「Overlay Method」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

By implementing the method, the deviating wrinkles or surface waviness of the overlay cloth 1 laid over the carpet floor material 4 can be prevented without problem of defect.例文帳に追加

この工法を行なうことによりカーペット床材４の上に置く上敷物１のずれ動き皺やたるみの発生を欠陥問題なく防止することができる。 - 特許庁

To provide a distribution system for distributing sub content smoothly via an overlay network, and to provide a content storing method, a server device and a content storing program.例文帳に追加

オーバーレイネットワークを介してサブコンテンツを円滑に配信することが可能な配信システム、コンテンツ保存方法、サーバ装置、及びコンテンツ保存プログラムを提供する。 - 特許庁

Consequently, a high overlay accuracy of a pattern can be achieved even when a pattern is formed on a wafer by utilizing a double patterning method.例文帳に追加

これにより、ダブルパターニング法を利用してウエハ上にパターンを形成する場合においても、パターンの高い重ね合わせ精度を実現することが可能となる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a steel tube with projections, by which high projections are easily formed using overlay welding, and to provide the tube manufactured thereby.例文帳に追加

肉盛溶接を用いて高さが高い突起を容易に形成することができる突起付き鋼管の製造方法および突起付き鋼管を提供する。 - 特許庁

Thus, even when a pattern is formed on a wafer by using a double patterning method, it is possible to achieve the high overlay accuracy of the pattern.例文帳に追加

これにより、ダブルパターニング法を利用してウエハ上にパターンを形成する場合においても、パターンの高い重ね合わせ精度を実現することが可能となる。 - 特許庁

To provide an image processor, its control method and program with which displaying of input image and overlay image is controlled efficiently and appropriately.例文帳に追加

入力画像とオーバーレイ画像を効率的かつ適切に表示制御することができる画像処理装置及びその制御方法、プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having an alignment mark for realizing overlay excellent in accuracy in a photoengraving process or the like, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

写真製版工程等における精度の良好な重ね合わせを実現するアライメントマークを備えた半導体装置及びその製造方法を得ること。 - 特許庁

To provide a focusing characteristics measuring method performing focus measurement conveniently using an overlay measurement device used commonly in a semiconductor production process.例文帳に追加

半導体製造工程で広く用いられている重ね合わせ測定装置を用いて、簡便にフォーカス計測を行う結像特性計測方法を提示する。 - 特許庁

To provide a communication system, an information processing device, an information processing program, and a location information registration method which utilize the merit of a resident node participating in an overlay network, even when the overlay network has the resident node and a general node mixed therein.例文帳に追加

常駐ノードと一般ノードとが混在するオーバーレイネットワークであっても、常駐ノードがオーバーレイネットワークに参加しているメリットを活かすことが可能な通信システム、情報処理装置、情報処理プログラム、及び所在情報登録方法を提供する。 - 特許庁

A guidance video overlay device 19 receives an instruction regarding a dimension, to be measured, from the manual input device, it provides the graphic overlay of a preferable tool to be used, and it displays the installation position and the usage method of the tool on a machine image from the image creation device.例文帳に追加

指導ビデオオーバーレイ装置は手動入力装置から測定すべきディメンションに付いての指示を受け取り、使用すべき好ましいツールのグラフィックオーバーレイを提供するとともに、画像作成装置からの機械画像上にツールの設置位置及び使用法を示す。 - 特許庁

The method for designing a phase shift mask includes steps of: placing an underlay pattern 102 in the layout data designing a phase shift mask; placing a first overlay pattern 100 overlapping the underlay pattern 102 and a second overlay pattern 101 not overlapping the underlay pattern in the layout data; and placing a dummy underlay pattern 105 overlapping the second overlay pattern 101 in the layout data.例文帳に追加

位相シフトマスクの設計方法は、位相シフトマスクを設計するレイアウトデータに、下層パターン１０２を配置するステップと、レイアウトデータに下層パターン１０２と重なる第１の上層パターン１００及び下層パターンと重ならない第２の上層パターン１０１を配置するステップと、レイアウトデータに第２の上層パターン１０１と重なるダミー下層パターン１０５を配置するステップとを備えている。 - 特許庁

To provide a coating method and an overlay film forming device capable of preventing an overlay film from defects generated by discharge outside of gas inside a base material, in case one is formed by coating a raw material containing a solid component and a fluid component on a porous base material, as well as an overlay film thus prevented from defects and a nonaqueous electrolyte secondary battery.例文帳に追加

