「Line width」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

The inverter (62) has a pulse width modulated ac power output part that may be in synchronous control with pulse width modulated ac power output parts of other power supply parts via a control line between all power supply parts.例文帳に追加

インバータはパルス幅変調交流出力部を有し、パルス幅変調交流出力部は、全電源供給部間の制御ラインを介して他の電源供給部のパルス幅変調交流出力部と同期制御状態となる。 - 特許庁

In such an arrangement, the channel width of the first selective transistor S-T1 and the second selective transistor S-T2 is wider than the bit line pitch of the two memory cells also two times or more wider than the channel width of the central transistors thereby making feasible of increasing the driving capability of the transistors.例文帳に追加

第１の選択トランジスタＳ Ｔ１と第２の選択トランジスタＳ Ｔ２のチャネル幅は二つのメモリセルのビットラインピッチより大きく、セルトランジスタのチャネル幅より約２倍以上大きいので、トランジスタの駆動能力が増加する。 - 特許庁

A front end part 51 of the roof side rail is extended into the closed section body, and passed through an intermediate part 14a between the inner side panel on the vehicle width center line CL side and the reinforcement member outwardly close to the vehicle width direction, and joined with the reinforcement member.例文帳に追加

ルーフサイドレールの前端部５１を、閉断面体の中へ延すとともに、湾曲部の位置では、車幅中心ＣＬ側のインナサイドパネルと車幅方向外寄りの補強材との中間部１４ａに通して、補強材に接合した。 - 特許庁

To provide technology capable of quickly performing an uneven luminance adjusting work while performing test-printing using a short-width photosensitive material whose width is smaller than the line array length of an optical printing head, as necessary, in the case of adjusting the uneven luminance.例文帳に追加

輝度むら調整において光プリントヘッドのラインアレイ長さを下回る幅しか有しない短幅感光材料を用いたテストプリントを必要に応じて行いながらも、輝度むら調整作業が迅速となる技術を提供する。 - 特許庁

A first belt 4A and a second belt 4B are formed in a concave shape in which a distance from a rotation axis (Y axis) of the pneumatic tire becomes shorter as getting nearer a center line CL in the width direction from an outer portion in the width direction of the pneumatic tire 1.例文帳に追加

第１ベルト４Ａ及び第２ベルト４Ｂは、空気入りタイヤ１の幅方向外側部分から幅方向中心線ＣＬに向かうにしたがって、空気入りタイヤの回転軸（Ｙ軸）との距離が小さくなる凹形状である。 - 特許庁

A radius calculating part 22 calculates the radius of the head on the basis of the horizontal width or vertical distance of the processing object line when it is decided that the vertical distance is equal to 1/2 of the horizontal width.例文帳に追加

半径算出部２２は、垂直方向の距離が水平方向の幅の１／２に等しいと判断された場合、処理対象ラインにおける水平方向の幅または垂直方向の距離を基に、頭部の半径を算出する。 - 特許庁

The second aperture 2a and the first aperture 5a are separately adjusted based on the line width data and the line width density difference data of the pattern transferred by the aligner onto a wafer 6, and this changes the optical intensity of the image plane on the wafer 6 for the adjustment of the density of the resist pattern to be transferred onto the wafer 6.例文帳に追加

この露光装置によってウェハ６上へ転写したパターンの線幅データおよび線幅疎密差データに基づいて、第２の開口２ａおよび第１の開口５ａをそれぞれ調整することにより、ウェハ６上の結像面での光強度を変化させ、ウェハ６上に転写されるレジストパターンの疎密性を調整する。 - 特許庁

A line screen frequency is set so as to satisfy a relational expression relating to the line screen frequency between a width of a second area in a pattern corresponding to the largest gradation value in the first screen group and a width of the first area in a pattern corresponding to the smallest gradation value in the second screen group.例文帳に追加

スクリーン線数は、第１スクリーン群のうち最も高い階調値に対応するパターンにおける第２領域の幅と、第２スクリーン群のうち最も低い階調値に対応するパターンにおける第１領域の幅との間のスクリーン線数に関連する関係式を満足するように設定されている。 - 特許庁

The column 6 is formed smaller in a width 1 between the examining table 11 and a bridge 3 arranged between the column 6 and the examining table than an examining width (such as a diameter of the examining table) L determined by an orthogonal line R' passing through the examining table center to the center line R between a gantry 2 and an examining table body 10.例文帳に追加

