「First Steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

A two-step method of polymerizing a composition containing a free radical photoinitiator includes the sequential steps of exposing the composition to a first radiation source having a maximum spectral output occurring at a wavelength of longer than 300 nm and, thereafter, exposing the composition to a second radiation source having a maximum spectral output occurring at a wavelength of 200-280 nm.例文帳に追加

フリーラジカル光開始剤を含有する組成物を重合させる二段法が、３００ｎｍより大きい波長で起こる最大スペクトル出力を有する第１の放射線源に前記組成物を露光する工程と、その後、２００〜２８０ｎｍの波長で起こる最大スペクトル出力を有する第２の放射線源に前記組成物を露光する工程と、の順次の工程を含む。 - 特許庁

The first scenario outlines the steps necessary to accomplish this when working with standard Java projects, while the second describes the process when working with free-form Java projects (those using an existing Ant script).In both scenarios we'll refer to an imaginary BlackJack example project to illustrate how to set up your application code in NetBeans IDE.例文帳に追加

最初の例では、標準 Java プロジェクトを扱う場合に行う必要がある手順の概略を説明し、2 つめの例では、自由形式 Java プロジェクト、すなわち、既存の Ant スクリプトを使用するプロジェクトを扱う場合の手順を説明します。 両方の例とも、NetBeans IDE でアプリケーションコードを準備する方法を具体的に理解するために、サンプルアプリケーションとして BlackJack というアプリケーションを想定します。 - NetBeans

The present method comprises the steps of obtaining scanned values of the image (302); applying a non-linear correction function to the scanned values, to obtain first approximation values of the corrected reflectance values (306); filtering the approximation values of the corrected reflectance values (308); and applying non-linear correction function, to obtain successive approximation values of the corrected reflectance values (310).例文帳に追加

この方法は、前記画像のスキャン値を入手するステップ（３０２）と、前記スキャン値に非線形補正関数を適用して、反射率の補正値の第１近似値を得るステップと（３０６）、前記反射率の補正値の近似値をフィルタリングするステップ（３０８）と、前記非線形補正関数を適用して、前記反射率の補正値の後続の近似値を得るステップ（３１０）とを含む。 - 特許庁

The method can include steps of: performing a first scheduled injection of a diluent stream (116, 605) into the nozzle (160); checking to see if a time period has exceeded a time threshold; and in response to the time period being greater than the time threshold, performing a second scheduled injection of the diluent stream (116, 605) into the nozzle (160).例文帳に追加

本方法は、ノズル（１６０）への希釈剤流（１１６、６０５）の第１の計画的な注入を遂行する段階と、時間期間が時間閾値を越えているかどうか調べるために検査する段階と、時間期間が時間閾値よりも長いことに応答して、ノズル（１６０）への希釈剤流（１１６、６０５）の第２の計画的な注入を遂行する段階とを含むことができる。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device includes the steps of: depositing a metal film on the semiconductor substrate; forming the metal semiconductor compound layer by reacting the metal film with the semiconductor substrate by a first heat treatment; ion-implanting S to the metal semiconductor compound layer under a condition so that a range is smaller than a thickness of the metal semiconductor compound layer; and rearranging S by a second heat treatment.例文帳に追加

半導体基板上に金属膜を堆積し、第１の熱処理により、金属膜を半導体基板と反応させて、金属半導体化合物層を形成し、金属半導体化合物層に、飛程が金属半導体化合物層の膜厚未満となる条件でＳをイオン注入し、第２の熱処理により、Ｓを再配置することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The method includes steps of implementing a first tracking subsystem for tracking positions of a device against a surface, determining whether to implement a second tracking subsystem for tracking positions of the device against the surface, capturing data corresponding to a location on the surface and determining a position of the device against the surface based on the captured data.例文帳に追加

本発明の方法は、表面に対する装置の位置を追跡する第１の追跡サブシステムを実行するステップと、表面に対する装置の位置を追跡する第２の追跡サブシステムを実行するかどうかを判断するステップと、表面の位置に対応するデータを取り込むステップと、取り込んだデータに基づいて表面に対する装置の位置を決定するステップとを含む。 - 特許庁

