「Resolution」に関連した英語例文の一覧と使い方(371ページ目) - Weblio英語例文検索

A load determination/parameter change section 308 reduces the texture determination criterion value to increase the textures when the number of edges counted by the edge number measurement section 307 is larger than the number of maximum edges for which this image processing apparatus can complete a resolution enhancement process per frame within a target processing time.例文帳に追加

そして、負荷判定・パラメータ変更部３０８は、エッジ数計測部３０７によって計数されたエッジの数が、情報処理装置が目標処理時間内に１フレーム分の高解像度化処理を完了可能な最大エッジ数よりも多い場合、テクスチャを増加させるべくテクスチャ判定基準値を減少する。 - 特許庁

To provide an interference type radar imaging method, a correlator therefor, and an interference type radar imaging device for constructing a composite antenna for improving resolution and easily measuring a distance to the surface of an observed object or a distance to the observed object with high precision even by means of a low-output radar.例文帳に追加

合成アンテナを構築して分解能を向上するとともに、低出力のレーダーを用いても、簡単に精度良く観測物体の表面や観測物体までの距離を観測することができる干渉型レーダーイメージング法並びにそのための相関器及び干渉型レーダーイメージング装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a new photoresist composition capable of forming an image by irradiation with a light in a short wavelength of 248 nm and, especially <200 nm, such as 193 nm, and capable of forming a relief image high in resolution, especially, a small image like a 0.25 μm image.例文帳に追加

本発明は、特に、２４８ｎｍおよび１９３ｎｍなどの２００ｎｍ未満のような短波長の照射光で画像を形成できる新しいフォトレジスト組成物であって、高解像度のレリーフ画像、特に０．２５μｍ未満の画像のような、小さな画像を供し得るようなレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To solve the problem of a performance enhancing technique in microfabrication using electron beams or X-rays and to provide a negative type resist composition for use in electron beams or X-rays satisfying such characteristics as sensitivity, resolution and resist shape when electron beams or X-rays are used and excellent in PBD stability.例文帳に追加

電子線またはＸ線を使用するミクロファブリケーション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、電子線またはＸ線の使用に対して感度と解像性・レジスト形状の特性を満足し、更にＰＢＤ安定性が優れた電子線またはＸ線用ネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition that can be preferably used in an ultra-micro lithography process such as manufacture of an ultra LSI and a high-capacity microchip and the other photo-fabrication and is superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having superior resolution, adhesion, photosensitivity and plating resistance and excellent also in strippability, which is a photosensitive resin composition for forming a cured material layer on a surface resin layer of a circuit formed substrate with the surface resin layer having a definite pattern.例文帳に追加

一定のパターンを有する表面樹脂層を備える回路形成済基板の前記表面樹脂層上に硬化物層を形成させるための感光性樹脂組成物であって、優れた解像度、密着性、光感度及びめっき耐性を有するのみならず、剥離性にも優れる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

When a specific peak is extracted from the mass spectrum, the number of circulating times necessary for achieving the desired mass resolution is calculated, it is judged whether or not ion arrival time of other foreign peak is overlapped on the ion arrival time obtained from the number of circulating times, and the number of circulating times is changed when overlapped (S5 to S7).例文帳に追加

マススペクトルから特定ピークが抽出されると、所望の質量分解能を達成するのに必要な周回数が計算され、その周回数から求まるイオン到達時間に他の夾雑ピークのイオン到達時間が重ならないかを判断し、重なる場合に周回数を変更する（Ｓ５〜Ｓ７）。 - 特許庁

To provide an inexpensive transparent conductive base material having high visible light transmittance and no deterioration of resolution due to moire, and concurrently provided with superior conductivity as a material provided with a visible light transmitting property and a leakage electric field shielding effect to be used in a display device such as a CRT or a PDP, and its manufacturing method.例文帳に追加

