「SiO2」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

This lightweight cellular concrete based on both siliceous and calcareous components contains 0.0005-10 wt.% of an organopolysiloxane having in one molecule at least one siloxane unit shown by R(CH3)SiO2/2, R(CH3)2SiO1/2, or RSiO3/2 (R is a ≥2C alkyl group).例文帳に追加

珪酸質成分および石灰質成分を主成分とする軽量気泡コンクリートにおいて、Ｒ（ＣＨ_3 ）ＳｉＯ_2/2 、Ｒ（ＣＨ_3 ）_2 ＳｉＯ_1/2 またはＲＳｉＯ_3/2 （式中、Ｒは炭素原子数が少なくとも２のアルキル基）で表わされるシロキサン単位を１分子中に少なくとも１個有するオルガノポリシロキサンを、０．０００５〜１０重量％含むことを特徴とする。 - 特許庁

Since the developer regulating member 6 consequently flicks the toner T, even if it is about to fix to the developer regulating member 6, by the minute vibration by the proper fletching, the fixation of the toner T to the developer regulating member 6 can be prevented and the chipping wear of an external additive (SiO2) can be also prevented.例文帳に追加

その結果、トナーＴが現像剤規制部材６に固着しようとしても、図に示すように、現像剤規制部材６がこの適度なフレッチングによる微小振動により、固着しようとするトナーＴを弾き飛ばしてしまうので、現像剤規制部材６へのトナーＴの固着が防止されるとともに、外添剤（ＳｉＯ_2）９のチッピング摩耗の発生も防止される。 - 特許庁

This glass for screening ultraviolet rays, containing SiO2, an ultraviolet-screening component and an achromatizing agent contains inorganic compounds of CeO2 and V2O5 or either one thereof as the ultraviolet-screening component, and at least one inorganic compound selected from a group of MnO2, CoO and NiO as the achromatizing agent.例文帳に追加

ＳｉＯ_2と、紫外線遮蔽成分と、消色剤とを含んでなる紫外線遮蔽用ガラスにおいて、前記紫外線遮蔽成分として、ＣｅＯ_2およびＶ_2Ｏ_5あるいはいずれか一方の無機化合物を含むとともに、前記消色剤として、ＭｎＯ_2、ＣｏＯおよびＮｉＯからなる群から選択される少なくとも一つの無機化合物を含む。 - 特許庁

In the semiconductor device comprising a semiconductor element, wiring for inputting/outputting signals, and a heat dissipating plate, the heat dissipating plate is made of a composite material of Cu and at least one kind of particles of Cu2O, Al2O3 and SiO2 and a metal layer bonded to an insulating substrate or the semiconductor element is bonded directly to the heat dissipating plate.例文帳に追加

半導体素子と、信号を入出力する配線と、放熱板とを有する半導体装置において、前記放熱板はＣｕとＣｕ_2Ｏ，Ａｌ_2Ｏ_3及びＳｉＯ_2の少なくとも１種の粒子との複合材であり、絶縁基板に接合されている金属層、あるいは半導体素子に接合されている金属層は放熱板と直接接合されている。 - 特許庁

A first insulating layer 41 made of AlN, BN, SiC or GaN and a second insulating layer 42 made of AlNOx, BNOx, SiO2 or GaNOx of which film thickness is 0 nm or more and 10 nm or less are formed between the first light emitting element 20 and the second light emitting element 30.例文帳に追加

この第１の発光素子と２０第２の発光素子３０との間には、ＡｌＮ、ＢＮ、ＳｉＣまたはＧａＮを含んで構成された第１絶縁層４１と、ＡｌＮＯｘ、ＢＮＯｘ、ＳｉＯ２またはＧａＮＯｘを含んで構成されると共に膜厚が０ｎｍより大きく１０ｎｍより小さな第２絶縁層４２とが形成されている。 - 特許庁

The cemented wood board composition consists of cement, wood chips and spherical inorganic hollow particles, wherein each of the spherical inorganic hollow particles has 50-90% hollowness and 2-10 μm wall thickness and consists of a composition having 50-70 wt.% SiO2 content.例文帳に追加