This method for manufacturing the capacitor comprises the steps of; providing a metallic foil; forming dielectrics on the metallic foil; forming a first electrode on a part of the dielectrics; forming a protective coating on a part of the metallic foil that includes the whole dielectrics; and etching the metallic foil to form a second electrode.例文帳に追加

金属箔を提供する工程と、該金属箔の上に誘電体を形成する工程と、該誘電体の一部分の上に第１の電極を形成する工程と、該誘電体全体を含む該金属箔の一部分の上に保護被膜を形成する工程と、該金属箔をエッチングして第２の電極を形成する工程とを含むことを特徴とする、キャパシタを製造する方法。 - 特許庁

The litter is obtained by slicing a lumber in an oblique direction from the axial direction of the lumber, and is curled by the slicing as a first requirement and has a size and strength not crushed by the weight of cattle faces but crushed by the steps of the cattle when laid on the floor of the cowshed as a second requirement.例文帳に追加

木材をその樹心の向きに対して斜めとなる向きでスライスすることによって得たものであって、当該スライスによりカールしたことを第１の要件とし且つ牛舎の床に敷き用いたときにその上に落ちた糞の重さで圧し潰されなく牛の歩きによって砕かれる強さおよび大きさを有していることを第２の要件として備えているものである。 - 特許庁

The method comprises the steps of: pulverizing two types of rubber having different hardnesses into first and second rubber powders of specific size; mixing the pulverized rubber powders with a liquid rubber; spraying the rubber powder onto the surface of the rigid plate to a specific thickness by a spray method; vulcanizing the rigid plate treated with a coating material; and shearing the rigid plate.例文帳に追加

異なる硬度を有する二種のゴムを一定の大きさの第１、第２のゴム粉末に粉砕する段階；粉砕したゴム粉末を液状ゴムと共に混合する段階；リジッドプレートの表面に一定の厚さでゴム粉末をスプレー方式により噴射する段階；コーティング処理されたリジッドプレートを加硫する段階；リジッドプレートを剪断する段階からなることを特徴とする。 - 特許庁

The method for eliminating the catalyst residue (2) existing on a surface of a solid structure (3) made from a first material and obtained by catalytic growth comprises the following steps of: catalytically growing a solid structure (4) made from a second material from the catalyst residue (2); and selectively eliminating the solid structure (4) made from the second material.例文帳に追加

触媒成長によって得られた、第１材料で作られたソリッド構造体（３）の表面上に存在する触媒残渣（２）を取り除くこの方法は、以下の段階：第２材料で作られたソリッド構造体（４）を前記触媒残渣（２）から触媒成長させる段階と、前記第２材料で作られたソリッド構造体（４）を選択的に取り除く段階と、を含む。 - 特許庁

The method for testing a semiconductor integrated circuit having a novolatile memory element and a peripheral circuit part other than the novolatile memory element comprises a first step for applying a high voltage to all memory cells in the novolatile memory element and a second step for imparting a test pattern to the peripheral circuit part other than the novolatile memory element while applying a high voltage wherein both steps are performed simultaneously.例文帳に追加

不揮発性記憶素子と不揮発性記憶素子以外の周辺回路部を備えた半導体集積回路の試験方法において、不揮発性記憶素子の全メモリセルに高々電圧を印加する第１のステップと、不揮発性記憶素子以外の周辺回路部に高電圧を印加しながら試験パターンを付与する第２のステップとを有し、上記両ステップを同時に実施する。 - 特許庁

The processor is configured to perform the steps of, performing flow processing on a data packet received at the first endpoint, from the second endpoint, removing a multi-protocol label switching (MPLS) tag from the data packet, translating a source address and destination address of the data packet, and determining a forwarding destination if more than one destination addresses of the data packet are provided.例文帳に追加