ＣＲＴやＰＤＰ等の表示装置に用いる可視光透過性と漏洩電界遮蔽効果を兼ね備えた材料として、高い可視光透過率を有し、モアレによる解像度の悪化がなく、同時に優れた導電性を備えた安価な透明導電性基材、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a signal processing device capable of changing a resolution of a composite image signal without blotting of an image of a 1st image signal (character signal) contained in the composite image signal, and to provide an image output device capable of outputting composite signals of several resolutions to several display devices to display them simultaneously.例文帳に追加

合成画像信号に含まれる第１画像信号（キャラクタ信号）の画像が滲むことなく、合成画像信号の解像度の変更を行える信号処理装置、及び複数解像度の合成画像信号を複数の表示装置へ出力して同時表示することができる画像出力装置を提供する。 - 特許庁

When the data is acquired in the three-dimensional projection direction, anticipating the object Q to be measured from the best positions with reference to the object Q to be measured, the position resolution of the acquired data is enhanced, the influence of the scatterer and the absorber is reduced, and satisfactory data can be obtained.例文帳に追加

このように、測定対象物に対する最良の位置から、当該測定対象物を見込む三次元の投影方向においてデータ収集を行うことで、収集されるデータの位置分解能を向上させ、且つ、散乱・吸収体の影響をより低減して良好なデータを得ることができる。 - 特許庁

To provide a reflective mask blank comprising at least a substrate, a multilayer reflecting film for reflecting exposure light, and an absorber for absorbing the exposure light, the absorber having a smaller film thickness for preventing the degradation of resolution and misregistration around a pattern during exposure and for improving a contrast to inspection light, and to provide a reflective mask.例文帳に追加

少なくとも基板と、露光光を反射する多層反射膜と、露光光を吸収する吸収体と、を有し、吸収体の膜厚を薄くし、露光時にパターン周辺部の解像度低下や位置ずれを防止するとともに、検査光に対するコントラストを向上させた反射型マスクブランク及び反射型マスクを提供する。 - 特許庁

To provide an effective method for obtaining a conduit pattern binary image for forming an emboss plate capable of performing a delicate correction work of making the plate close to an irregular form owned by natural wood grain from a gradation image taken by a digital camera in which a conduit part is emphasized but the resolution is low.例文帳に追加

デジタルカメラにより撮影したような、導管部が強調されてはいるが低解像度の階調画像から、天然の木目が有する凹凸形状に近づけるような精細な修正作業も可能な、エンボス版を形成するための導管図形２値画像を得る有効な方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist substrate and contact exposure method that improve conditions of extension in exposure time and decrease in resolution, while preventing resist deposition on a photomask after exposure, and also perform good exposure even on the occurrence of surge on a surface of a resist layer and deposition of contamination, or mixing of air bubbles.例文帳に追加

密着露光方法において、露光後のフォトマスクへのレジスト付着を防止しつつ、露光時間の延長や解像力低下を改善し、且つレジスト層表面のうねりや異物の付着、気泡の混入が生じた場合においても良好な露光を行うことができるレジスト基板及び密着露光方法を提供する。 - 特許庁

In this photoelectric encoder equipped with a light receiving part reacting with light having a specific color, capable of coping with a plurality of resolutions, color filters having a plurality of different resolutions are used, and a scale formed by piling the color filters having the different resolutions is used in order to detect a color signal having each resolution.例文帳に追加

特定の色の光に反応する受光部を具備し、複数の解像度に対応する光電式エンコーダであって、複数の異なる解像度の色フィルタを用い、各解像度の色信号を検出するために、上記異なる解像度の色フィルタを重ね合わせたスケールを用いる光電式エンコーである。 - 特許庁

By this operating method, an object to be observed on the sample is specified first by using the visible light beam of a normal optical system and observed with high resolution by using the extreme ultraviolet laser beam of a confocal optical system after it is specified when the sample is observed by a ultraviolet laser confocal microscope 1.例文帳に追加

極紫外線レーザコンフォーカル顕微鏡１で試料を観察する場合、最初に試料上の観察対象を通常光学系の可視光を使用して特定し、観察対象を特定した後で、コンフォーカル光学系の極紫外線レーザを使用してより高い分解能で観察対象を観察する。 - 特許庁

