「Pure」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

As the low temperature material, liquid air or cooled pure-water lower than 0°C can be employed.例文帳に追加

低温液状物５としては極低温の液体窒素、液体空気または０℃以下の冷却純水を採用できる。 - 特許庁

Therefore, it is possible to promptly mix the carbon dioxide with the pure water passed through the pipe and to allow it to remain dissolved in it.例文帳に追加

したがって、配管を流通する純水に二酸化炭素を迅速に混入して溶在させることができる。 - 特許庁

To provide a method for readily and safely producing a highly pure crystalline mercaptotetrazole compound in high yield.例文帳に追加

容易に且つ安全に結晶系の高純度メルカプトテトラゾール化合物を高収率で製造し得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a condensate demineralization device for PWR nuclear power plant capable of obtaining a highly pure processed water quality.例文帳に追加

高純度な処理水質を得ることができるＰＷＲ型原子力発電プラントの復水脱塩装置を提供する。 - 特許庁

--so would you have been--and, out of pure pity, I engaged him on the spot to be ship's cook. 例文帳に追加

もしあなたでもそうしたでしょうが、まったくかわいそうに思って、その場で船の料理番として雇い入れました。 - Robert Louis Stevenson『宝島』

So still, gleaming in the sky, fashioned pure out of the ore of the sky, they shone in their silence. 例文帳に追加

山々は、空に微光をゆらめかせ、ただ一に空の光りの鉱石から織りなされたように、沈黙して輝いている。 - D. H. Lawrence『プロシア士官』

So perhaps we should consider another model of hacker behavior in which the pure joy of craftsmanship is the primary motivation. 例文帳に追加

だったら、職人気質の純粋なよろこびが主な動機となっているハッカー行動のモデルを考えたほうがいいのかな？ - Eric S. Raymond『ノウアスフィアの開墾』

but a good life refresheth the mind, and a pure conscience giveth great confidence towards God. 例文帳に追加

しかし、健全な生活は心を安らかにし、汚れのない良心は神に対する大きな信頼の念を起こしてくれます。 - Thomas a Kempis『キリストにならいて』

2. If thou wert good and pure within, then wouldst thou look upon all things without hurt and understand them aright. 例文帳に追加

もしあなたの内面が善であり純粋ならば、あなたは全てのものをはっきりと見、また正しく理解するでしょう。 - Thomas a Kempis『キリストにならいて』

After the flaking process, the substrate (W) is carried to the cleaning processing chamber 4 and pump 30 is driven to feed the surface of the substrate (W) with pure water dissolved with carbon dioxide and stored in a pure water feed source 29.例文帳に追加

剥離処理が終ると基板Ｗは洗浄処理室４へ搬送され、ポンプ３０が駆動されて純水供給源２９内に貯溜されている二酸化炭素を溶存させた純水がノズル２４から基板Ｗの表面に供給される。 - 特許庁

A pure resistance measuring means 23a-1 measures a pure resistance of the battery based on a terminal voltage and a discharge current of the battery loaded on the vehicle determined by periodical measurement, when the discharge current flows in a load loaded on the vehicle.例文帳に追加

純抵抗測定手段２３ａ−１が、車両に搭載されている負荷に放電電流が流れたとき周期的に測定して得た車両に搭載されたバッテリの端子電圧と放電電流とに基づいて、バッテリの純抵抗を測定する。 - 特許庁

It is preferable that carbon dioxide gas is fed into the outer chamber 26 before cleaning pure water is fed, and it is preferable also that pure water is atomized before it is fed into the outer chamber 26.例文帳に追加

二酸化炭素ガスは、洗浄処理用の純水を供給する前に外側チャンバ２６内に供給することが好ましく、洗浄処理用の純水を外側チャンバ２６への供給する前に、純水を霧状にして供給しておくことが好ましい。 - 特許庁

In the liquid exchanging process for exchanging the processing liquid stored in the processing tank 10 to the sulfuric acid from the pure water and adjusting the liquid temperature of the sulfuric acid after exchange to the predetermined temperature; the pure water is exhausted first from the processing tank 10 and an external tank 20.例文帳に追加