前記支柱６は、ガントリー２と前記検査台体１０との間で、中心線Ｒに対する前記検査台中心を通った直交線Ｒ’によって定まる検査幅（検査台の直径など）Ｌよりも支柱６と検査台との間に設けた架橋３４と検査台１１との幅ｌが小さくされる。 - 特許庁

The fluid jet apparatus is equipped with the line type jetting head 13 in which a plurality of nozzle openings 17 are arranged over a length of a width W or larger of an object P jetted with the fluid, and which jets the fluid from the nozzle openings 17; and a head moving part 70 which moves the line type jetting head 13 back and forth in a width direction of the object P.例文帳に追加

被流体噴射体Ｐの幅員Ｗ以上の長さに亘って複数のノズル開口１７が配列されると共にノズル開口１７から流体を噴射するライン型噴射ヘッド１３と、ライン型噴射ヘッド１３を被流体噴射体Ｐの幅員方向に往復移動させるヘッド移動部７０と、を備える。 - 特許庁

A first processing condition of first processing processes S22-S25 is corrected based on a measurement value of the line width of the second resist pattern formed on one substrate, and a second processing condition of second processing processes S26-S29 is corrected based on a measurement value of the line width of the first resist pattern formed on one substrate.例文帳に追加

一の基板に形成された第２のレジストパターンの線幅の測定値に基づいて、第１の処理工程Ｓ２２〜Ｓ２５の第１の処理条件を補正し、一の基板に形成された第１のレジストパターンの線幅の測定値に基づいて、第２の処理工程Ｓ２６〜Ｓ２９の第２の処理条件を補正する。 - 特許庁

The work W is clamped by a clamp device 39 provided in a cutting width positioning device 41, the cutting width positioning device 41 moves forward to almost cross to a cutting line CL of a sawtooth in a right angle direction on the table 23 and the cutting position of the work W is positioned at the cutting line CL of the sawtooth.例文帳に追加

このワークＷを切断幅位置決め装置４１に備えたクランプ装置３９でクランプし、切断幅位置決め装置４１がテーブル２３上で鋸刃ＢＳの切断ラインＣＬに対してほぼ直交方向に前進してワークＷの切断位置を鋸刃ＢＳの切断ラインＣＬへ位置決めする。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent for a freezing process, which can suppress variations in the line width of a first resist pattern and LWR (line width roughness) which may be caused by freezing treatment applied to the first resist pattern and the formation of a second resist pattern in a double patterning method, and to provide a resist pattern formation method using the surface treatment agent.例文帳に追加

ダブルパターニング法において、第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理及び第二のレジストパターンの形成による、第一のレジストパターンの線幅並びにＬＷＲの変動を抑制することができるフリージングプロセス用の表面処理剤及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A first photomask 11 drawn only with a first circuit pattern A of a line width of a prescribed value or below among the plural circuit patterns having electrodes and wiring and a second photomask 12 drawn only with the second circuit pattern B having the line width larger than the prescribed value among the plural circuit patterns are formed.例文帳に追加

電極及び配線を有する複数の回路パターンのうちライン幅が所定値以下である第１の回路パターンＡのみが描かれた第１のフォトマスク１１と、複数の回路パターンのうちライン幅が所定値よりも大きい第２の回路パターンＢのみが描かれた第２のフォトマスク１２と作成する。 - 特許庁

In this bar code recognizing method for recognizing a bar code included in the image data, a plurality of pieces of line information including the bar codes are extracted from the image data, the bar width information included in each of plural pieces of extracted line information is integrated, and the bar code is recognized on the basis of the integrated bar width information.例文帳に追加

画像データ中に含まれるバーコードを認識するバーコード認識方法において、画像データからバーコードを含む複数のライン情報を抽出し、抽出した複数のライン情報のそれぞれに含まれるバー幅情報を集積し、集積したバー幅情報に基づいてバーコードを認識する。 - 特許庁

An organic EL light source is designed to include a linear transparent electrode that is subjected to patterning with a line width thinner than the thickness of a light guide plate, a metal electrode that is thicker than the line width of the linear transparent electrode and permits a mirror reflection, and an organic EL material provided between the linear transparent electrode and the metal electrode.例文帳に追加