プロセッサは、第１のエンドポイントで第２のエンドポイントから受信されたパケットについてフロー処理を行うステップと、マルチプロトコル・ラベル・スイッチング（ＭＰＬＳ）タグをパケットから削除するステップと、パケットのソースアドレスとデスティネーションアドレスとを変換するステップと、パケットのデスティネーションアドレスが２つ以上ある場合は転送デスティネーションを決定するステップとを実行するように構成される。 - 特許庁

In a second exposure step subsequent to first exposure and developing steps, the luminous intensity of irradiation light R2 is decreased to such a degree that, in an area of a second photoresist film 3' irradiated with the irradiation light R2, a saturation exposure region d`exposed enough to be dissolved and removed in the subsequent second developing step has a tapered trapezoid cross section as shown in the figure.例文帳に追加

第１の露光、現像工程に引き続くの第２露光工程において、照射光Ｒ2の光度を、第２フォトレジスト膜３´の照射光Ｒ2により照射されたエリアにおいて後順の第２現像工程で溶解除去され得る程度に感光した飽和感光領域ｄ´が、図示されるような断面が台形の先窄み形状となるまで低減させる。 - 特許庁

The method of producing a polymer composite comprises the steps of mixing smectite clay and polyvinylpyrrolidone to form a first dispersion of an intercalated clay, mixing the dispersion with polyethylene oxide to form a second dispersion, soaking the second dispersion into a ketone to coagulate a polymer composite comprising polyethylene oxide and the intercalated clay, and recollecting the coagulated material.例文帳に追加

スメクタイト・クレー及びポリビニルピロリドンを混合して内部挿入クレーの第一分散体を形成し、前記分散体をポリエチレンオキシドと混合して第二分散体を形成し、前記第二分散体をケトン中に流して、ポリエチレンオキシド及び内部挿入クレーのポリマー複合体を凝集させ、次いで前記凝集物を回収することを含むポリマー複合体の形成方法。 - 特許庁

The driving method includes steps of; generating an average histogram, by retrieving brightness histograms for at least two frames prior to the current frame; generating a luminance component modulated of the luminance component, based on the average histogram; and generating second data for the current frame by modulating the first data for the present frame, based on the modulated luminance component.例文帳に追加

現在フレームより前の少なくとも二つのフレームに対する輝度ヒストグラムを検索して平均ヒストグラムを生成する段階と、前記平均ヒストグラムに基づいて輝度成分を変調された輝度成分を発生する段階と、前記変調された輝度成分に基づいて前記現在フレームに対する第１データを変調して前記現在フレームに対する第２データを生成する段階とを含む。 - 特許庁

The method for designing a phase shift mask includes steps of: placing an underlay pattern 102 in the layout data designing a phase shift mask; placing a first overlay pattern 100 overlapping the underlay pattern 102 and a second overlay pattern 101 not overlapping the underlay pattern in the layout data; and placing a dummy underlay pattern 105 overlapping the second overlay pattern 101 in the layout data.例文帳に追加

位相シフトマスクの設計方法は、位相シフトマスクを設計するレイアウトデータに、下層パターン１０２を配置するステップと、レイアウトデータに下層パターン１０２と重なる第１の上層パターン１００及び下層パターンと重ならない第２の上層パターン１０１を配置するステップと、レイアウトデータに第２の上層パターン１０１と重なるダミー下層パターン１０５を配置するステップとを備えている。 - 特許庁

Production process of an electrode for electrochemical capacitor comprises a first step for forming a polarizable electrode layer on a current collector (steps S1-S3), a second step for embossing the surface of the polarizable electrode layer formed on the current collector (step S4), and a third step for flattening the surface of the embossed polarizable electrode layer (step S5).例文帳に追加

本発明による電気化学キャパシタ用電極の製造方法は、集電体上に分極性電極層を形成する第１の工程（ステップＳ１〜Ｓ３）と、集電体上に形成された分極性電極層の表面をエンボス加工する第２の工程（ステップＳ４）と、エンボス加工された分極性電極層の表面を平坦化する第３の工程（ステップＳ５）とを備えている。 - 特許庁