多孔質の基材に固形成分と液状成分とを含む原料を塗工して表層膜を形成する場合に、基材内部の気体の外部への放出により表層膜に欠陥が発生するのを防止することができる塗工方法および表層膜形成装置、並びに、それにより欠陥の発生が防止された表層膜および非水電解液二次電池を提供する。 - 特許庁

In order to prevent the deviating wrinkles or surface waviness of an overlay cloth 1 placed and used on a carpet floor material 4 without problem of defect, two different types of non-woven sheets 2, 3 designated by the method are combined in an order designated by the method and are subjected to laying construction between the overlay cloth 1 and the carpet floor material 4.例文帳に追加

カーペット床材４上に載せて使用する上敷物１のずれ動き皺やたるみの発生を欠陥問題なく防止するため、工法の指定する種類の異なる二種類の不織布シート２，３を、工法の指定する順序で組み合わせて、上敷物１とカーペット床材４の間に敷き置き施工する。 - 特許庁

In the manufacturing method of tableware with an overlay which comprises a tableware main body 1 and an overlay 2 used by combination, re-heating treatment is made after molding of resin to a tableware shape and it keeps shrunk beforehand by the time of a downturn in the growth of a variation curve of dimensional shrinkage rate.例文帳に追加

食器本体１と蓋２とが組み合わされて使用される蓋付き食器の製造方法であって、樹脂の食器形状への成形加工後に再加熱処理を施して寸法収縮率の変化曲線の伸びが鈍化する時点近傍まで予め収縮させておくようにした。 - 特許庁

To provide a method by which the addition of a thickness to a diluted zone, required in a conventional overlay welding, is unnecessary, and a metallic composite material is produced which is a combination of materials for which an overlay welding is impossible heretofore because a hard and brittle inter- metallic composite is formed at the diluted zone.例文帳に追加

従来の肉盛溶接で必要であった希釈部の板厚付加を必要とせず、また、従来は希釈部に硬くて脆い金属間化合物を生成して肉盛溶接が不可能であった材質組み合わせの金属複合材の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine pattern of a semiconductor element, which removes a problem that a critical dimension due to an overlay and forms a fine pattern of all forms by the DEET method.例文帳に追加

オーバーレイによって臨界寸法が不良になる問題を除去すると共に、ＤＥＥＴ方法で全形態の微細パターンを形成することが可能な半導体素子の微細パターン形成方法の提供。 - 特許庁

This print process setting method is a setting method of a process to perform overlay print by overlaying a predetermined form file 207 on a print data file 307 corresponding to the form file 207.例文帳に追加

この印刷処理設定方法は、所定のフォームファイル２０７と、該フォームファイル２０７に対応する印刷データファイル３０７とを重ね合わせてオーバレイ印刷をおこなう処理の設定方法である。 - 特許庁

To provide a network participation method capable of constructing an overlay network, taking into consideration the locality (regionality), and reducing excessive load on actual network.例文帳に追加

ローカリティ（地域性）が考慮されたオーバーレイネットワークを構築することが可能で、実際のネットワークへの余分な負荷を軽減することが可能なネットワーク参加方法を提供する。 - 特許庁

To provide a COA (Color-Filter On Array) type liquid crystal display device in which a taper angle of a contact hole is large, and a taper angle of a color overlay part is small, and its manufacturing method.例文帳に追加

コンタクトホールのテーパ角を大きく、かつ、色重ね部のテーパ角を小さく形成した、ＣＯＡ型の液晶表示装置およびその製造方法の提供する。 - 特許庁

To provide a delay time estimating method and the like that instantaneously determines a delay time in a peer node, based on a destination identification value in an overlay network.例文帳に追加

オーバレイネットワークにおける宛先識別値に基づいて、そのピアノードに対する遅延時間を即時に判定することができる遅延時間推定方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a spin valve magneto resistive effect reproducing head provided with a lead overlay structure to exhibit good magnetic reproducing characteristics, and its manufacturing method.例文帳に追加

より良好な磁気再生特性を発揮することのできるリードオーバーレイ構造を備えたスピンバルブ型磁気抵抗効果再生ヘッドおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The ITV animation converted to RGB is depicted in corresponding image display windows 301-309 by hard overlay method, at the front of the supervision screen 2.例文帳に追加