セメント、木片、及び球形状無機質中空粒子からなる木質セメント板用組成物であって、前記球形状無機質中空粒子の中空率は、５０〜９０％であり且つ、該粒子の隔壁厚みが２〜１０μｍであり、該粒子を構成する成分中のＳｉＯ_2 含有率が、５０〜７０重量％である木質セメント板用組成物。 - 特許庁

This glass is obtained by designing its composition so as to essentially comprise 35-50 wt.% SiO2, 5-20 wt.% Al2O3, 9-25 wt.% MgO, 0.1-12 wt.% TiO2 and 5-10 wt.% of ZnO.例文帳に追加

ガラス組成において、主成分の組成範囲を、ＳｉＯ_2が３５ｗｔ％以上で且つ ５０ｗｔ％以下、Ａｌ_2Ｏ_3が５ｗｔ％以上で且つ ２０ｗｔ％以下、ＭｇＯが９ｗｔ％以上で且つ ２５ｗｔ％以下、ＴｉＯ_2が０．１ｗｔ％以上で且つ １２ｗｔ％以下、ＺｎＯが５ｗｔ％以上で且つ １０ｗｔ％以下、とした。 - 特許庁

This photocatalytic hydrophilic coating agent comprises water, (A) a photocatalytic metal oxide, (B) an alkyl silicate and (C) an alkali silicate, regulated so that the ratio of the solids of TiO2 to SiO2 may be (2/8)-(8/2), and the content of the alkali metal silicate based on 100 wt.% of the whole solid components may be 10-40 wt.%.例文帳に追加

水と光触媒性金属酸化物（Ａ）、アルキルシリケート（Ｂ）及びアルカリ珪酸塩（Ｃ）を含有し、光触媒性金属酸化物（Ａ）とアルキルシリケート（Ｂ）の固形分比率がＴｉＯ_2／ＳｉＯ_2＝２／８〜８／２であり、全固形分１００重量％のうち、アルカリ金属珪酸塩を１０〜４０重量％含む光触媒性親水性コート剤。 - 特許庁

This Li absorbing glass for chemical strengthening is soaked in a molten salt in order to absorb Li ion eluted into the molten salt when strengthening Li2O-containing glass with the molten salt containing Na2O and/or K2O and contains 25-40 wt.% of Na2O and 30-60 wt.% of SiO2 as main ingredients.例文帳に追加

Ｌｉ_2Ｏを含んだガラスを、Ｎａ_2Ｏ及び／又はＫ_2Ｏを含んだ溶融塩で化学強化する際、溶融塩中に溶出したＬｉイオンを吸収する目的で溶融塩中に浸漬される化学強化用Ｌｉ吸収ガラスであって、Ｎａ_2Ｏを２５〜４０ｗｔ％、ＳｉＯ_2を３０〜６０ｗｔ％、主として含有する化学強化用Ｌｉ吸収ガラス。 - 特許庁

The soil-based paving premixture constitutes a soil-based surface layer for finishing a road surface by being mixed with weathered granite powder having the composition of 7-17 mass% Al2O3, 2-10 mass% alkali metal oxide or/and alkaline earth metal oxide, 1-6 mass% ignition loss and the balance substantially SiO2 and being applied on a roadbed 1.例文帳に追加

Ａｌ_2Ｏ_3が７〜１７質量％、アルカリ金属酸化物又は／及びアルカリ土類金属酸化物が２〜１０質量％、灼熱減量が１〜６質量％、ＳｉＯ_2が実質残部の組成を有する風化した花崗岩の粉末と混合され、路床１上に施工されて、路面を仕上げる土系の表層を構成する土系舗装用プレミックスチャである。 - 特許庁

A silver carrying alumina catalyst for cleaning NOx-containing exhaust gas is characterized by that SiO2 in alumina is 180 ppm or less, Na2O is 100 ppm or less and chlorine is 50 ppm or less and NOx-containing exhaust gas is brought into contact with this catalyst to be cleaned.例文帳に追加