The method includes steps of: decoding data of an HARQ procedure corresponding to a current TTI (Transmission Time Interval) ; delivering the data to an upper layer reordering entity and reporting an ACK (positive acknowledgement) corresponding to the data when the data are successfully decoded; and assuming data stored in a first soft buffer corresponding to the current TTI as decoded successfully.例文帳に追加

方法は、現ＴＴＩ（送信時間間隔）に対応するＨＡＲＱプロシージャのデータを復号する段階と、データが正常に復号された場合、データを上位層プロトコルエンティティーに送信し、データに対応するＡＣＫ（肯定応答）を返信する段階と、現ＴＴＩに対応する第一ソフトバッファに保存されるデータを、正常に復号されたものとみなす段階とを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the light emitting device includes the steps of: forming an active layer 24 composed of a nitride semiconductor on a first conduction type nitride semiconductor 22; heat treating the active layer 24; and forming a semiconductor layer 26 composed of a second conduction type nitride at a temperature lower than that of the heat treatment, on the active layer 24.例文帳に追加

本発明は、第１導電型の窒化物半導体２２上に窒化物半導体からなる活性層２４を形成する工程と、活性層２４に対して熱処理を行う工程と、活性層２４上に、熱処理の温度より低い温度で第２導電型の窒化物からなる半導体層２６を形成する工程と、を含む発光素子の製造方法である。 - 特許庁

A first process for producing an electric circuit component comprises steps (a) for forming a nonconductive trench structure on a substrate, (b) for patterning solution containing an electroless plating medium in the trench on the substrate by ink jet technology, and (c) for depositing a conductive substance in the opening of the trench structure by electroless plating followed by or not followed by elctroplating.例文帳に追加

本発明の電気回路部品の第１の製造方法は、（ａ）基板上に非導電性の溝構造を形成する工程；（ｂ）インクジェット技術によって、該基板上の溝に無電解メッキ触媒含有溶液をパターニングする工程；および（ｃ）無電解メッキ法または無電解メッキ法に続く電解メッキ法により、該溝構造の開口部に導電性物質を析出させる工程を含む。 - 特許庁

In this case, conductive wires 201-203 are connected to an n-side electrode and p-side electrode on the upper surface of the light emitting element, and an electrode on an upper surface of the protection element, between a conductive member 132 on a first area 111 or a conductive member 133 on a second area 112 on upper surfaces of steps higher than those in its neighborhood.例文帳に追加

この場合、発光素子の上面のｎ側電極、ｐ側電極および保護素子の上面の電極に対して、その近傍でそれより高い段部の上面における第１の領域１１１上の導電部材１３２または第２の領域１１２上の導電部材１３３との間でそれぞれ導電性ワイヤ２０１〜２０３がボンディング接続されている。 - 特許庁

This method comprises the steps of transducing, into a yeast, the first vector expressing the above transcription factor in a yeast and the second vector containing a promoter whose activity is controlled by the transcription factor and an assay reporter operably linked to the downstream of the above promoter and comparing the activity of the promoter in the presence of the test agent with the activity of the promoter in the absence of the test agent.例文帳に追加

酵母において前記転写因子を発現する第１のベクターと，その活性が転写因子により制御されるプロモーターおよび前記プロモーターの下流に動作可能なように連結されたアッセイリポーターを含有する第２のベクターとを酵母に導入し，試験薬剤の存在下におけるプロモーターの活性を試験薬剤の非存在下におけるプロモーターの活性と比較する。 - 特許庁

A method for modifying an advertisement in an EPG includes the steps of: storing television schedule information in a first database, storing advertisement information in a second database; incorporating a portion of the television schedule information into a portion of the advertisement information to form a modified advertisement; and displaying the modified advertisement on a screen.例文帳に追加

一形態において、本発明は、テレビジョン・スケジュール情報を第１のデータベースに記憶する段階；広告情報を第２のデータベースに記憶する段階；変更された広告を形成するためにテレビジョン・スケジューリング情報の一部を広告情報の一部に組込む段階；及び変更された広告を画面に表示する段階を具備する、ＥＰＧの広告を変更する方法を記述する。 - 特許庁