Immediately after a universal head integrated type network camera is moved to the preset position, the control signals of a recording instruction are transmitted to the network type image recorder side together with image data, and the network type image recorder records one frame or several frames by preset compression rate and resolution by information by the control signals.例文帳に追加

雲台一体型ネットワークカメラがプリセット位置に移動直後に記録指示の制御信号をネットワーク型画像記録装置側に画像データと共に送信し、ネットワーク型画像記録装置はその制御信号による情報で１コマまたは数コマを予め設定された圧縮率や解像度で記録する。 - 特許庁

Furthermore, a remote control transmitter 4 gives a remote control signal to a control microcomputer 6 through a receiver 5, and the control signal from the microcomputer 6 sets a processing level of image signal processing such as increase in the resolution and elimination of a noise component in the image signal processing circuit 3.例文帳に追加

またリモートコントロールの送信機４からの遠隔制御信号が受信機５を通じて制御用のマイクロコンピュータ６に供給され、このマイクロコンピュータ６からの制御信号によって画像信号処理回路３での解像度の増加やノイズ成分の除去等の画像信号処理の処理レベルが設定される。 - 特許庁

To obtain a radiation sensitive resin composition effectively sensitive to various radiations, having high sensitivity, also having satisfactory resolution and focus latitude in various patterns including dense lines, isolated lines and contact holes, particularly in a line pattern and capable of forming a minute pattern with low surface roughness.例文帳に追加

各種の放射線に有効に感応し、高感度であり、かつ密集ライン、孤立ライン、コンタクトホール等を含む種々のパターンで、とりわけライン系パターンにおいて、十分な解像度とフォーカス余裕度を有し、さらに膜面荒れの小さい微細パターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a low cost medium to be recorded having pre-printed parts, of which an image having a high image density, a clear color tone and a high resolution can be made and also which has an excellent ink absorbency, its manufacturing method and an image forming method with the use thereof.例文帳に追加

低コストで、画像濃度が高く、色調が鮮明で、解像度が高い画像の形成が可能な優れたインク吸収性をも兼ね備えたプレ印刷部を有する被記録媒体、かかる優れたプレ印刷部を有する被記録媒体の製造方法及び該被記録媒体を用いた画像形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having good adhesion and resolution, having satisfactory durability in etching and plating steps, exhibiting excellent resistance particularly in a plating step, excellent also in flexibility (flexibility of resist), and capable of meeting the demand for thinner printed wiring boards.例文帳に追加

密着性及び解像度が良好であるとともに、エッチング及びめっきの各工程において十分な耐久性を有し、特にめっき工程において優れた耐性を示し、また屈曲性（レジストの柔軟性）にも優れており、プリント配線板の薄板化に十分に対応できる感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

Image data are received from an external device 101, a pattern matching circuit 102 analyzes a pattern of the image data, and when the pattern is coincident with a prescribed pattern, a smoothing processing circuit 103 interpolates pixels of the data so that the resolution of the image data is converted from 400 dpi into 800 dpi and density of the image data is corrected so as to be smoothed.例文帳に追加

外部機器１０１から画像が入力され、パターンマッチング回路１０２で画像データのパターンが分析され、所定のパターンに一致すれば、スムージング処理回路１０３により、解像度が４００ｄｐｉから８００ｄｐｉになるよう画素が補間され、また画像濃度が補正されてスムージングが行われる。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus capable of realizing encoding and decoding processing for image data compatible with all of differences and can reduce a recording capacity to record the image data even when there are the differences in the resolution, the aspect ratio, the type (moving picture, still picture) of images for a recording and reproducing apparatus adopting an imaging element with the great number of pixels.例文帳に追加

高画素の撮像素子を採用した記録再生装置の解像度や、アスペクト比、画像の種類（動画、静止画）等の相違があっても、すべてに対応可能な画像データの符号化及び復号化処理を実現し、また、当該画像データを記録する記録容量の削減を行えるようにする。 - 特許庁

