「Pure」に関連した英語例文の一覧と使い方(93ページ目) - Weblio英語例文検索

The titanium alloy including 5-25 mass% Zr, one or both of 0-20 mass% Mo and 0-7 mass% Cr, and the balance titanium with unavoidable impurities, has the average coefficient of linear expansion of 9.3×10^-6/°C or less, which is less than that of pure titanium.例文帳に追加

Zr：５〜25質量％、Mo：０〜20質量％とCr：０〜７質量％以、残部はチタンおよび不可避的不純物からなるチタン合金は、前記平均線膨張係数が 9.3×10^-6／℃以下と、純チタンより小さい。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method to treat industrial effluent for obtaining solid industrial waste by concentrating and drying the industrial effluent with high efficiency and for fractionating pure distilled water from the industrial effluent.例文帳に追加

産業廃液を高効率で濃縮乾燥し高効率で固形産業廃棄物を得、産業廃液から清浄な分離留出排水を分離する産業廃液処理装置と、産業廃液処理方法を提供する。 - 特許庁

In this heat pipe 1 having pure water as a working medium in the container 2, a first area 21 provided with a wick 6, and a second area 22 free from the wick 6 are mixed in an inner wall of a flat portion 11 of the container 2.例文帳に追加

コンテナ２内に作動媒体である純水を入れるヒートパイプ１において、ウイック６を形成した第１の領域21と、ウイック６の存在しない第２の領域22とをコンテナ２の扁平部11の内壁に混在させる。 - 特許庁

An electronic apparatus 10 comprises a case body 11 for housing a server 20a, 20b and 20c inside, and pure water 12 filling inside of the case body 11 for cooling the server 20a, 20b and 20c.例文帳に追加

本明細書に開示する電子機器１０は、サーバ２０ａ、２０ｂ、２０ｃを内部に収納する筐体１１と、筐体１１内に充填されて、サーバ２０ａ、２０ｂ、２０ｃを冷却する純水１２とを備える。 - 特許庁

Moreover, pure water or organic acid is sprayed to the surface of the wafer or nitrogen gas is blown, so that the washing liquid may not contact the surface of the wafer, at the same time with spraying the washing liquid against the face excluding the surface of the wafer.例文帳に追加

また、洗浄液をウェハの表面以外の面に噴射すると同時に、ウェハの表面に洗浄液が接触しないように、ウェハの表面に純水や有機酸を噴射し、あるいは窒素ガスを吹き付ける。 - 特許庁

The relation between the flow rate of the inert gas flowing in the vicinity of meniscus and the pure margin in the boundary part between the outer circumferential surface of the ingot and the surface of a silicon molten liquid is predicted by optionally fixing a pulling up condition.例文帳に追加

引上げ条件を任意に決めてインゴットの外周面及びシリコン融液の表面の境界部分におけるメニスカス近傍を流れる不活性ガスの流速とインゴットのピュアマージンとの関係を予測する。 - 特許庁

The chitosan powder to be added to the water-based coating agent has an average particle size of at most 100 μm and gives a pH of a dispersion obtained by dispersing it in pure water at a concentration of 1 mass% of at least 6.5.例文帳に追加

平均粒径が１００μｍ以下であり、純水中に１質量％の濃度で分散したときの分散液のｐＨが、６．５以上となることを特徴とする水性コーティング剤に添加するためのキトサンパウダー。 - 特許庁

Then, an after treatment is carried out making NH3 gas or NH3 gas and carrier gas (helium; He) flow, and successively, a pure water treatment is carried out through a sheet-type cleaning device, by which Cl is removed from the above TiN film 103.例文帳に追加

次に、ＮＨ_3 ガス、またはＮＨ_3 ガスとキャリアガス（ヘリウム；Ｈｅ）を流して後処理を行ない、続いて枚葉式洗浄装置にて純水処理を行なうことで、前記ＴｉＮ膜１０３からＣｌを除去する。 - 特許庁

This method for producing the D-aspartic acid is provided by reacting a compound of formula II with a protease in an aqueous system at pH 6.0-7.5 combined with an organic co-solvent and then extracting a pure product as a mirror image isomer of formula I.例文帳に追加