有機ＥＬ光源を、導光板の厚みより細い線幅でパターニングされた線状透明電極と、線状透明電極の線幅より太く鏡面反射可能な金属電極と、線状透明電極と金属電極との間に設けられた有機ＥＬ材料を備えることとした。 - 特許庁

A part of the thin film coil 114 arranged between the end face 132 and the air bearing face 130 has the narrowest width in the thin film coil 114 at the position on the shortest imaginary line connecting between the end face 132 and the air bearing face 130, and is increased in width as leaving from the imaginary line.例文帳に追加

端面１３２とエアベアリング面１３０との間に配置された薄膜コイル１１４の一部は、端面１３２とエアベアリング面１３０とを最短で結ぶ仮想の線上の位置において薄膜コイル１１４中で最小の幅を有し、且つ仮想の線から離れるに従って幅が大きくなっている。 - 特許庁

This electrode substrate is constituted so that a wiring width in an area A where wirings 21, 22 of a memory power source intersect a signal line 11 becomes larger than a wiring width in an area B where the wirings 21, 22 do not intersect the signal line by making the wiring capacity of the area A wider than the wiring capacity of the area B.例文帳に追加

メモリ電源配線２１，２２が信号線１１と交差する領域Ａの配線幅を、メモリ電源配線２１，２２が信号線１１と交差しない領域Ｂの配線幅よりも広くして、領域Ａでの配線容量が領域Ｂでの配線容量よりも大きくなるように構成した。 - 特許庁

Since influences of charge-up in the measurement pattern 2 vary by the presence of peripheral patterns 3, 5, 7 having different aperture ratios, the line width of the pattern 2 is measured in the regions a, b, c to obtain differences in the line width among the regions a, b, c and to calculate a measurement error due to charge-up.例文帳に追加

異なる開口率の周辺パターン３，５，７が存在することで測定パターン２に対するチャージアップの影響が変化するので、各領域ａ，ｂ，ｃにおける測定パターン２の線幅測定を行い、領域ａ，ｂ，ｃ間で生じる線幅の差を求め、チャージアップによる測定誤差量を算出する。 - 特許庁

In the lenticular lens sheet 10 having a stripe light absorption part 12 and a stripe light transmission part 13 positioned between the light absorption parts 12 and 12, the line-width W of the light absorption part 12 is formed so that the triplication (3σ) of the standard deviation of the line-width may be ≥5% and ≤15% of the average of the linewidth.例文帳に追加

ストライプ状の光吸収部１２と、その光吸収部１２，１２間に位置するストライプ状の光透過部１３とを有するレンチキュラーレンズシート１０において、光吸収部１２の線幅Ｗを、線幅の標準偏差の３倍（３σ）が線幅平均の５％以上１５％以下になるように構成した。 - 特許庁

To provide a package for accommodating a semiconductor element wherein much heat is not generated when a large current flows from an external electric circuit to line conductor of an I/O terminal, the width is equal to or less than the conventional width, and the line conductor whose bonding strength to the I/O terminal is large is used.例文帳に追加

外部電気回路から入出力端子の線路導体に大電流が流れても大きな熱が発生することなく、また幅が従来のものと同等かそれ以下であるとともに入出力端子に対する接合強度が大きい線路導体を有する入出力端子を具備したものとすること。 - 特許庁

A control circuit 12 generates a control signal e in which a pixel of the maximum light-emitting luminance of one scanning line is the pulse width of the maximum light-emitting time, and each of the other pixels of the one scanning line is converted to the pulse width of a ratio, corresponding to the ratio where the pixel of the maximum light-emitting luminance is the lighting rate of 100%.例文帳に追加

制御回路１２は、１走査線の最大発光輝度の画素を最大発光時間とするパルス幅とし、その１走査線の他の画素のそれぞれについては、画素毎に最大発光輝度の画素を点灯率１００％としたのに対応した比率のパルス幅に変換した制御信号ｅを生成する。 - 特許庁

Regarding difference between pleats width xw at the waist line w and pleats width xh at the hip line, the pleats 1c at the center of the back body part fabric, and the pleats 1b, 1d respectively at the front and back body part fabrics are set so as to be wider than the pleats 1a at the center of the front body fabric.例文帳に追加