To secure an enough deflection region W and improve the resolution of an SEM, as to a low-vacuum SEM carrying out differential exhaustion for keeping a pressure ratio of an electro-optic system 16 and a sample room 17 at a given value, fulfilling a probe current of the given value or more, and observing raw food or a sample with moisture in a low vacuum.例文帳に追加

電子光学系１６と試料室１７の圧力比を所定値に保つ差動排気を行い、所定値以上のプローブ電流を満たし、低真空中で生ものや湿気を帯びた試料を観察する低真空ＳＥＭにおいて、十分な偏向領域Ｗを確保するとともに、ＳＥＭの分解能を向上する。 - 特許庁

This device/method is provided with a projection part for projecting a given point model to generate a plurality of rendering points, a radius computing part for computing a radius in response to a preset resolution, in every of the rendering points, and a splat generation part for generating a semi-spherical or spherical splat having the computed radius, in every of the rendering points.例文帳に追加

与えられたポイントモデルを投影して複数のレンダリングポイントを生成する投影部と、レンダリングポイントごとに、予め設定された解像度に相応して半径を演算する半径演算部と、演算された半径を有する半球または球形のスプラットをレンダリングポイントごとに生成するスプラット生成部とを備える。 - 特許庁

To provide a digital camera which employs imaging element the number of pixels of which is more than that of a display means, changes a drive method of the imaging element into a drive method to increase the resolution and avoids reduction in a frame rate that may be caused by the change so that a photographer can more accurately confirm a focusing state in the case of manual focus or the like.例文帳に追加

デジタルカメラにおいて、表示手段よりも画素数の多い撮像素子を用い、マニュアルフォーカスの際などに、撮影者がより正確な合焦状態の確認ができるよう、撮像素子の駆動方法を、解像度を増すような駆動に変更すると共に、その変更により生ずる筈のフレームレートの低下を回避する。 - 特許庁

When an image line including print pixels susceptible to banding (e.g. black pixel or high resolution pixel, is printed in overlap mode, occurrence of banding can be suppressed while printing other images normally at a high speed resulting in high speed high quality print processing.例文帳に追加

このとき、バンディングが発生し易いような印刷画素（例えば、黒色の画素や略解像度大の画素）を含む画像行をオーバーラップモードにて印刷すれば、他の画像行は通常の印刷で高速印刷しつつも、バンディングの発生を抑制することができるため、高速で高品質な印刷処理を実行することが可能になる。 - 特許庁

To provide a scattered ion analyzer making it possible to analyze a sample with high resolution by generating a magnetic field parallel with an incident ion beam and equipped with a secondary electron detector capable of exactly detecting secondary electrons produced on the surface of the sample by incidence of the ion beam.例文帳に追加

入射するイオンビームと平行な磁場を発生させることにより高分解能な試料の分析を可能とするイオン散乱分析装置において，上記イオンビームの入射により上記試料の表面に生成される２次電子を正確に検出可能な２次電子検出器を備えるイオン散乱分析装置を提供すること。 - 特許庁

When the frequency analysis is thus applied to the measurement signal, amplitude is obtained in the index between the multiple indices of 2^d, and hence the frequency resolution can be improved as compared with the case where the frequency analysis is performed with the single frequency signal.例文帳に追加

このようにして上記測定信号について周波数解析を行うと、その結果として、各２^dの倍数インデックスの間のインデックスにも振幅が得られるようにすることができ、この結果、上記周波信号単体で周波数解析を行う場合と比較して、周波数分解能を向上することができる。 - 特許庁

To make settable billing according to resolution when decoding encoded data and utilizing the data in image processing of dividing a processing object image into square regions and recursively dividing each square resion into triangular regions and encoding divided triangular regions and to consider protection of copyright.例文帳に追加

処理対象画像を正方形領域に分割し、それぞれの正方形領域を再帰的に三角形領域に分割して、分割された三角形領域を符号化する画像処理において、符号化されたデータを復号して利用する場合、解像度に応じた課金の設定を可能とし、また、著作権の保護を考慮する。 - 特許庁