有機共溶媒と組み合わされたｐＨ６．０〜７．５の水性系において、式IIの化合物をプロテアーゼと反応させ、続いて式Ｉの鏡像異性体的に純粋な生成物を抽出することを含む方法。 - 特許庁

To provide a pure water producing method and device in which a weak acidic material such as silica in water to be treated in a desalting chamber of an electric deionized water producing device can be effectively moved to a concentrating chamber to remove it.例文帳に追加

電気式脱イオン水製造装置の脱塩室内の被処理水中のシリカ等の弱酸性物質を効率的に濃縮室へ移動除去することができる純水製造方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pure water tank of a fuel cell generating system excellent in assembly workability, without the need for correcting a distortion of a heat transfer tube after joining of a reinforcing rib and for checking air-tightness of the tube.例文帳に追加

補強リブの接合後に伝熱チューブのゆがみを修正する必要がなく、且つ、伝熱チューブの気密チェックを行う必要がなく、組み付け作業性が良い燃料電池発電システムの純水タンクを提供する。 - 特許庁

Water is normally fed from a water tank 2 to a water purifying apparatus 1 by a circulating pump 3, and pure water produced in the water purifying apparatus 1 circulates as it returns to the water tank 2 through a selector valve 5.例文帳に追加

常時は循環用ポンプ３により水槽２から水が純水製造機１に送り込まれ、純水製造機１内で作られた純水は切換用バルブ５を通って水槽２に戻って循環している。 - 特許庁

[MB is the pure flexural value per yarn having 1,500 d (1,667 dtex) total size; ln is natural logarithm; D is a size (d) of a single fiber; and DT is a size (dtex) of a single fiber.例文帳に追加

ＭＢ≦ 0.00130lnＤ−0.0002 （１） （ＭＢ≦ 0.00130lnＤＴ−0.000337） ただし、 ＭＢ：総繊度１５００デニール（１６６７ｄｔｅｘ）糸条当たりの純曲げ値（ｇ・ｃｍ^2 ） ln ：自然対数 Ｄ ：単糸繊度（デニール）、ＤＴ：単糸繊度（ｄｔｅｘ） - 特許庁

To provide a non-conventional and epoch-making buddhism bell which is invented with regard to conventional problems, for producing solemn and pure tones and preventing the bell from being detached from a bell stand.例文帳に追加

本発明は、従来の課題を鑑みて発明されたものであり、厳かで澄んだ音色を奏でるとともに、鈴台からの鈴の離脱を防ぐことを目的とした、従来にない斬新な仏鈴を提供することにある。 - 特許庁

A DC voltage is applied to a set of targets A, B that are opposingly arranged in a film-forming chamber 124 while at least one of them is made of highly pure zinc for sputtering by plasma generated between both the targets A, B.例文帳に追加

成膜室１２４内で、対向して配置され、少なくともその一方が高純度の亜鉛からなる一組のターゲットＡ，Ｂに、ＤＣ電圧を印加し、両ターゲットＡ，Ｂ間に発生させたプラズマによりスパッタリングする。 - 特許庁

An ascending stream of the pure water 8 containing cavitation and a large quantity of bubbles and free radicals generated at the height B or near is allowed to reach the substrate W through the second opening 13b and the first opening 12b.例文帳に追加

また、高さ位置Ｂ付近で発生した多量のキャビテーションや気泡およびラジカルを含む純水８の上昇流を第２開口１３ｂおよび第１開口１２ｂを介して基板Ｗに到達させる。 - 特許庁

In the reforming method for subjecting by a reforming gas to a reform processing a metal oxide film 2 formed on the surface of a processed work W, the reforming gas, composed substantially of pure oxygen radicals, is adopted.例文帳に追加

被処理体Ｗの表面に形成された金属酸化膜２を、改質ガスを用いて改質処理する改質方法において、前記改質ガスは実質的に純粋な酸素ラジカルよりなるガスとする。 - 特許庁

To provide a high-pressure wet sterilizer for liquid medicines allowing wet sterilization of the liquid medicines filled in a container without substantially discharging pure water, even if reserved in a reservoir portion of a sterilizing chamber.例文帳に追加