The method for manufacturing the thermoelectric material comprises the steps of first quenching to solidify a molten metal of a composition containing at least one type of element selected from the group consisting of Bi and Sb and at least one type of element selected from the group consisting of Te and Se by a liquid quenching method to manufacture a unidirectionally solidified thin piece or obtaining an ingot or its comminuted powder.例文帳に追加

熱電材料の製造方法は、先ず、Ｂｉ及びＳｂからなる群から選択された少なくとも１種の元素と、Ｔｅ及びＳｅからなる群から選択された少なくとも１種の元素とからなる組成の溶融金属を液体急冷法により急冷凝固させて一方向凝固した薄片を作製するか、又はインゴット若しくはその粉砕粉を得る。 - 特許庁

In EGA optimization simulation, the alignment processing parameters are optimized while taking account of the linewidth variation of a pattern formed, using results of EGA simulation performed using measurement results of first time wafer alignment(EGA measurement), and results of EGA simulation performed using measurement results of second time wafer alignment(EGA measurement) (steps S38, S39, S42, S43).例文帳に追加

ＥＧＡ最適化シミュレーションにおいて、第１回目のウエハアライメント（ＥＧＡ計測）の計測結果を用いてのＥＧＡシミュレーションの結果と、第２回目のウエハアライメント（ＥＧＡ計測）の計測結果を用いてのＥＧＡシミュレーションの結果と、を用いて、形成されたパターンの線幅変動も考慮して、アライメント処理パラメータが最適化される（ステップＳ３８、Ｓ３９、Ｓ４２，Ｓ４３）。 - 特許庁

The method for manufacturing the multilayer interconnection circuit substrate comprises the steps of laminating the thermosetting adhesive layer 15 on a first conductor layer 12, then forming an opening 14 in the layer 15, filling the opening 14 with solder powder 17 at an ambient temperature, and then laminating a second conductor layer 23 on the layer 15 including the opening 14 filled with the powder 17.例文帳に追加

第１の導体層１２の上に、熱硬化性接着剤層１５を積層した後、その熱硬化性接着剤層１５に開口部１４を形成し、その開口部１４に、はんだ粉末１７を常温で充填し、次いで、はんだ粉末１７が充填された開口部１４を含む熱硬化性接着剤層１５の上に、第２の導体層２３を積層する。 - 特許庁

The method for performing color control includes steps of starting the plurality of light sources for white light in a first operation mode for generating white light, and of monitoring an intensity value for the light source having maximum intensity out of the plurality of light sources and controlling the plurality of light sources depending on the magnitude of the intensity value in a second operation mode for generating the white light.例文帳に追加

白色光を発生させるための第１の動作モード中に、前記複数の白色光の光源を起動し、前記白色光を発生させるための第２の動作モード中に、前記複数の光源の中で最高強度を有する光源の強度値を監視し、その強度値の大小に応じて前記複数の光源を制御するステップとにより、色制御を行う。 - 特許庁

First, the image of the protrusion is taken out as gradation data for each pixel, flatness of gradation of the sounding pixels is checked for each pixel, the gradation processing to perform filter processing to the object pixel is performed when it is not flat, and the gradation data to which the gradation processing is performed is binarized so that the image of the protrusion is converted into binary data (steps S17, S27).例文帳に追加

まず、突出物の像を画素ごとに階調データとして取り出し、各画素ごとにその周辺の画素の階調の平坦度を調べ、平坦でない場合には対象画素にフィルタ処理を行うような階調処理を行ない、前記階調処理の行なわれた階調データに対して二値化を行ない突出物の像を二値化データに変換する（ステップＳ１７、Ｓ２７）。 - 特許庁

The chemical mechanical polishing method has twice or more polishing steps of polishing the same conductor film on the same surface plate using polishing liquid, and, between a first polishing step and a last polishing step, has a cooling step of cooling the surface plate so that the temperature of the surface plate becomes -5 to -80°C just after the end of the polishing step most recently performed.例文帳に追加