To improve stability of discharge and resolution between specified pixels constituting stripe shaped patterns of optical elements constituted by numerously arranging slender-shaped pixels on a substrate and a spacing (pitch) of the pixels of the same color neighboring this pixel by using an ink jet printing device.例文帳に追加

インクジェット印刷装置を使用して、基板上に長細い形状の画素を多数配列して構成される光学素子のストライプ状のパターンを構成する特定の画素と、この画素と隣接する同一色の画素の間隔（ピッチ）との間の吐出の安定性及び解像度を向上させることを課題とする。 - 特許庁

To obtain a photosensitive polyimide precursor composition developable with a basic aqueous solution, having high resolution, excellent in pattern shape after development and not causing pattern exfoliation in development.例文帳に追加

塩基性水溶液により現像可能で、高解像度でかつ現像後のパターン形状に優れ、現像時のパターン剥離も生じない感光性ポリイミド前駆体組成物、さらに製造工程の短縮が可能であり、製造コストが削減できるパターン製造法及び前記のパターンを有することにより信頼性に優れる電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition through which performance improvement technology in the microfabrication of semiconductor elements is provided using high energy rays and high sensitivity, high resolution, good pattern shapes and good line edge roughness are simultaneously satisfied while using electron beams or ion beams.例文帳に追加

高エネルギー線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線又はイオンビームの使用に対して高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The image processing device is further provided with: a control part 120 which controls imaging conditions in the first and the second imaging parts 103, 104; and an up-converter 106 which generates the moving image of the second component raised in time resolution on the basis of information on each moving image of the first color component and the second color component.例文帳に追加

更に、この撮像処理装置は、第１、第２撮像部１０３、１０４における撮像条件を制御する制御部１２０と、第１色成分および第２色成分の各動画像の情報に基づいて時間解像度を高めた第２成分の動画像を生成するアップコンバータ１０６とを備えている。 - 特許庁

To provide an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition that simultaneously satisfies sensitivity, resolution, a pattern form, line edge roughness, resist temporal stability, and dry etching resistance, especially in lithography using electron beam, X-ray, or EUV light as a source of exposure light; and also to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネズ、レジスト経時安定性、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供。 - 特許庁

To provide an exposure mask, which includes a plurality of mask portions for forming wiring lines, the mask portions arranged parallel to one another and each having a width equal to or less than the minimum line width dimension determined by the resolution of an exposure apparatus, and which can give a wiring pattern made of a resist material having the same height while preventing the pattern from partially thinning.例文帳に追加

露光装置の解像度によって定まる最小配線幅寸法以下に形成された配線形成用マスク部分が複数平行に形成されているレジスト材料からなる配線パターンを部分的に細くならないように同一の高さに形成することができる露光用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having an enhanced etching resistance and an excellent resolution and providing an excellent pattern profile on a substrate boundary face, in photolithography for fine processing, and particularly in lithography adopting, as an exposure source, KrF laser, extreme ultraviolet rays, electron beam, X-rays, or the like, and to provide a pattern forming method utilizing the positive resist composition.例文帳に追加

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、エッチング耐性及び解像性に優れ、基板界面において良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

Accordingly, a conventional retainer can be omitted and backlash phenomenon due to storage clearance and operating clearance is prevented whereby an operational efficiency can be raised and a reverse input torque applied on the output member is weakened thereby permitting the resolution of conventional problems in which a reverse input torque applied on the output member is weakened and the deterioration of operational sensibility as well as the generation of noise are generated.例文帳に追加

これにより、従来のリテーナが省略されて保管隙間及び作動隙間によるバックラッシュ現象を防止して作動効率を高めることができ、また出力部材に加えられる逆入力トルクが弱くなって作動感性の低下及びノイズが発生する従来の問題点が解決できる。 - 特許庁

To provide a signal processing apparatus of an optical signal output device which can check reliability under influence of defect and the like on scale, while maintaining resolution and stability of position detection at a high level over a large displacement detection range, and an optical displacement detecting device including such a signal processing apparatus.例文帳に追加