滅菌室の貯留部に純水を貯留しても、純水を実質的に排出することなく容器に封入された薬液に蒸気滅菌を施すことのできる薬液用高圧蒸気滅菌装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electric regeneration type pure water production device improved so that it is electrically stable, resuling in stabilizing water quality of treated water without lowering it and power consumption is reduced.例文帳に追加

電気的に安定であり、従って、処理水の水質を低下させないで安定化させ、しかも、消費電力量を低減させることが出来る様に改良された電気再生式純水製造装置を提供する。 - 特許庁

Successively, the activated first chemical is mixed with pure water in the chemical storage tank 28, and the concentration and temperature of the first chemical are adjusted, whereby a second chemical obtained by diluting the first chemical is prepared.例文帳に追加

続いて、薬液貯蔵槽２８において、活性化された第１の薬液と純水とを混合し、第１の薬液の濃度及び温度を調整することにより、第１の薬液を希釈した第２の薬液を調整する。 - 特許庁

To provide an electrode anchoring structure in a crystal-growing furnace having a desirable effect in regard to heat resistance and cooling, and capable of solving problems in cost saving and safety without requiring the supply of pure water to an electrode.例文帳に追加

耐熱及び冷却に関し望ましい効果を有し、電極に純水を供給する必要がなく、費用節約や安全上の課題を解決しうる結晶成長炉の電極構造体を提供する。 - 特許庁

Corrosion resistance of a piping system can be kept by using pure water, and the need of washing away a cleaning agent or an abrasive for brushing can be obviated, so that the cleaning process can be simplified.例文帳に追加

高圧液体ジェットとして、純水を用いることにより配管系の耐食性が保持され、且つ、洗浄剤、ブラシ磨き用研磨剤等を洗い落とす必要がなくなり、洗浄工程を簡素化することができる。 - 特許庁

The oxide film 33 produced on the terminal 18 for an electrode caused by moisture in the air is removed with pure water 34, thereby facilitating a material handling and a removing work and reducing the manufacturing cost.例文帳に追加

純水３４で電極用端子１８等に空気中の水分等により生じた酸化膜３３を除去することとしたので、その材料の扱いや除去作業が容易であり製造コストを軽減できる。 - 特許庁

The substrate is brought into contact with water molecules (for example, immersed in pure water) to introduce a hydroxy group into a carbon atom in a radical state, immediately after the substrate is subjected to the oxidation treatment (for example, oxygen gas low temperature plasma discharge).例文帳に追加

基板に酸化処理（例えば酸素ガス低温プラズマ放電処理）を行なった直後に、基板に水分子を接触させ（例えば純水に浸漬）、ラジカル状態のな炭素原子に水酸基を導入する。 - 特許庁

A mixture of pure silica or silica in which at least 5 wt.% of a silica component is contained and one or more kinds of metal oxides selected from alumina, zirconia, and titania is used as the silica-containing mixed material.例文帳に追加

すなわち、本発明は、３００〜１０００℃に加熱された、アルミナ系触媒と含シリカ混合材とを混合して成る触媒層を通過させることを特徴とする、ガス状含フッ素化合物の分解処理方法に関する。 - 特許庁

Disclosed is an ALS of IGF binding protein complex in biologically pure form having a partial N-terminal amino acid sequence represented by XaaAspProGlyThrProGlyGluAlaGluGlyProAlaCysProAlaAlaCys-, wherein Xaa is Gly or Ala (SEQ ID NO. 1).例文帳に追加

XaaAspProGlyThrProGlyGluAlaGluGlyProAlaCysProAlaAlaCys−［XaaはGlyまたはAla］（配列番号：１）で表される部分的Ｎ−末端アミノ酸配列を有し、生物学的に純粋な形態のインスリン様成長因子結合蛋白複合体の酸不安定サブユニット（ＡＬＳ）を提供する。 - 特許庁

When the washing treatment is finished, a controller 4 opens a switching valves 75a and then a solution surface adjustment part 90 draws the pure water L in the nozzle 370 through a chemical solution mixing part 70 and a pipe 80.例文帳に追加

洗浄処理の終了時に、コントローラ４は開閉弁７５ａを開成して薬液混合部７０と配管８０を介して処理液供給ノズル３７０内の純水Ｌを液面調整部９０で吸引する。 - 特許庁