ＮＯｘ含有排ガス浄化用銀担持アルミナ触媒において、アルミナ中のＳｉＯ_2 が１８０ｐｐｍ以下、Ｎａ_2Ｏ が１００ｐｐｍ以下、塩素が５０ｐｐｍ以下であることを特徴とするＮＯｘ含有排ガス浄化用銀担持アルミナ触媒、及び、ＮＯｘ含有排ガスを当該触媒に接触させることを特徴とするＮＯｘ含有排ガスの浄化方法。 - 特許庁

Activated alumina has a specific surface area of 200-299 m2/g and contains at least 80% of aluminum oxide (Al2O3), silicon oxide (SiO2) and iron oxide (Fe2O3) and 0.001-7.25% of at least one oxide of alkali metal or alkaline earth metal, for example, sodium oxide or potassium oxide.例文帳に追加

このプロセスによれば、活性アルミナは、比表面積が２００ｍ^2／ｇないし２９９ｍ^2／ｇであり、少なくとも８０％の酸化アルミニウム（Ａｌ_2Ｏ_3）、酸化珪素（ＳｉＯ_2）、酸化鉄（Ｆｅ_2Ｏ_3）、および０．００１％ないし７．２５％の、少なくとも１種のアルカリまたはアルカリ土類金属の少なくとも１つの酸化物たとえば酸化ナトリウムおよび酸化カリウムを含む。 - 特許庁

The insulator porcelain composition is prepared by mixing and calcining (A) MgAl2O4 ceramic powder and (B) glass powder containing 13 to 50 wt.% silicon oxide in terms of SiO2, 8 to 60 wt.% boron oxide in terms of B2O3, ≤20 wt.% aluminum oxide in terms of Al2O3 and 10 to 55 wt.% magnesium oxide in terms of MgO.例文帳に追加

（Ａ）ＭｇＡｌ_2 Ｏ_4 系セラミック粉末と、（Ｂ）酸化ケイ素をＳｉＯ_2 換算で１３〜５０重量％、酸化ホウ素をＢ_2 Ｏ_3換算で８〜６０重量％、酸化アルミニウムをＡｌ_2 Ｏ_3 換算で２０重量％以下、酸化マグネシウムをＭｇＯ換算で１０〜５５重量％の割合でこれらを含むガラス粉末とを混合・焼成してなる絶縁体磁器組成物。 - 特許庁

This silica aerogel has 0.005-0.5 g/cc density and a skeleton composed of (SiO2)m (m is a positive integer) and comprises a silica surface subjected to fluorination treatment by chemically reacting a gelatinous compound of a silanol group-containing silica with a fluoroalkylsilane compound containing both a functional group to be reacted with the silanol group and a fluoroalkyl group.例文帳に追加

シリカエアロゲルは、密度が０．００５〜０．５ｇ／ｃｃの範囲のシリカエアロゲルであって、骨格が（ＳｉＯ_2 ）_m （ｍは正の整数）からなり、且つ、シラノール基を有するシリカのゲル状化合物に対し、前記シラノール基と反応可能な官能基とフルオロアルキル基を併せもつフルオロアルキルシラン化合物を化学反応させることで、シリカ表面をフッ素処理されてなる。 - 特許庁

The coating liquid containing hydrophilic inorganic fine particles such as silica and preferably siliceous substance for binding and having 18 to 93 molar ratio of SiO2/alkali, is uniformly applied to a tile rear surface or a substrate structure surface, then is subjected to heat treatment or drying to form a hydrophilic layer in which the silica fine particles are bound by a siliceous binder.例文帳に追加

タイル裏面又は下地構造体表面にシリカ等の親水性無機質微粒子と好ましくは結合用珪酸質物質とを含有し、かつＳｉＯ_2／アルカリのモル比を１８〜９３とした塗布液を均一に塗付し、ついで熱処理又は乾燥することによりシリカ微粒子を珪酸質バインダーで結合した親水層を形成する。 - 特許庁