処理槽１０に貯留される処理液を、純水から硫酸に交換するとともに、交換後の硫酸の液温を所定温度に温調する液交換処理において、まず、処理槽１０および外槽２０から純水を排出する。 - 特許庁

The chamber 17 and the chamber 18 are filled in the ion conductive substance, the water after an anion is removed or a pure water is allowed to pass through the chamber 17 and the water after a cation is removed or the pure water is allowed to pass through the chamber 18.例文帳に追加

陽極室１７及び陰極室１８にイオン導電性物質が充填されており、陽極室１７にはアニオンを除去した水又は純水が通水され、陰極室１８にはカチオンを除去した水又は純水が通水される。 - 特許庁

After pure water led from a pure water introduction part 4 into a circulation passage 2 is cooled by a cooling part 25, e.g. at 15°C or below, it is mixed with ozone led into a mixing part 33 to form ozone water having an ozone concentration, e.g. 25 ppm or above.例文帳に追加

純水導入部４から循環経路２に導入された純水を冷却部２５で例えば１５℃以下に冷却した後、混合部３３に導入されたオゾンと混合させてオゾン濃度が例えば２５ｐｐｍ以上のオゾン水を生成する。 - 特許庁

The substrate treating apparatus makes a circulation line circulate a treating liquid when a measured value of a specific resistance meter reaches a reference value r1 while supplying pure water through a pure water supply line and discharging treating liquid through a waste liquid line.例文帳に追加

基板処理装置は、純水供給ラインによる純水の供給と排液ラインによる処理液の排出とを実行させつつ、比抵抗計の計測値が基準値ｒ１に到達すると、循環ラインによる処理液の循環を実行させる。 - 特許庁

The method includes: cleaning the semiconductor substrate by using a chemical solution; removing the chemical solution by using pure water; forming a water repellent protective film on the surface of the semiconductor substrate; rinsing the semiconductor substrate by using pure water; and drying the semiconductor substrate.例文帳に追加

薬液を用いて半導体基板を洗浄し、純水を用いて前記薬液を除去し、前記半導体基板表面に撥水性保護膜を形成し、純水を用いて前記半導体基板をリンスし、前記半導体基板を乾燥させる。 - 特許庁

The method includes: cleaning the semiconductor substrate by using a chemical solution; removing the chemical solution by using pure water; forming a water repellent protective film on the surface of the semiconductor substrate; rinsing the semiconductor substrate by using pure water; and drying the semiconductor substrate.例文帳に追加

薬液を用いて半導体基板を洗浄し、純水を用いて前記薬液を除去し、前記半導体基板表面に撥水性保護膜を形成し、純水を用いて前記半導体基板をリンスし、前記半導体基板を乾燥させる - 特許庁

To provide pure silicon powder of high contact resistance, contact resistance having a current cutoff property that is a very important characteristic when pure silicon is used for filling, molding, coating or the like in order to keep resistance high.例文帳に追加

本発明により、抵抗を高く保つことが重要視される目的で用いられる純Ｓｉにとって、充填、成形、塗布などに用いた際に、極めて重要な特性である電流遮断性である接触抵抗の高い純Ｓｉ粉末を提供する。 - 特許庁

Before development processing on a wafer W, pure water as a diffusion assisting liquid for easily spreading a developer over the surface of the wafer W is discharged from a pure water nozzle 40 to a center part of the wafer W to form a liquid reservoir.例文帳に追加

ウエハＷの現像処理を行う前に、前工程として現像液をウエハＷの表面に拡げやすくするための拡散補助液である純水を純水ノズル４０よりウエハＷの中央部に吐出して液溜りを形成する。 - 特許庁

The diaphragm for an electroacoustic transducer adopts a method with which a shallow concave surface is created on a plate-like metal, pure water is placed only in the lower part of the plate-like metal, and sealed for a predetermined time within a female type space heated to a boiling point of pure water or higher, and heated/pressurized molding is performed with water vapor pressure generated.例文帳に追加

板状金属に浅い凹面を作り、その下部のみに純水を置いて純水の沸点以上に加熱した雌型空間内に所定時間密閉し、発生する水蒸気圧で加熱加圧成形する方法を採る。 - 特許庁