同一の導体膜を同一の定盤上で研磨液を用いて研磨する研磨工程を２回以上有し、且つ、最初の研磨工程と最後の研磨工程との間に、直前に実施した研磨工程の終了直後の定盤の温度に対して−５℃〜−８０℃となるように定盤を冷却する冷却工程を有する、化学的機械的研磨方法。 - 特許庁

The CNTs are bonded to a conductive substrate by a step of applying, onto the substrate, glass paste which contains a glass frit and a first solvent, by a step of applying CNT paste containing the CNTs and a second solvent to form a CNT paste layer, and after finishing the steps, by a step of melting or softening and cooling the glass paste layer by carrying out heat treatment.例文帳に追加

導電性基板にガラスフリットと、第１溶剤とを含有するガラスペーストを基板上に塗布し、ガラスペースト層を形成させるステップと、ＣＮＴと第２溶剤とを含有するＣＮＴペーストを塗布し、ＣＮＴペースト層を形成させるステップと、該ステップ終了後、加熱処理をすることにより、前記ガラスペースト層を融解もしくは軟化させ、冷却するステップとによってＣＮＴを接着する。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device has the steps of: introducing a second p type impurity into an n well containing a gate electrode and the resistance element to form a p channel type MOSFET and adjust the resistance value of the resistance element; and introducing a third n type impurity into an upper layer electrode of a capacity element containing a first p type impurity to convert into an n type.例文帳に追加

ゲート電極を含むｎウエルと抵抗素子とに第二ｐ型不純物を導入してｐチャネル型ＭＯＳＦＥＴの形成と抵抗素子の抵抗値の調整とをそれぞれ行う工程と、第一ｐ型不純物を含有する容量素子の上層電極に第三ｎ型不純物を導入してｎ型に変換する工程を有する半導体装置の製造方法とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor thin film comprises steps of forming at least a semiconductor thin film on a substrate, forming an anti-reflection film pattern and a reflection film pattern on the semiconductor thin film to be adjacent to each other, and forming direction-aligned semiconductor grains in the lower part of the anti-reflection film pattern by applying a first laser beam from the above side of the substrate.例文帳に追加

この発明による半導体薄膜の製造方法は、基板上に少なくとも半導体薄膜を形成し、半導体薄膜上に反射防止膜パターン及び反射膜パターンを互いに隣接するように形成し、基板上方から第１レーザを照射して反射防止膜パターンの下部に方向性の揃った半導体粒を形成する工程を備える。 - 特許庁

The method also comprises steps of: forming a first optical film having a lens shape by patterning a lens substrate; and forming a second optical film on the first optical film by controlling the film formation condition so that a lens having a desired curvature is constructed.例文帳に追加

半導体基板上に、光電変換部と前記光電変換部で生成された電荷を転送する電荷転送部とを備えた撮像部を形成する工程と、前記撮像部上に、平坦化膜を介して形成された集光レンズを形成する工程とを具備した固体撮像素子の製造方法において、前記レンズ基体をパターニングすることにより、レンズ形状を有する第１の光学膜を形成する工程と、前記第１の光学膜上に、所望の曲率のレンズを構成するように、成膜条件を制御して、第２の光学膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

A method for repairing a workpiece includes the steps providing an unstripped, coated workpiece comprising a surface having a localized damage site; masking the workpiece about the localized damage site; generating a microplasma stream and applying a first powdered material to the localized damage site using the microplasma stream; and applying a second powdered material to the workpiece surface using the microplasma stream.例文帳に追加

局部的な損傷部位を有する表面を含む剥離のない被覆されたワークピースを供給すること、局部的な損傷部位についてワークピースをマスキングすること、マイクロプラズマ流を発生すること、マイクロプラズマ流を用いて局部的な損傷部位に第１の粉末材料を適用すること及びマイクロプラズマ流を用いてワークピース表面に第２の粉末材料を適用することを含む、ワークピースを修復する方法。 - 特許庁

The regeneration method of the organic solvent comprises steps of plurally repeating a step(regeneration step) of contacting the organic solvent purified in such a manner as to contain either one of tantalum or niobium and to contain only few amount of impurities and of obtaining either one of purified liquids of tantalum or niobium in the at least initial regeneration step (the first regeneration step).例文帳に追加

