 of the first LSI chip steps down an input waveform to an internally handleable voltage which is later stepped up to transmit a signal of the substantially same waveform to the second LSI chip.例文帳に追加

第１のＬＳＩのＳＷＰスレイブ２４１は入力波形を内部処理可能な電圧に電圧降下させ、その後昇圧させた後第２のＬＳＩに対して略同一波形の信号を送信する。 - 特許庁

When a criterion that the CRC is correct is satisfied, a second wireless signal of the at least one high speed downlink shared channel related to the first wireless signal is processed (steps 6 and 7).例文帳に追加

ＣＲＣが正しいことを含む基準が満たされるときに上記無線信号に関連する上記少なくとも一つの高速ダウンリンク共有チャンネルの無線信号を処理する（ステップ６，７）。 - 特許庁

Further, the protection circuit 1b is constituted in two steps of having first and second groups consisting of a protection circuit 1b1 having the bipolar transistors Q1 to Q5 and the bipolar transistors Q6 to Q10.例文帳に追加

また、保護回路１ｂは、バイポーラトランジスタＱ１〜Ｑ５を有する保護回路１ｂ１と、バイポーラトランジスタＱ６〜Ｑ１０を有する保護回路１ｂ２との第１、第２グループを持つ２段構成とされている。 - 特許庁

Among one or more of the irradiating steps, the first irradiation step is to perform the pulse-irradiation by the active energy rays including ultraviolet rays repeatedly on the coated face 120b using a pulse-UV irradiation apparatus 20.例文帳に追加

１または複数の照射工程のうち、第１番目の第１照射工程は、パルスＵＶ照射装置２０により、塗布面１２０ｂに、紫外線を含む活性エネルギー線を、繰り返しパルス照射する。 - 特許庁

A white reference object placed on the table is first sequentially imaged twice by individually turning on the left and right illumination means in steps S2 and S3 and reference image data WL and WR are obtained.例文帳に追加

まずテーブル上に載置した白基準物をステップＳ２およびステップＳ３において左右の照明手段を個別に点灯させて順次２回撮像し、基準画像データＷ_Ｌ、Ｗ_Ｒを得る。 - 特許庁

When the exhaust cleaning catalyst reaches the second target temperature (a step 106), the valve open timing of the exhaust valve is advanced so that the temperature of the exhaust cleaning catalyst becomes the first target temperature (steps 108, 110).例文帳に追加

排気浄化触媒が第２目標温度に達したら（ステップ１０６）、排気浄化触媒が第１目標温度となるように、排気弁の開弁時期を進角させる（ステップ１０８，１１０）。 - 特許庁

A processor 3 is connected to the acceleration sensor 2, and processes an acceleration signal CalAcc relating to acceleration A in order to detect the occurrence of the walking steps, and especially compares the acceleration signal CalAcc with a first reference threshold S+.例文帳に追加

処理装置3 は加速度センサ2 に接続され、歩行ステップの発生を検出する加速度Ａに関係する加速度信号CalAccを処理し、特に加速度信号CalAccを第１の基準しきい値Ｓ+ と比較する。 - 特許庁

In particular, the second voltage conversion circuit 20 requires a relatively small step-down rate because it steps down the voltage which is stepped down by the first stage voltage conversion circuit 10, and thereby conversion efficiency can be enhanced.例文帳に追加

特に、第２の電圧変換回路２０は、一段目の電圧変換回路１０で降圧された電圧を再降圧するため、その降圧率が比較的小さくて済み、変換効率を向上できる。 - 特許庁

The method also comprises the steps of removing the exposed part of the first metal layer by etching with the gate electrode upper part pattern 38a formed as above as a mask, and forming the gate electrode lower pattern 36a.例文帳に追加

そして、これにより形成されたゲート電極上部パターン３８ａをマスクとして、第１の金属層の露出部分をエッチングにより除去しゲート電極下部パターン３６ａを形成する。 - 特許庁

In the case that one of first to third photosensors is not light-shielded, namely, in the case of YES in one of steps S1-S3, a state that a digital camera is not housed in a bag is determined.例文帳に追加

第１〜第３光センサのいずれかが遮光されていない場合、つまりステップＳ１〜Ｓ３のいずれかがＹＥＳである場合は、デジタルカメラがカバンの中に収納されていない状態である。 - 特許庁

In the collinear antenna 1 stacked in 15 steps, each step in the first step sleeve element 11 to the 15th step sleeve element 25 is constituted of an upper step sleeve and a lower step sleeve which constitute a dipole antenna.例文帳に追加

１５段スタックされたコーリニアアンテナ１は、１段目スリーブ素子１１ないし１５段目スリーブ素子２５における各段がダイポールアンテナを構成する上段スリーブと下段スリーブとから構成されている。 - 特許庁