Pure water 7 is supplied from a pure water supply nozzle 8 to a polishing pad 3 by rotating a turn table 4 stuck with the polishing pad 3, a polishing head 5 for holding a semiconductor wafer 2, and a dresser 6 for dressing the polishing pad 3, respectively.例文帳に追加

研磨パッド３を貼り付けた研磨定盤４と、半導体ウエハ２を保持する研磨ヘッド５と、研磨パッド３をドレッシング処理するためのドレッサ６とをそれぞれ回転させ、純水供給ノズル８から純水７を研磨パッド３に供給する。 - 特許庁

To provide a dip molding composition giving a dip molded article having low surface resistivity and keeping sufficiently low surface resistivity even by washing the surface of the article with pure water or ultra-pure water.例文帳に追加

ディップ成形品とした場合に、表面電気抵抗が低く、さらには、その表面を純水や超純水で洗浄した場合においても、充分に低い表面電気抵抗を維持できるディップ成形品を与えるディップ成形用組成物を提供すること。 - 特許庁

A flowmeter 52 is installed in the return pipe 50a of the 1st pure water supply pipe 50 and according to the measured value of the flowmeter, opening degree of an automatic control valve 53 installed in the second pure water supply pipe 51 is automatically controlled by a controller 54.例文帳に追加

第１の純水供給管５０のリターン管５０ａには流量計５２が設けられ、その計測値に応じて、第２の純水供給管５１に設けられた自動制御バルブ５３の開口度が制御装置５４によって自動制御される。 - 特許庁

The mixing rate of the polishing slurry S and pure water is about 1 (polishing slurry):(1 to 1.2) (pure water), and the silica density of the polishing slurry S diluted is adjusted to 3 to 9 wt.%, preferably 4 to 8 wt.%, and more preferably about 8 wt.%.例文帳に追加

研磨スラリＳと純水の混合比率は、１（研磨スラリ）：１〜１．２（純水）程度とし、希釈後の研磨スラリＳに含まれるシリカ濃度を３〜９重量％、好ましくは４〜８重量％、より好ましくは８重量％程度に調整する。 - 特許庁

To provide a substrate treating apparatus capable of efficiently changing liquid reserved in a treating tank from a chemical to a pure water while suppressing the supply amount of the pure water, and to provide a treating liquid substituting method for the substrate treating apparatus.例文帳に追加

純水の供給量を抑制しつつ、処理槽の内部に貯留された液体を薬液から純水に効率よく置換することができる基板処理装置および当該基板処理装置における処理液の置換方法を提供する。 - 特許庁

A check valve 41 for obstructing the water flow from the condensed water reservoir tank 17 to the pure water reservoir tank 33 and permitting the water flow from the pure water reservoir tank 33 to the condensed water reservoir tank 17 is provided in the connection pipe 39.例文帳に追加

連結配管３９には、凝縮水貯留タンク１７から純水貯留タンク３３への水の流れを阻止し、純水貯留タンク３３から凝縮水貯留タンク１７への水の流れを許容する逆止弁４１が設けられている。 - 特許庁

To provide a method of producing a highly pure metal silicon, by which boron and carbon of impurities can efficiently be removed from metal silicon in a short time, and to provide a device for producing the highly pure metal silicon, which is used for the production method and has a simple structure.例文帳に追加

金属Ｓｉから不純物のＢ，Ｃを短時間に効率良く除去できる高純度金属Ｓｉの製造方法と、これに用いられ且つ装置構成が容易で簡便な高純度金属Ｓｉの製造装置を提供する。 - 特許庁

The magnetic fluid 2 of the magnetic fluid tank 3 has apparent specific gravity almost equal to or higher than the specific gravity of pure glass and almost equal to or lower than that of lead glass and pure glass floats to the surface of the magnetic fluid 2 while lead glass is sedimented into the magnetic fluid.例文帳に追加

磁性流体槽３の磁性流体２は、見かけ上の比重が純粋ガラスの比重程度以上かつ鉛ガラスの比重程度以下であり、純粋ガラスは磁性流体２上に浮上し鉛ガラスは磁性流体中に沈降する。 - 特許庁