位置検出の分解能及び安定性を広い変位検出範囲に渡って高いレベルで維持しつつ且つスケール上の欠陥等の影響による信頼度をもチェックできる光学式信号出力装置の信号処理装置及びそのような信号処理装置を備えた光学式変位検出装置を提供すること。 - 特許庁

To output a distinct print having a high resolution even if an original image is retrieved from an image group to be printed and there is no original image when a printing-specified image has an image editing history such as resizing, trimming or the like and enlargement processing is required when preparing printing image data.例文帳に追加

本発明の目的は、印刷指定された画像がリサイズやトリミング等の画像編集履歴があり、印刷画像データを作成する時拡大処理が必要な場合、印刷対象画像群の中から元画像を検索し元画像が存在しない場合にも解像度の高い鮮明な印刷物を出力することを可能する。 - 特許庁

According to the invention, it is possible to simplify the configuration to achieve microminiaturization, obtain a large displacement even with low input power to be excellent in transfer resolution, minimize a loss of power required for driving, simplify a structure of a guide mechanism for guiding transfer of the lens, and precisely and stably transfer the lens.例文帳に追加

本発明によると、構造を単純化して超小型化を図り、低い入力電力でも大きい変位が得られるため移送の分解能に優れ、駆動にかかる動力の損失を最少化し、レンズの移送を案内する案内メカニズムの構造が単純で、レンズの移送を正確かつ安定に行うことが出来る。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using a high energy beam, X-ray, electron beam or EUV light and satisfies high sensitivity, high resolution, good line width roughness and process margin at the same time, and a developer used for the method.例文帳に追加

本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 - 特許庁

A plurality of domains having patterns similar in shapes (similar domains) are extracted from SEM images of low resolutions which are picked up while suppressing the irradiation energy of an electron beam, and an image of one pattern of a high resolution is formed from a plurality of image data on the domains by image restoration processing.例文帳に追加

電子線の照射エネルギーを抑えて撮像した低分解能なＳＥＭ画像から形状が類似するパターンを持つ領域（類似領域）を複数抽出し、複数の前記領域の画像データから画像復元処理により一枚の高分解能な前記パターンの画像を生成することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a protective layer technology which enables a high resolution plasma display panel to achieve both a reduction of address discharge delay time throughout a wide temperature range and a reduced voltage fluctuation by suppressing a reduction of wall charges during a rest period, leading to a realization of stable address discharge and high contrast.例文帳に追加

高精細なプラズマディスプレイパネルにおいて、広い温度範囲にわたってアドレス放電遅れ時間を短縮し、休止期間中の壁電荷の減少を抑えて電圧変動を小さくすることを両立させ、安定したアドレス放電を行うことと、高コントラストを実現する保護層技術を提供する。 - 特許庁

To provide an electron source which can reduce a work function of an electron emission surface rather than a currently-used Zr/O/W electron source and can attain emitted electrons with narrow energy width and high current density and has longer lifetime, an electron microscope which can attain high resolution image for a short period, and an electron beam lithography device having high throughput.例文帳に追加

現用のＺｒ／Ｏ／Ｗ電子源よりも電子放出面の仕事関数を減少させ、狭エネルギー幅かつ高電流密度の放出電子が得られ、長寿命な電子源を提供し、高分解能像が短時間に得られる電子顕微鏡や高スループットな電子線描画装置を実現する。 - 特許庁

The imaging apparatus 1000 is equipped with: a port detecting section 124 for detecting connection with an AC power source; and a mode control section 126 and an imaging control section 128, for setting a readout mode of an imager 104 regarding a resolution of a through image based on the result of the detection by the port detecting section 124.例文帳に追加

ＡＣ電源との接続を検出するポート検出部１２４と、ポート検出部１２４による検出結果に基づいて、スルー画像の解像度に関するイメージャ１０４の読み出しモードを設定するモード制御部１２６および撮像制御部１２８とを備える撮像装置１０００が提供される。 - 特許庁