ＲＧＢに変換されたＩＴＶの動画像は対応する映像表示ウィンドウ３０１〜３０９にハードオーバレイ方式により、監視画面２の最前面に描画される。 - 特許庁

The method is applied to an analysis an integrated circuit wherein enhanced contrast or 3D imaging in a shot imaging improves an overlay measuring technique.例文帳に追加

本方法は、集積回路の分析に適用され、コントラストを高めることにより、または１回のショット撮像における３Ｄ撮像によってオーバーレイ測定技法を改善する。 - 特許庁

To provide a system and method which measure a different interlayer overlay in a semiconductor manufacturing technology such as double patterning process and the like by the use of an imaged device pattern.例文帳に追加

撮像されたデバイス・パターンを使用して、ダブル・パターニング・プロセス等の、半導体製造技術における異なる層間のオーバレイを測定するシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a cylindrical component by welding, in which overlay welding can be efficiently performed when a cylindrical component is formed on the outer circumference of a pressure vessel.例文帳に追加

圧力容器の外周面に円筒部を形成する際に、効率良く肉盛溶接を行うことができる円筒部溶接形成方法および溶接装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure system and an exposure method with which a wafer where overlay deviation suddenly occurs can securely be detected without dropping throughput.例文帳に追加

スループットを低下させることなく、突発的に重ね合わせずれが生じたウエーハを露光工程で確実に検出することができる露光システムおよび露光方法を提供する。 - 特許庁

For this reason, the method can be used in order to reduce the overlay error resulting from a certain kind of positioning error, without the sacrifice of machine modification and/or a throughput.例文帳に追加

それで、この発明の方法を、ある種の位置決め誤差から生じるオーバレイ誤差を機械改造および／またはスループットの犠牲なしに減少するために使うことができる。 - 特許庁

To provide a vernier and its forming method which is effective to prevent errors in the overlay accuracy measurement and to reduce the number of process steps by forming trenches of paddle type in a region where the vernier is formed.例文帳に追加

バーニアが形成される領域のトレンチをパドルタイプで形成してオーバーレイ精度測定のエラー防止、ならびに工程削減に有効なバーニアおよびその形成方法。 - 特許庁

An image composite method receives designation of a composite method, a composite image page, a composite image region, a composite position, and a composite magnification or the like from a user on an image overlay selection menu MG 100, and the image composition is processed according to the designations.例文帳に追加

イメージオーバーレイ選択画面ＭＧ１００にて、合成方法、合成画像ページ、合成画像領域、合成位置、合成倍率などの指定をユーザから受け付け、それらの指定に従って画像合成処理を行なう。 - 特許庁

When the flags to indicate the superimposition of the overlay image on the output image and flags not indicating the superimposition do not exist in the fixed rate or more in the flag data in the divided regions, a division flag setting part 405 sets division flags for designating the superimposition method of the overlay image to the whole region.例文帳に追加

分割フラグ設定部４０５は、分割された分割領域中のフラグデータにおいて、オーバーレイ画像を出力画像の重畳を指示するフラグと指示しないフラグとが一定以上の割合で混在しない場合、その領域全体に対してオーバーレイ画像の重畳方法を指定するための分割フラグを設定する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which an overlay vernier can be formed without performing additional drain key open mask and drain key open etch processes by forming a step in a semiconductor substrate when the overlay vernier is formed and forming a hard mask having a stack layer formed thereon so that the shape of the step can be maintained.例文帳に追加

オーバーレイバーニア形成時に半導体基板に段差を形成し、段差の形態が維持され得るように上部に積層膜を形成してハードマスクを形成することで、ドレインキーオープンマスク工程とドレインキーオープンエッチ工程を別途設けるずとも、オーバーレイバーニアの形成が可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

When a color filter is formed by photolithography, in the COA type liquid crystal display device and its manufacturing method, either or both the contact hole or/and the color overlay part of the color filter are subjected to half-tone exposure, thereby making the taper angle of the color overlay part smaller than the taper angle of the contact hole.例文帳に追加

ＣＯＡ型の液晶表示装置およびその製造方法にあって、 カラーフィルタをフォトリソグラフィ技術によって形成する際に、カラーフィルタのコンタクトホールと色重ね部のいずれか一方あるいは双方をハーフトーン露光することによって、色重ね部のテーパ角がコンタクトホールのテーパ角よりも小さく形成する。 - 特許庁

To provide an array substrate for a liquid crystal display device from which the fluctuation in parasitic capacitance due to an overlay and stitch defect is eliminated and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明はオーバレイ及びステッチ不良による寄生容量変動が除去される液晶表示装置用アレー基板及びその製造方法を提供することを提案する。 - 特許庁