ウエストラインｗにおけるプリーツ幅ｘｗとヒップラインにおけるプリーツ幅ｘｈとの差は、前身頃用生地の中央におけるプリーツ１ａよりも、後身頃用生地の中央におけるプリーツ１ｃ及び前後の身頃用生地の左右におけるプリーツ１ｂ、１ｄの方を大きく設定する。 - 特許庁

To improve products in manufacturing yield by reducing influence of irregularities in a line width of a pattern formed on a reticle so as to form the pattern having a uniform line width on a wafer, in a process of forming a prescribed pattern by transferring a pattern formed on the reticle onto the wafer by the use of photography.例文帳に追加

レチクルに形成されたパターンを写真技術を利用してウェハ上に転写することにより所定のパターンを形成するプロセスにおいて、レチクルに形成されたパターンの線幅のばらつきによる影響を低減することにより、ウェハ上に均一の線幅を有するパターンを形成して製品の歩留まり向上を図る。 - 特許庁

While moving at least the set one of the first scanning line and the second scanning line toward the palm center from the finger tip side, the number of the scanning lines allowing detection of a finger width not less than a prescribed width is decided, for example, to detect a state of a finger projected from the palm (a decision means).例文帳に追加

そして設定された第１走査線および第２走査線の少なくとも一方を指先側から掌中心に向けて移動させながら、例えば所定幅以上の指幅が検出される走査線の本数を判定して掌から突き出された指の状態を検出する（判定手段）。 - 特許庁

Two symmetric film pieces are cut off from a plastic film at respective left and right symmetric positions of the longitudinal axial line A-A in the longitudinal direction passing the center of the lateral width dimension W of the plastic film wherein residual stress is distributed in the thickness direction of the film or the lateral axial line B-B in the lateral width dimension W of the plastic film.例文帳に追加

フィルム厚さ方向へ残留応力が分布しているプラスチックフィルムの横幅寸法Ｗの中心を通る縦長さ方向の縦軸線Ａ−Ａ、または横幅寸法Ｗの方向の横軸線Ｂ−Ｂのそれぞれ左右の対称位置において２つの対称形のフィルム片を切り取る。 - 特許庁

The width of a scanning line lower electrode GL-L is increased by forming an electron source EM on the scanning line lower electrode GL-L, or the resistance of the scanning line lower electrode GL-L is decreased by increasing the thickness by coating and baking of conductive particle kneaded paste, such as silver paste.例文帳に追加

走査線下部電極ＧＬ−Ｌの上に電子源ＥＭを形成することで走査線下部電極ＧＬ−Ｌの幅を広くし、あるいは銀ペースト等の導電性粒子を混錬したペーストの塗布と焼成で厚膜化することにより、走査線下部電極ＧＬ−Ｌを低抵抗化する。 - 特許庁

The size of light source image a projected along the cut-off line CL against the maximum luminance portion a1 becomes slim (narrow in width) and the maximum luminance portion a can be designed to be light distributed so as to approach the cut-line, and a hot zone of light distribution comes closer to the cut-off line, thereby, visibility of distant area is improved.例文帳に追加

カットオフラインＣＬに沿って投影される光源像ａの最大輝度部ａ１に対する大きさがスリム（幅狭）になって、最大輝度部ａがカットラインに接近するように配光設計でき、配光のホットゾーンがカットオフラインに近づき、遠方視認性が改善される。 - 特許庁

The sea area ratio (Sg/St) of the tread surface 2S is not less than 40%, the groove center line angle θ between a groove center line C of the lag groove 3 and a tire shaft direction line is 0 to 40 degrees, and the length Wg of the lag groove 3 in the tire shaft direction is 0.15 times or more of a tread width TW.例文帳に追加

トレッド面２Ｓの海面積比（Ｓｇ／Ｓｔ）は４０％以上、ラグ溝３の溝中心線Ｃのタイヤ軸方向線に対する溝中心線角度θは０〜４０度、ラグ溝３のタイヤ軸方向長さＷｇはトレッド巾ＴＷの０．１５倍以上である。 - 特許庁

New segments which segments indicating connection link at junction are moved in parallel to left and right by the specified road width are respectively searched by defining the center line to be the connection link at junction for all connection links at junction, which are made to be the left end line and the right end line of the connection links at junction (S14).例文帳に追加

全ての交差点接続リンクに対して、交差点接続リンクを中央線として、交差点接続リンクを表す線分を特定された道幅だけ左右に平行移動した新たな線分をそれぞれ求め、交差点接続リンクの左端線および右端線とする（Ｓ１４）。 - 特許庁