Moreover, the capacitor is provided with the SiO2 layer 118 for electrically insulating the upper electrode 107 and a wiring 105, a contact hole 103a for a W-plug 113 to electrically connect the impurity layer 117 and lower electrode 111, and a contact hole 103b for electrically connecting the lower electrode 111 and the wiring 105.例文帳に追加

さらに、上部電極１０７と配線１０５とを電気的に絶縁するＳｉＯ2層１１８と、不純物層１１７と下部電極１１１とを電気的に接続するためのＷプラグ１１３を形成するコンタクトホール１０３ａと、下部電極１１１と配線１０５とを電気的に接続するためのコンタクトホール１０３ｂとを備える。 - 特許庁

In the method for decomposing the chlorinated organic compound by bringing gas containing the chlorinated organic compound into contact with a catalyst, a catalyst, wherein a carrier comprising a mixture consisting of an SiO2-TiO2 binary compound oxide and TiO2 and characterized in that a ratio of the former to the total amount of both of them is 50 weight % or less, is used.例文帳に追加

塩素化有機化合物含有ガスを触媒と接触させる塩素化有機化合物の分解方法において、担体に活性成分が担持された触媒であって、担体がＳｉＯ_2−ＴｉＯ_2２元系複合酸化物とＴｉＯ_2から成り且つ両者の全量に対する前者の割合が５０重量％以下である混合物から成る触媒を使用する。 - 特許庁

An FRP molding composition contains urethane acrylate as a matrix resin and a glass fiber as a reinforcing material wherein the glass fiber is based on SiO2-Al2O3-MO and has a glass composition containing 1-10 mol% of ZnO, 5 mol% or less (including 0 mol%) of B2O3 and 0.5-5 mol% of TiO2 as the MO component.例文帳に追加

ＦＲＰ成形用組成物は、マトリクス樹脂としてウレタンアクリレートを含み、補強材であるガラス繊維が、ＳｉＯ_2 −Ａｌ_2 Ｏ_3 −ＭＯ系の組成において、前記ＭＯ成分としてＺｎＯを１〜１０モル％含み、かつ、Ｂ_2 Ｏ__3 を５モル％以下（０モル％を含む）とするとともに、ＴｉＯ_2 を０．５〜５モル％含むガラス組成であることを特徴とする。 - 特許庁

A gas permeable refractory composed of a blended material containing 65-90 wt.% aluminous raw material, 3-25 wt.% mullite base raw material and 3-10 wt.% of the whole SiO2 content, and having 1-20 MPa compressive strength after burning, 0.2-2 MPa hot bending strength at 1400°C and 2-5 CGS, is used.例文帳に追加

アルミナ質原料６５〜９０重量％とムライト質原料３〜２５重量％を含有し、全体のＳｉＯ_2の含有量が３〜１０重量％である配合物からなり、焼成後の圧縮強度が１〜２０ＭＰａであり、１４００℃での熱間曲げ強度が０．２〜２ＭＰａであり、通気率が２〜５ＣＧＳである通気性耐火物を使用したポーラスプラグである。 - 特許庁

In the method for dephosphorizing the molten iron by injecting flux and oxygen, the flux consists essentially of lime and alumina is mixed with the lime in amount of 10-25 mass% and also, a basicity (mass% CaO/SiO2) of top slag is ≥4.5 and Al2O3 concentration is 5-10 mass%.例文帳に追加

フラックスおよび酸素をインジェクションすることによる溶銑脱リン方法であって、該フラックスは石灰を主成分とし、アルミナを該石灰の１０〜２５質量％で混合するとともに、トップスラグの塩基度（質量％ＣａＯ／質量％ＳｉＯ_2）が４．５以上、Ａｌ_2Ｏ_3濃度が５〜１０質量％であることを特徴とする溶銑脱リン方法である。 - 特許庁