In use (e.g., in case of fire), the selector valve 5 is switched so that the pure water produced in the water purifying apparatus 1 is pressurized by a pressurizing pump 6 from the selector valve 5 and released from a releasing nozzle 7.例文帳に追加

使用時（例えば火災時）は切換用バルブ５が切り替わって純水製造機１内で作られた純水が切換用バルブ５から加圧用ポンプ６により加圧されて放出用ノズル７から放出されるようになっている。 - 特許庁

Steam for drying out rinsing liquid attached to the wafer 1 is generated by combustion of hydrogen and oxygen, so that metal that is eluted into steam, when pure water is boiled can be prevented from being eluted into the steam, and the wafer 1 can be protected against metal contaminants.例文帳に追加

リンス液を乾燥させる水蒸気を水素と酸素とを燃焼させて生成することで、純水を沸騰させる場合の金属の溶出を防止できるので、ウエハの金属汚染を防止できる。 - 特許庁

The AIS of IGF which contains the partial N-terminal amino acid sequence represented by XaaAspProGlyThrProGlyGluAlaGluGlyProAlaCysProAlaAlaCys- [Xaa is Gly or Ala] (sequence number: 1) and is in a biologically pure form is obtained.例文帳に追加

XaaAspProGlyThrProGlyGluAlaGluGlyProAlaCysProAlaAlaCys−［XaaはGlyまたはAla］（配列番号：１）で表される部分的Ｎ−末端アミノ酸配列を有し、生物学的に純粋な形態のインスリン様成長因子結合蛋白複合体の酸不安定サブユニット（ＡＬＳ）を提供する。 - 特許庁

Subsequently, the carrying belt 2 is cleaned in an ultrasonic cleaning tank 6 filled with pure water in a second cleaning unit 20 and passed through an N2 blow section 7 where moisture is scattered from the carrying belt 2 before the carrying belt 2 is dried by means of a dryer 8.例文帳に追加

搬送ベルト２は、第２のクリーニング装置２０に入り、純水を満たした超音波洗浄槽６に入り洗浄され、さらに、Ｎ２ブロー部７を通過して水分を飛ばし、ドライヤ装置８で乾燥される。 - 特許庁

The manufacturing method of artificial dialysis water (ultra pure water) comprises the steps of pre-treating raw water, then supplying it to reverse osmosis treatment, next treating it by an electric regeneration demineralizer, and further treating it by a safety filter.例文帳に追加

原水を前処理したのち、逆浸透処理に供し、ついで電気再生純水装置で処理し、さらに安全フィルターで処理することを特徴とする人工透析用水（超純水）の製造方法。 - 特許庁

In the pure water making apparatus equipped with an organic matter removing means using activated carbon and the desalting means provided to the post-stage of the organic matter removing means, the activated carbon cartridge 1 is used as the organic matter removing means.例文帳に追加

活性炭による有機物除去手段と、この有機物除去手段の後段に設けられた脱塩手段とを備える純水製造装置において、有機物除去手段として使用される活性炭カートリッジ。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for treating the periphery of a substrate which is capable of precisely controlling an etching width and of providing a good treatment even to a substrate formed with an orientation flat, and which has no special need to protect a device formation region with a pure water or the like.例文帳に追加

エッチング幅を精密に制御可能で、かつ、オリフラが形成された基板であっても良好な処理を施すことができる基板周縁処理装置および基板周縁処理方法を提供する。 - 特許庁

Next, in a process shown in Figure 1 (b), liquid 16 (pure water) soluble in etchant in a wet etching process which is stated later and forms a small contact angle with the resist mask 13 is applied on the surface of the wafer W.例文帳に追加

次に、図１（ｂ）に示す工程で、基板表面上に、後に述べるウェットエッチング工程で用いるエッチング液に可溶であり、且つ、レジストマスク１３に対して接触角の小さい液体１６（純水）を塗布する。 - 特許庁

To provide a method capable of stably, industrially and profitably manufacturing pure crystal phase β-MnOOH, which does not contain crystal phases such as γ-MnOOH and trimanganese tetroxide, by a liquid phase process.例文帳に追加