タンタルまたはニオブの一方を含有し不純物を少量しか含有しないように精製された有機溶媒を水または水溶液と接触させる工程（再生工程）を複数回実施して、タンタルまたはニオブの一方および不純物が低減された再生有機溶媒を得るとともに、少なくとも初回の再生工程（第一の再生工程）においてタンタルまたはニオブの一方の精製液を得ることを含んでなる。 - 特許庁

Furthermore, in another embodiment of the present invention, a manufacturing method of the electronic device includes the steps of: forming the antenna element on at least one of a first side, second side and inner side surface of the support member by any one of printing, MID molding, insert molding and sheet metal lamination; and fixing the support member, the lid member and the bottom surface member.例文帳に追加

また、本発明の他の一態様によれば、支持体部材の前記第１の面、前記第２の面及び前記内側面のうち少なくともいずれかに、印刷、ＭＩＤ成型、インサート成形、板金貼り合わせのうちのいずれかによりアンテナエレメントを形成する工程と、前記支持体部材と蓋部材と底面部材とを固定する工程と、を備えたことを特徴とする電子機器の製造方法が提供される。 - 特許庁

This method comprises the steps of a first step for forming a hydrosol containing a semiconductive nano-crystal and/or a precursor thereof, and a second step for bringing the hydrosol into contact with an organic phase containing an oil-soluble surface-modifying molecule having bondability to the semiconductive nano-crystal and/or a precursor thereof to extract the semiconductive nano-crystal and/or a precursor thereof into the organic phase.例文帳に追加

半導体ナノ結晶及び／又はその前駆体を含有するヒドロゾルを生成させる第１工程、及び該半導体ナノ結晶及び／又はその前駆体への結合性を有する脂溶性表面修飾分子を含有する有機相と該ヒドロゾルとを接触させて該半導体ナノ結晶及び／又はその前駆体を有機相へ抽出する第２工程を含む半導体ナノ粒子の製造方法。 - 特許庁

The welding method includes the steps of: welding a base material with a first welding material comprising an Ni-based heat resistant super alloy that is formed chiefly Ni of 25 mass% or less Cr to form a welded part; and welding over the welded part with a second welding material comprising an Ni-based heat resistant super alloy that is formed chiefly Ni of more than 30 mass% Cr to cover the welded part.例文帳に追加

一態様に係る溶接方法は，Ｃｒ量２５質量％以下のＮｉを主成分とするＮｉ基耐熱超合金からなる第１の溶接材料を用いて，母材を溶接して溶接部を形成する工程と，Ｃｒ量３０質量％を越えるＮｉを主成分とするＮｉ基耐熱超合金からなる第２の溶接材料を用いて，前記溶接部上を溶接する工程と，を具備する。 - 特許庁

This naming support method has steps for: receiving input of first data configured by combination of the plurality of characters to a computer; changing order of the inputted characters to generate second data; and outputting the meaning of a phrase when the phrase fit for the second data is present, in reference to a table wherein the phrase and the meaning are previously associated and registered.例文帳に追加

コンピュータに、複数の文字の組み合わせで構成される第一のデータの入力を受け付けるステップと、前記入力された文字の順序を変更して第二のデータを生成するステップと、予め熟語とその意味とを関連づけて登録してあるテーブルを参照して、前記第二のデータに合致する熟語が存在する場合に、該熟語の意味を出力するステップとにより上記課題を解決する。 - 特許庁

The method comprises the steps of: transmitting a first message from the mobile station to the base station requesting entry into sleep mode; transmitting a second message from the base station to the relay station approving entry into sleep mode of the mobile station; and transmitting a third message from the base station to the mobile station approving entry into sleep mode of the mobile station.例文帳に追加

該方法は、スリープモードに入ることを要求する第１のメッセージを前記移動局から前記基地局に送信する段階と、前記移動局がスリープモードに入ることを許可する第２のメッセージを前記基地局から前記中継局に送信する段階と、前記移動局がスリープモードに入ることを許可する第３のメッセージを前記基地局から前記移動局に送信する段階と、を有する。 - 特許庁