Montmorillonite type 2:1 dioctahedral phyllosilicate has at least 2.00×10-9 m interplanar spacing and contains at least one of compounds selected from a group composed of SiO2, Al2O3, TiO2, ZrO2 and V2O5 or a pillar composed of the combination of the compounds as the base in the interlaminar space.例文帳に追加

少なくとも２．００×１０^−９ｍの格子間距離を有し、かつＳｉＯ_２ 、Ａｌ_２ Ｏ_３ 、ＴｉＯ_２ 、ＺｒＯ_２ およびＶ_２ Ｏ_５ からなる群から選ばれる化合物のうちの少なくとも１つの化合物、あるいはこれら化合物のあらゆる組み合わせをベースとする柱を層間スペース内に含むモンモリロナイト型２：１ジ八面体フィロシリケートである。 - 特許庁

Further, it is provided with a SiO2 layer 118 to electrically insulate the upper electrode 107 from a wiring 105, a contact hole 103a for forming a W plug 113 to electrically connect the doped layer 117 and the lower electrode 111, and a contact hole 103b to electrically connect the lower electrode 111 and the wiring 105.例文帳に追加

さらに、上部電極１０７と配線１０５とを電気的に絶縁するＳｉＯ2層１１８と、不純物層１１７と下部電極１１１とを電気的に接続するためのＷプラグ１１３を形成するコンタクトホール１０３ａと、下部電極１１１と配線１０５とを電気的に接続するためのコンタクトホール１０３ｂとを備える。 - 特許庁

A solution for wet treatment of a hafnium-containing layer such as HfO2, HfO2/Al2O3, HfO2/SiO2, HfSiOx or HfAlOx, etc. is characterized by containing hydrofluoric acid and at least one substance that is an organic substance with low ionic strength and selected from a group comprising ethylene glycol, polyglycol, and acetate glycol.例文帳に追加

ＨｆＯ２、ＨｆＯ２／Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２／ＳｉＯ２、ＨｆＳｉＯｘ、または、ＨｆＡｌＯｘなどのハフニウム含有層をウェット処理する溶液であって、フッ化水素酸とイオン強度の低い有機物質であるエチレングリコール、ポリグリコール、およびアセテートグリコールからなる群から選択された少なくとも１つの物質を含んでいることを特徴とする。 - 特許庁

An undercoat layer 11 to be formed on the conductive support of an electrophotographic photoreceptor to laminate a photosensitive layer 31 consists of an oxide film mainly composed of SiO2, which comprises an uneven layer 12 integrally formed on a dense layer 13 and a number of fine recessed parts 14 and protruding parts 14 formed on the whole surface of the uneven surface 12 to rough the surface.例文帳に追加

電子写真感光体1の導電性支持体10上に形成され、感光層31を積層するための下引層11であって、ＳｉＯ_2 を主成分とする酸化物皮膜であり、緻密層13上に凹凸層12が一体に形成され、該凹凸層12の表面全体に微細な凹部14および凸部15が多数形成されて粗面化されている。 - 特許庁

A plurality of SiO2 buried layers having trench filling-up shapes is formed (steps S10, S14, S18) and n- and p-type SiC epitaxial layers and an n-type SiC source areas are formed in the circumferences of the buried layers (steps S12, S16, S20, and S22).例文帳に追加

トレンチを埋める形状でありＳｉＯ_2を材料とする複数の埋め込み層を形成し（工程Ｓ１０，Ｓ１４，Ｓ１８）、その周辺にＳｉＣを材料とするｎ型エピ層，ｐ型エピ層，ｎ型ソース領域を形成し（工程Ｓ１２，Ｓ１６，Ｓ２０，Ｓ２２）、フッ酸エッチングにより各埋め込み層をエッチングして（工程Ｓ２４）、ｎ型ソース領域２０の表面からｎ型エピ層１２に達するトレンチを形成する。 - 特許庁