液相法により、γ−ＭｎＯＯＨや、四三酸化マンガン等の結晶相を含まない純粋な結晶相のβ−ＭｎＯＯＨを安定的に、しかも工業的に有利に製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide the subject apparatus utilizing electrodialysis in the production of pure water or ultrapure water used in a pharmaceutical field, a power field, a semiconductor producing field and a liquid crystal producing field.例文帳に追加

製薬分野、電力分野、半導体製造分野、液晶製造分野で用いられる純水、超純水の製造に関わるものであり、さらに詳しくは電気透析を利用した電気再生型脱塩装置を提案する。 - 特許庁

To provide a molecular beam epitaxial device capable of solving the problem of insufficiency of exhaustion of an impurity gas by a conventional liquid nitrogen shroud panel in a growing chamber, and capable of growing an ultra-highly pure semiconductor crystal.例文帳に追加

従来の成長室内液体窒素シュラウドパネルパネルによる不純物ガス排気不十分の問題を解決し、超高純度の半導体結晶を成長できる分子線エピタキシー装置を提供すること。 - 特許庁

In an inboard motor or an inboard/outboard motor, an electric motor 4 is uniaxially mounted between an internal combustion engine 1 and a propeller 6, so as to obtain an excellent vessel propelling system as a hybrid vessel and a pure electric ship with a battery.例文帳に追加

船内機か船内外機において、内燃機関１とプロペラ６との間に電動モータ４を一軸で取り付けることで、ハイブリッド船、電池等による純電動船としての優れた船舶推進システムを獲得した。 - 特許庁

To provide aluminum alloy foil for a current collector which has no deterioration in corrosion resistance as compared with pure aluminum foil and no breakage of an electrode in the manufacturing process even if a thickness of foil is reduced to ≤15 μm.例文帳に追加

純アルミニウム箔に比べて耐食性が低下することがなく、箔の厚みを１５μｍ以下にしても電極の製造工程において破断することがない集電体用アルミニウム合金箔を提供する。 - 特許庁

In the additive for drilling mud, the viscosity of 1 wt.% neutralized viscous liquid with respect to pure water, that with respect to sea water containing electrolytes, and TI value are in the prescribed ranges, respectively.例文帳に追加

この掘削泥水用添加剤は、純水に対する１重量％中和粘稠液の粘度、電解質を含む海水に対する１重量％中和粘稠液の粘度、およびＴＩ値が所定の範囲内である。 - 特許庁

This method for manufacturing an optically pure R-hydroxyphenoxy propanoic acid or a salt or ester thereof comprises the reaction of hydroquinone or a salt thereof with S-halopropanoic acid or a salt thereof in the presence of a mild reducing agent.例文帳に追加

温和な還元剤の存在中で、光学的に純粋なR-ヒドロキシフェノキシプロパン酸又はその塩もしくはそのエステルを、ハイドロキノン又はその塩とS-ハロプロパン酸又はその塩との反応により製造する方法。 - 特許庁

The high purity palladium product is prepared by adding 0.2 to 10 wt.% of beryllium copper to pure palladium, so that the beryllium content after the addition is 0.0015 to 0.43 wt.% based on the total amount.例文帳に追加

本発明の高純度パラジウム製品は、純パラジウムへベリリウム銅０．２〜１０重量％を添加し、添加後のベリリウム含有量が総量に対して０．００１５〜０．４３重量％以上であることを特徴とする。 - 特許庁

In addition, an actual measurement mass spectra in the retention time of the specified component and pure standard mass spectra of the component are aligned up and down in the same mass axis scale and displayed in a mass spectra display area 12.例文帳に追加

また、指定された成分の保持時間における実測マススペクトルと該成分の純粋な標準マススペクトルとが同一の質量軸目盛りで上下に並べてマススペクトル表示領域１２に表示される。 - 特許庁

To provide a compact and inexpensive solid phase extraction device capable of performing automatically sending of a conditioning reagent, cleaning pure water and sample water, and operation from an elution process by an eluent to recovery of concentrated liquid.例文帳に追加

コンデショニング試薬、洗浄純水、試料水の送液および溶離液による溶出工程から濃縮液の回収までを自動的に行うことができるコンパクトで安価な固相抽出装置を提供する。 - 特許庁