At that time, the pure water flow acts as a barrier layer for preventing any contact of the IPA steam with the surface of the stored pure water so that the formation of any IPA layer on a vapor/liquid boundary face can be prevented, and the adhesion of any particle through the IPA layer can be suppressed.例文帳に追加

このときに、純水流がＩＰＡ蒸気と貯留された純水表面との接触を防止する障壁層として働き、気液界面におけるＩＰＡ層の形成を防ぎ、ＩＰＡ層を介したパーティクル付着を抑制する。 - 特許庁

To provide a pure water production system which can supply pure water with a prescribed level to an electric deionizer by generating no scale trouble in the electric deionizer during unsteady operation while maintaining a minimum pretreatment apparatus configuration.例文帳に追加

最小限の前処理装置の構成を維持したまま非定常運転時においても電気脱イオン装置のスケール障害を生じることなく、所定のレベルの純水を電気脱イオン装置に供給することのできる純水製造システムを提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for heating very pure glass articles and a method of processing very pure glass articles capable of preventing foreign matter generated from members in a furnace case from being carried and attached to a glass preform by the purge gas in the furnace case.例文帳に追加

炉ケース内の部材から発生した異物が炉ケース内のパージガスによってガラス母材に運ばれて付着することを防止することのできる高純度ガラス物品用加熱装置および高純度ガラス物品の加工方法を提供すること。 - 特許庁

A nozzle 81 is moved up and down in the gas-liquid separation part 61 to supply pure water to the entire surface of a first wire net 77, and isopropyl alcohol in a state of vapor is dissolved in droplets of the pure water to be discharged as a liquid.例文帳に追加

気液分離部６１の内部において、ノズル８１を上下に移動させると、第１金網７７の表面全体に純水が供給され、蒸気になっているイソプロピルアルコールを純水の液滴に溶解し、液体として排出する。 - 特許庁

To provide a method of producing a purified phenol containing slight amount of impurities, a highly pure phenol produced by the production method, a highly pure liquid crystal compound using the phenol, and a method of producing the same.例文帳に追加

本発明は不純物含有量の少ない精製したフェノールの製造方法、及び、該製造方法により得られる高純度フェノールを提供し、更に該フェノールを用いた高純度液晶化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method of preparing an ultra-pure organometallic compound comprises using a microchannel device for synthesis in reacting a metal halide with an alkylating agent to produce the ultra-pure alkylmetal compound for processes such as chemical vapor deposition.例文帳に追加

例えば化学蒸着のようなプロセス用の超純粋アルキル金属化合物を製造するため金属ハロゲン化物をアルキル化剤反応させる合成のためのマイクロチャンネルデバイスを使用することを含む超純粋有機金属化合物の調製方法。 - 特許庁

A silver solution obtained by charging sodium sulfite and silver chloride to pure water and charging sodium hydroxide or potassium hydroxide, preferably, in an amount of 0.1 to 0.6 mol/L to the above pure water and a nitrogen-free reducing agent solution are mixed to obtain silver powder.例文帳に追加

純水に亜硫酸ナトリウム、塩化銀、及び該純水に対して好ましくは０.１ｍｏｌ／Ｌ以上０.６ｍｏｌ／Ｌ以下の水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを投入した銀溶液と、窒素を含まない還元剤溶液とを混合して銀粉を得る。 - 特許庁

To effectively use water used in spray cooling, or to increase production efficiency of pure water used in spray cooling in a heat pump system having a pure water manufacturing device, and evaporating supply water and producing steam.例文帳に追加

純水製造装置を有する、供給水を蒸発器で蒸発させ蒸気を生成するヒートポンプシステムにおいて、噴霧冷却に使用する水を有効利用すること、あるいは噴霧冷却に使用する純水の生成効率を増加すること。 - 特許庁

A method for producing adjusted cocoa which has solid content made of bean curd lees and solid content made of pure cocoa comprises a process of mixing bean curd lees with pure cocoa, and a process of drying the mixture obtained in the process.例文帳に追加