At this time, preferably, the molten metal of ferrochromium is produced by the remelting of undersize products produced in a crushing stage for a ferrochromium product, the molten metal of ferrochromium is heated to 1,680°C or more, and the molten metal of ferrochromium is stored in a vessel lined by a carbonaseous refractory, and flux without substantially containing SiO2 is added to the inside of the vessel.例文帳に追加

その際に、前記フェロクロム溶湯をフェロクロム製品の破砕工程で発生する篩下品の再溶解により製造すること、前記フェロクロム溶湯を１６８０℃以上まで加熱すること、及び、前記フェロクロム溶湯を炭素質系の耐火物でライニングされた容器内に収容し、この容器内には実質的にＳｉＯ_2 を含有しないフラックスを添加することが好ましい。 - 特許庁

Features of the sealing material are shown below: content of SiO2 ≥77 mol%; coefficient of linear expansion A±6×10-7 K-1 (A: quartz value) softening point is lower than melting point of quartz glass; and contact angle with quartz ≤80° at 20°C after the softening.例文帳に追加

少なくともＳｉＯ_2を７７モル％以上の割合で含有してなり、封着される石英ガラスの線膨張率をＡ[Ｋ^-1]とするとき、Ａ±６×１０^-7[Ｋ^-1]の範囲の線膨張率を有し、かつ、石英ガラスの融点より低い温度で軟化するとともに、軟化後２０℃における石英ガラスとの接触角が８０度以下である特性を有する石英ガラス用封着材料とする。 - 特許庁

This cement admixture is obtained by carrying out a heat treatment of CaO raw material, Fe2O3 raw material, SiO2 raw material and CaSO4 raw material, composed by including free lime, calcium ferrite, calcium silicate and anhydrous gypsum and characterized by having ≥30% free lime content and the cement composition is composed by including a cement and the cement admixture.例文帳に追加

ＣａＯ原料、Ｆｅ_2Ｏ_3原料、ＳiＯ_2原料及びＣａＳＯ_4原料を熱処理して得られる物質であって、遊離石灰、カルシウムフェライト、カルシウムシリケート及び無水セッコウを含有してなるセメント混和材であり、遊離石灰含有量が３０％以上であることを特徴とする該セメント混和材であり、セメントと、該セメント混和材とを含有してなるセメント組成物である。 - 特許庁

The MoSiON film 12 having a prescribed transmissivity is obtained by polishing and cleaning SiO2 (synthetic quartz glass) to become the substrate, forming the MoSiON film 12 of an oxide film thereon by vacuum deposition or sputtering, forming a W thin film on the formed MoSiON film and heat treating to allow the W thin film to cause the sucking action.例文帳に追加

基板になるＳｉＯ_２（合成石英ガラス）１１を研磨・洗浄し、その上に真空蒸着やスパッタリング法で酸化膜であるＭｏＳｉＯＮ膜１２の被膜形成を行い、その形成されたＭｏＳｉＯＮ膜１２の上にＷ薄膜１３を形成し、熱処理を施すことによりＷ薄膜１３に吸出し作用を起こさせて所望の透過率を有するＭｏＳｉＯＮ膜１２を得る。 - 特許庁

This method for producing the alkylbenzenes is characterized by using a catalyst composition comprising a dealuminated hydrogen ion exchanged mordenite having ≥20 molar ratio of SiO2/Al2O3 and an alumina binder and having ≤3% moisture content as a catalyst in the method for producing the alkylbenzenes by reacting benzene with at least one aliphatic monoolefin in the presence of the catalyst based on the mordenite.例文帳に追加

モルデナイトをベースとする触媒の存在下に、ベンゼンと少なくとも１つの脂肪族モノオレフィンを反応させてアルキルベンゼン類を製造する方法において、触媒としてSiO_2／Al_2O_3のモル比が２０以上の脱アルミニウム水素イオン交換モルデナイトとアルミナバインダーからなり、且つ含水率が３％以下である触媒組成物を用いることを特徴とするアルキルベンゼン類の製造方法。 - 特許庁