To provide a delay excess estimation method or the like for determining the necessity of measuring a delay time by actually transmitting and receiving a message to/from a target peer node in an overlay network.例文帳に追加

オーバレイネットワークにおける目標ピアノードに対して、実際にメッセージを送受信して遅延時間を計測する必要性を判定する遅延超過推定方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a metrological method capable of measuring particularly CD and overlay among a number of parameters by using a sensor of a type normally used for position measurements in a lithographic apparatus itself.例文帳に追加

リソグラフィ装置自体内での位置測定のために通常使用されるタイプのセンサを用いて、数あるパラメータの中でも特にＣＤおよびオーバーレイを測定可能なメトロロジ方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of resin tableware, which can reduce poor fit of a main body of the tableware and an overlay than conventional even if old and new tableware are used by mixture.例文帳に追加

新旧の食器が混在使用されても食器本体と蓋の嵌合不良を従来よりも軽減することができる樹脂製食器の製造方法を提供しようとするもの。 - 特許庁

To provide an image processor and an image processing method which enable more convenient image processing by using a form overlay function, and to provide a program, a storage medium and an image formation system.例文帳に追加

フォームオーバレイ機能を用いて、より便利に画像処理を行うことのできる画像処理装置、画像処理方法、プログラム、及び記憶媒体並びに画像形成システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for reducing an overlay error between devices on the front side and that on the back side of a substrate, in the case of manufacturing the devices on both sides of the substrate, without a severe request on an absolute positioning error.例文帳に追加

基板の両面にデバイスを製造する場合、絶対位置決め誤差に厳しい要求することなく、基板の表側のデバイスと裏側のそれとのオーバレイ誤差を減少する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for measuring overlay and grating shape parameters using a lithographic technology and measurement of an angle-resolved spectrum in a pupil plane of a high numerical aperture lens during the manufacture of a device.例文帳に追加

デバイスの製造中に、リソグラフィ技術、およびレンズの開口数が高い瞳面で角度分解スペクトルの測定を使用して、オーバレイおよび格子形状パラメータを測定する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a device and method for inspecting an evaporation pipe of a boiler furnace, capable of accurately calculating the amount of reduction in the thickness of the evaporation pipe, even for the case where overlay welding to the evaporation pipe is performed.例文帳に追加

蒸発管が肉盛溶接された場合であっても、蒸発管の減肉量を正確に算出することができるボイラ火炉蒸発管の検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of correcting the distortion of a pattern image projected in an imaging process and decreasing an overlay error, when the pattern is overlaid on a substrate by a lithography projection apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置によって基板上にパターン形成を重ねる場合に、投影するパターン像の歪みを結像プロセス中に修正してオーバレイ誤差を減少する方法を提供すること。 - 特許庁

To improve the throughput of an alignment method by omitting search alignment to be performed on a prescribed wafer without lowering the overlay accuracy when alignment and transfer are successively performed on a plurality of substrates.例文帳に追加

複数枚の基板に対して順次アライメント及び転写を行う際に、重ね合わせ精度を低下させることなく、所定のウエハに対してサーチアライメントを省略してスループットを向上する。 - 特許庁

To provide a communication path determining method and a communication path determining system in an overlay network whereby the number of relay node candidates is always limited to a prescribed number or below and a relay node capable of providing a high quality path is selected with a high probability through actual relay node selection acts.例文帳に追加

常に中継ノード候補数を一定数以下に抑えておき、実際の中継ノード選択行為を通じて高品質な経路を提供可能な中継ノードが選択される確率が高くなるようにする。 - 特許庁

To provide a flicker reduced display method capable of displaying an overlay picture with high resolution and less flicker, whether through even or odd field progressing scanning or interlaced scanning.例文帳に追加

偶数フィールドプログレス走査を行っても奇数フィールドプログレス走査を行っても或いは飛び越し走査を行っても高解像度でフリッカの少ないオーバレイ画像が表示できるフリッカ低減表示方式を提供する。 - 特許庁

In a method for distributing in a self-organizing, distributed overlay network a reference to an object associated with a node in the network, a current node storing the reference receives a query for the object.例文帳に追加

自己組織型分散オーバーレイ・ネットワークで、ネットワーク内のノードと関連付けられたオブジェクトへの参照を分散させる方法において、この参照を記憶している現在のノードは、このオブジェクトについてのクエリを受け取る。 - 特許庁