As a first embodiment, this method for recording the generation site of an object is provided which includes steps of: replacing a pointer in an object structure and pointing to a class by a pointer pointing to a generation site descriptor which is unique to each object generation site; and accessing the class of the object through the generation site descriptor.例文帳に追加

上記課題を解決するために第１の態様として、オブジェクトの生成地点を記録する方法であって、オブジェクト構造中のクラスを指すポインタを、前記オブジェクトの生成地点ごとに異なる、生成地点ディスクリプタを指すポインタに置き換えるステップと、前記オブジェクトの前記クラスへのアクセスは前記生成地点ディスクリプタを経由して行うステップ、を有する、オブジェクトの生成地点記録方法を提供する。 - 特許庁

The method of transmitting and receiving control information includes steps of: requesting the control information of a data channel for high-speed uplink data transmission; composing a Medium Access Control (MAC) Protocol Data Unit (PDU) including the control information; and transmitting the MAC PDU via a first physical channel for user data transmission.例文帳に追加

高速のアップリンクデータ伝送のためのデータチャネルの前記制御情報を要請する段階と、前記制御情報を含む媒体接続制御（Ｍｅｄｉｕｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｃｏｎｔｒｏｌ：ＭＡＣ）プロトコルデータユニット（Ｐｒｏｔｏｃｏｌ Ｄａｔａ Ｕｎｉｔ：ＰＤＵ）を構成する段階と、使用者データ伝送のために第１物理チャネルを通して前記ＭＡＣ ＰＤＵを伝送する段階と、を含んで制御情報伝送方法を構成する。 - 特許庁

The method for preparing the acrylic rubber-reinforced thermoplastic resin comprises the steps of: performing a following first polymerization process and a following second polymerization process in this order in an aqueous medium in the presence of a sulfonic acid-based surfactant and/or a sulfate-based surfactant to obtain an acrylic rubber polymer (a); and polymerizing a vinyl monomer containing an aromatic vinyl compound and a vinyl cyanide compound in the presence of the acrylic rubber polymer (a).例文帳に追加

水性媒体中でスルホン酸系界面活性剤及び／又は硫酸エステル系界面活性剤の存在下に下記第１重合工程及び下記第２重合工程をこの順で行うことによってアクリル系ゴム質重合体（ａ）を得た後、該アクリル系ゴム質重合体（ａ）の存在下に、芳香族ビニル化合物及びシアン化ビニル化合物を含有するビニル系単量体を重合する。 - 特許庁

The magnetic recording head manufacturing method includes steps of: forming, on a base plate, a resist layer having a reversed trapezoidal groove at the end to face the medium; applying first ashing to the resist layer, shrinking the resist layer to reduce the groove dimension in the core width direction, and forming a magnetic material layer in the groove to make the recording magnetic pole.例文帳に追加

本発明に係る磁気記録ヘッドの製造方法は、基体上に、媒体対向面側端面が逆台形状の溝を有するレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層の第１のアッシング処理を行う工程と、前記溝のコア幅方向の寸法が小さくなるように、前記レジスト層のシュリンク処理を行う工程と、前記溝内に記録用の磁極となる磁性材料層を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

Carbon monoxide concentration can be lowered by oxidizing selectively carbon monoxide in a source gas containing carbon monoxide and hydrogen by at least two-stage oxidizing steps such as the first step to perform an oxidation reaction with a catalyst which supports ruthenium on an inorganic oxide and the second step to perform the oxidation reaction with the catalyst which supports ruthenium and platinum on the inorganic oxide.例文帳に追加

無機酸化物にルテニウムを担持した触媒の存在下に酸化反応を行なう第一工程、および無機酸化物にルテニウムおよび白金を担持した触媒の存在下に酸化反応を行なう第二工程の少なくとも二段階の酸化工程により、一酸化炭素および水素を含有する原料ガス中の一酸化炭素を選択的に酸化して一酸化炭素濃度を低減することができる。 - 特許庁