In this core glass useful for producing a preform for an optical fiber, especially an optical fiber for UV wire transmission, obtained by flame hydrolysis of silicon compound, deposition of fine particulate SiO2 on a substrate and formation of synthetic quartz glass by direct vitrification, the hydrogen content of the quartz glass is smaller than 1×1018 molecules/cm3.例文帳に追加

光ファイバー、特にＵＶ線伝送用の光ファイバー用のプレフォームを作るためのコアガラスであって、ケイ素化合物の火炎加水分解、直接ガラス化による基材上への微粒子状ＳｉＯ_2の堆積及び合成石英ガラスの形成により得られる前記コアガラスにおいて、前記石英ガラスの水素含量が１×１０^18分子／ｃｍ^3より低いことを特徴とする前記コアガラス。 - 特許庁

The packaging material for receiving and holding an ink jet head and/or an ink tank is constituted of a biodegradable film comprising at least one kind selected among biodegradable polymers including a polyamino acid, starch, polylactic acid, polycaprolactone, polyglycolic acid and Bionol, and at least one of silicon oxide (SiO2) and aluminum oxide (Al2O3) which is metallized on the biodegradable film.例文帳に追加

インクジェットヘッド及び／又はインクタンクを収納保持する包装材料であって、ポリアミノ酸、デンプン、ポリ乳酸、ポリカプロラクトン、ポリグリコール酸、及びビオノールからなる生分解性ポリマー群より選択される少なくとも一種を含有する生分解性フィルム上に、酸化ケイ素（ＳｉＯ_2）及び酸化アルミニウム（Ａｌ_2Ｏ_3）の少なくとも一方を蒸着させてなることを特徴とする包装材料である。 - 特許庁

The molecular sieve used for this process is one of a new series of crystalline molecular sieves each having a microporous structure which has a ZrO3 octahedron unit and at least any one of an SiO2, tetrahedron unit and a GeO2 tetrahedron unit and optionally also contains a skeletal metal (designated as M in the compositional formula of such a molecular sieve, not shown here) such as titanium, niobium or tin.例文帳に追加

水性ストリームを、ＺｒＯ_3 ８面体単位、及びＳｉＯ_2 ４面体単位とＧｅＯ_2 ４面体単位の少なくともいずれかひとつを有し、オプションとしてチタン、ニオブ、あるいは錫などのＭ金属を含むことができる微孔構造を有する新しい系列の結晶性分子ふるいと吸着条件で接触させることによって、その水溶液からアンモニウム・イオンを選択的に除去する。 - 特許庁

To provide a composition for a via hole conductor in which protrusion at a part of a via hole conductor or cracking of a ceramic layer or the via hole conductor can be prevented at the time of producing a multilayer ceramic substrate comprising a plurality of ceramic layers containing BaO-Al2O3-SiO2 mixture ceramic and the via hole conductors penetrating specified ceramic layers.例文帳に追加

ＢａＯ−Ａｌ_2 Ｏ_3 −ＳｉＯ_2 混合セラミックを含む複数の積層されたセラミック層およびセラミック層の特定のものを貫通するように設けられたビアホール導体を備える多層セラミック基板を製造するにあたって、焼成工程の結果、ビアホール導体の部分が隆起したり、セラミック層において割れやクラックが生じたり、ビアホール導体に亀裂が生じたりしにくくできる、ビアホール導体用組成物を提供する。 - 特許庁

A thin SiO2 film 2 and an amorphous silicon thin film 3 are sequentially formed on a silicon substrate 1, and then subjected to heat treatment in an atmosphere containing NO as a nitriding species to form an oxy nitride film 4A containing nitrogen at an interface between the films 2 and 3 with use of the film 3 forming an interface with the film 2 as a silicon supply source.例文帳に追加

シリコン基板１上に薄いＳｉ０_2膜２、非晶質シリコン薄膜３ａを順次形成し、次に窒化種としてＮＯを含む雰囲気中での熱処理により、ＳｉＯ_2膜２との界面の非晶質シリコン薄膜３ａをシリコン供給源としてＳｉ０_2膜２と非晶質シリコン薄膜３ａとの界面にオキシナイトライド膜４Ａを形成することにより，ゲート絶縁膜として窒素を含むＳｉＯＮ膜４を形成する。 - 特許庁