In a center 20, a view line direction frequency distribution is created in each travel section, a view line moving velocity distribution of each prescribed angle width is created in each travel section, and tabulation is performed from a plurality of vehicles 10 to create an optimum view line direction frequency distribution and an optimum moving velocity distribution.例文帳に追加

センター２０では、走行区間毎に作成された視線方向頻度分布と、走行区間毎に作成された所定角度幅毎の視線移動速度分布と複数の車両１０から集計して、最適視線方向頻度分布と最適移動速度分布とを作成する。 - 特許庁

At least a part of at least one power source line among the plurality of power source lines 103R, 103G, and 103B is formed by a conductive film arranged on a first wiring layer 135 and a conductive film arranged on a second wiring layer 136, thereby narrowing a line width of each power source line.例文帳に追加

複数の電源線１０３Ｒ，１０３Ｇ，及び１０３Ｂのうちの少なくとも１つの電源線の少なくとも１部を第１配線層１３５に設けられた導電膜と第２配線層１３６に設けられた導電膜とにより構成することにより、電源線の線幅を狭くする。 - 特許庁

Thus, a shielding effect of the signal line is raised, the aperture ratio is raised by reducing width of a black matrix, parasitic capacity between the signal line and the common potential lines is reduced, a defect when the signal line and the floating film are short-circuited is minimized to raise the display quality.例文帳に追加

これにより信号線のシールド効果を高め、ブラックマトリクスの幅を縮小して開口率を向上させることができ、信号線と共通電位線との寄生容量を小さくし、信号線とフローティング膜とが短絡した場合の欠陥を最小限に抑えて表示品位を向上させる。 - 特許庁

At this point, a pixel pitch is denoted as P, a total of overlapped capacity of the Sig line and the Vg line per one pixel as Ca, the overlapped area of the Sig line and the optoelectric converter per one pixel as S, the film width of the interlayer dielectric as d, a specific permittivity as ε, and a vacuum permittivity as ε_0.例文帳に追加

その際、画素ピッチをＰ、１画素におけるＳｉｇ線とＶｇ線の重なり容量の総和をＣａ、１画素におけるＳｉｇ線と光電変換素子の重なり面積をＳ、層間絶縁層の膜厚をｄ、比誘電率をε、真空誘電率をε０とする。 - 特許庁

In a state where the tire is assemble to a normal rim and filled with normal internal pressure, inclination angle α of an inclined line X that passes through a carcass maximum width point P1 of a carcass line and a center point 5G of a bead core 5 with respect to a radial line N is 20 degrees or less.例文帳に追加

タイヤ１を正規リムＪにリム組みしかつ正規内圧を充填した内圧状態において、カーカスラインＬのカーカス最大巾点Ｐ１と、前記ビードコア５の中心点５Ｇとを通る傾き線Ｘの半径方向線Ｎに対するライン傾斜角度αが２０度以下である。 - 特許庁

When the frequency of the transmission signal is high, and the width of the transmission line is very narrow or the transmission line length is long, the resistive component and the leakage component of the transmission line are extracted; and the characteristic impedance, which is constant in time, can be calculated by eliminating the extracted result from the measurement result.例文帳に追加

伝送信号の周波数が高く、伝送線路幅が極端に細い場合、また、線路長が長い場合であっても、線路の抵抗成分・漏れ成分を抽出し、それを測定結果から除去する事で時間的に一定の特性インピーダンスを算出することができる。 - 特許庁

The control means may be configured to determine whether the pattern rises or falls from the line profile generated based upon the difference between the signal detected by the first electron detection means and the signal detected by the second electron detection means, and to measure a line width of a line.例文帳に追加

制御手段は、第１の電子検出手段で検出された信号と第２の電子検出手段で検出された信号との差分を基に作成されたラインプロファイルによりパターンの立下り又は立上りを判定し、ラインの線幅を測定するようにしてもよい。 - 特許庁

By moving the position of the ruler part at the upper end vertically, the position of the center of the sphere, different according to the line width of a line marking utensil being used, can be easily and correctly recognized, and in addition, a straight line can be easily displayed on the surface of the sphere, which has been difficult.例文帳に追加