おからとピュア−ココアとを混合する工程と、この工程で得られた混合物を乾燥させる工程と、を含む製造方法を実施することで、おからからなる固形分と、ピュア−ココアからなる固形分と、を含む調整ココアを製造する。 - 特許庁

When the power source of the commercial and non-pure deck 10 becomes ON, a remote terminal becomes 12 V, the contact point of a switching means turns to a non-illustrated side, and the converted output of the commercial and non-pure deck 10 is connected to the power amplifier 5.例文帳に追加

前記市販非純正デッキ１０の電源がオンになると、リモート端子が１２Ｖになって切り替え手段１６の接点は図示されていない側になり、前記市販非純正デッキ１０の変換された出力と前記パワーアンプ５が接続される。 - 特許庁

In the gas dissolving means 5, preferably the gas W comes into contact with the pure water W with counter current flow and the sweeping gas supplied from the sweeping gas supply means 6 flows in the flow passage of the gas G so as to form a concurrent flow with the pure water W.例文帳に追加

気体溶解手段５において、気体Ｇと、純水Ｗとが向流で接触し、掃引気体供給手段６から供給された掃引気体が、純水Ｗと並流となるように気体Ｇの流路を流れることが好ましい。 - 特許庁

To provide a method for producing highly pure ditritnethylolpropane in the method for producing trimethylolpropane by the reaction of normal butyl aldehyde with formaldehyde in the presence of a basic catalyst, by which the highly pure ditrimethylolpropane can be recovered from distillation residues, after the trimethylolpropane is distilled and recovered from the reaction solution.例文帳に追加

塩基性触媒下ノルマルブチルアルデヒドとホルムアルデヒドとの反応によるトリメチロールプロパンの製造法において、該反応液からトリメチロールプロパンを蒸留により回収した後の蒸留釜残から高純度のジトリメチロールプロパンを回収する。 - 特許庁

More specifically, Austenitis stainless steel, where surface up/down addition treatment, where a value defined by a surface volume increate rate exceeds 1.1 and is equal to or less than 4 is made to the surface of the metal material, is made, pure nickel, a nickel alloy, pure aluminum, an aluminum alloy can be used.例文帳に追加

具体的には金属材料表面に表面積増加率で定義される値が１．１を超え４以下に相当する表面起伏付加処理を施したオーステナイト系ステンレス鋼、純ニッケル、ニッケル合金、純アルミニウム、アルミニウム合金が使用できる。 - 特許庁

The liquid chemical treating time is determined from the ratio of the integrated quantity of the liquid chemical to that of pure water corresponding to each flow rate obtained from the liquid chemical flow meter 7 and the pure water flow meter 8 and from the temperature of the diluted solution obtained from the temperature sensor 20.例文帳に追加

薬液流量計７と純水流量計８とから求められた各流量に基づく薬液と純水の積算流量の割合と、上記温度センサ２０から求められた希釈溶液の温度とから、薬液処理時間を求める。 - 特許庁

Furthermore, when assuming the contact angle of the ink receiving layer A forming the uppermost layer against pure water as a, and the contact angle of the ink receiving layer B immediately beneath the ink receiving layer A against pure water as b, relation (A) a>b, 30°<a≤50°, 30°≤b<50° is satisfied.例文帳に追加

また、最表層を構成するインク受容層Ａの純水に対する接触角をａ、インク受容層Ａ直下のインク受容層Ｂの純水に対する接触角をｂとしたとき、関係式（Ａ） ａ＞ｂ、３０°＜ａ≦５０°、３０°≦ｂ＜５０°を満たす。 - 特許庁

To provide a system and a method for realizing the advantages of a standard HCCI process while overcoming internal disadvantages and demerits of both of a pure four-stroke HCCI engine and a pure two-stroke HCCI engine.例文帳に追加

本発明の課題は、純粋な４ストロークＨＣＣＩエンジンと純粋な２ストロークＨＣＣＩエンジンの両方の内在的な不利点及び短所を克服しつつ、標準的なＨＣＣＩプロセスの利点を達成するシステム及び方法を提供することである。 - 特許庁