This method for refining the hydrogen gas by bringing a hydrogen-containing gas mixture into contact with a zeolite adsorbent, is characterized in that the adsorbent used is a low silica X type zeolite molded material which contains more than 95% of that zeolite having an SiO2/Al2O3 mol ratio of 1.9-2.1, and preferably is ion-exchanged with lithium over 90%.例文帳に追加

水素を含む混合ガスをゼオライト吸着剤と接触させて水素ガスを精製する方法において、前記ゼオライト吸着剤はＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３モル比が１．９〜２．１の低シリカＸ型ゼオライトで、低シリカＸ型ゼオライトの含有率が９５％以上である低シリカＸ型ゼオライト成形体であり、好ましくリチウムで９０％以上イオン交換されていることを特徴とする水素ガスの精製方法を用いる。 - 特許庁

The oxide superconductive thin film composed of a copper oxide super conductor, in which the atomic ratio of Y:Ba:Cu is 1:2:3, and having crystallinity c-axis-oriented in a direction vertical to the substrate is formed through the platinum(Pt) buffer layer having ≥40 Å, particularly ≥140 Åto <420 Å, particularly ≤400 Å thickness on the SiO2 substrate.例文帳に追加

ＳｉＯ_２基板上に、４０オングストローム以上、特に１４０オングストローム以上であって、４２０オングストローム未満、特に４００オングストローム以下の厚みの白金（Ｐｔ）バッファー層を介して、Ｙ：Ｂａ：Ｃｕの原子比が実質上１：２：３である銅酸化物超電導体から成り、且つ基板と垂直方向にｃ軸配向した結晶性を有する酸化物超電導薄膜が形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

The glass material capable of exhibiting long afterglow and stimulated phosphorescence when it is excited with radiation contains, as constituents, at least terbium oxide(Tb2O3) or manganese oxide(MnO), gallium oxide(Ga2O3) or aluminum oxide(Al2O3), alkaline metal oxides or alkaline earth metal oxides and boron oxide(B2O3) or silicon dioxide(SiO2) or zinc oxide(ZnO).例文帳に追加

放射線励起により長残光および輝尽発光を呈するガラス材料において、上記ガラス材料の構成成分として、少なくとも、酸化テルビウム（Ｔｂ_2Ｏ_3 ）又は酸化マンガン（ＭｎＯ）、酸化ガリウム（Ｇａ_2 Ｏ_3 ）又は酸化アルミニウム（Ａｌ_2 Ｏ_3 ）、アルカリ金属酸化物又はアルカリ土類金属酸化物及び酸化ホウ素（Ｂ_2 Ｏ_3 ）又は酸化ケイ素（ＳｉＯ_2 ）又は酸化亜鉛（ＺｎＯ）を含むことを特徴とする長残光および輝尽発光を呈する酸化物ガラス。 - 特許庁

This AZS including 40-50 wt.% of Al2O3, 32-45 wt.% of ZrO2, 10-16 wt.% of SiO2 and 1-3 wt.% of alkali metal oxide selected from Na2O, K2O ad their mixture, has a microstructure fundamentally comprising an α-alumina crystal, a free zirconia crystal, an eutectic crystal and a glass phase between the crystals.例文帳に追加

４０重量％〜５５重量％のＡｌ_２Ｏ_３、３２重量％〜４５重量％のＺｒＯ_２、１０重量％〜１６重量％未満のＳｉＯ_２とＮａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏとそれらの混合物から選択されるアルカリ金属酸化物を１重量％〜３重量％含有する酸化物アルミナ−ジルコニア−シリカ（ＡＺＳ）は、基本的にアルファ−アルミナ結晶、自由ジルコニア結晶、共晶結晶と結晶間ガラス相からなる微細構造を有する。 - 特許庁