また，上端の定規部の位置を，上下に移動させることによつて，使用するマーキング用具の線巾によって異なる球体のセンター位置を，簡単且つ正確に認識出来，なおかつ，従前より困難とされてきた，球体表面への直線の表示を容易にしたラインマーキング器。 - 特許庁

Furthermore, the slot dielectric line 7 and the slot line 9 are connected using a taper type slot dielectric line 12 which is composed of an extension ridge 10 extending to the ridge 5, and a taper type slot 11 which gradually reduces a width between the first and the second slot 6, 8.例文帳に追加

さらに、スロット誘電体線路７とスロット線路９との間は、隆起部５を延長した延長隆起部１０と第１，第２のスロット６，８間で幅寸法が漸次縮小したテーパ型スロット１１とからなるテーパ型スロット誘電体線路１２を用いて接続する。 - 特許庁

To clearly form a cut-off line and secure the sufficient amount of light in the vicinity of the cut-off line for enhancing the distant visibility, in a vehicle headlight that carries out low-beam irradiation in a light-distribution pattern having a prescribed cut-off line, even if the right-to-left width of its reflector is small.例文帳に追加

所定のカットオフラインを有する配光パターンでロービーム照射を行う車両用前照灯において、たとえそのリフレクタの左右幅が小さい場合であってもカットオフラインを明瞭に形成するとともにカットオフライン近傍部分の光量を十分に確保して遠方視認性を高める。 - 特許庁

To provide a method for calculating the characteristic impedance of a transmission line in a wiring circuit board, which enables easy evaluation of the state of the transmission line even in case that the frequency of transmission signal is high, and the transmission line has an extremely narrow width and a long length.例文帳に追加

伝送信号の周波数が高く、伝送線路幅が極端に細く、また線路長が長い場合であっても、伝送線路の出来具合いを容易に評価することを可能とした配線回路基板の伝送線路の特性インピーダンスの算出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Additionally, connecting portions 45, 45 of the central rupture schedule line 44 and the side edge rupture schedule lines 46, 46 are formed so that width of a groove 28 constituting the central rupture schedule line 44 extends in a curved line toward the connecting end side of the side edge rupture schedule lines 46, 46.例文帳に追加

また、中央破断予定線４４と側縁破断予定線４６,４６との接続部位４５,４５は、該中央破断予定線４４を構成する溝２８の幅が、側縁破断予定線４６,４６との接続端側へ向かうにつれて曲線的に拡大するように形成される。 - 特許庁

To add/correct line attributes emphasizing an object with respect to line drawing configured of a two-dimensional free curve such as a curve computer-inputted with handwriting with no width by applying visually natural feelings in the same way as the similar line drawing is handwritten by a professional painter with an ink pen or brush.例文帳に追加

幅のない手書きでコンピュータ入力した曲線等の２次元自由曲線からなる線画に対して、インクペンや筆で同様な線画をプロの画家が手書きした場合と同様の、見た目に自然な感じを与え、対象物を強調する線属性を付加し／修正可能とする。 - 特許庁

The width of the first bonding pad in a first direction in which the first bonding pad and the second bonding pad are in-line with each other is the same as the width of the first land pattern in the first direction, and the width of the first bonding pad in a second direction orthogonal to the first direction is narrower than the width of the first land pattern in the second direction.例文帳に追加

そして、前記第１のボンディングパッドと前記第２のボンディングパッドと、が並ぶ第１の方向における前記第１のボンディングパッドの幅は、前記第１のランドパターンの前記第１の方向における幅と同じであり、前記第１の方向に直交する第２の方向における前記第１のボンディングパッドの幅は、前記第２の方向における第１のランドパターンの幅よりも狭い。 - 特許庁

The spectral band width of an output light pulse of a measured optical fiber with respect to each input power is measured, the spectral spread of the spectral band width with respect to the input spectral band width is calculated, and the nonlinear refractive index n_2' of the measured optical fiber is obtained from the gradient of a straight line produced when the spectral spread becomes a linear function of the input power.例文帳に追加

各入力パワーに対する被測定光ファイバの出力光パルスのスペクトル幅を測定し、さらにそのスペクトル幅の入力スペクトル幅に対するスペクトル広がりを計算し、スペクトル広がりが入力パワーの一次関数となるときの直線の傾きから被測定光ファイバの非線形屈折率ｎ_2'を求める。 - 特許庁