「SiO2」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

This top plate for a cooking device is formed of Li2O-Al2O3-SiO2-based low-expansion crystallized glass containing a β-spodumene solid solution as a main crystal phase, and characterized by that the average particle diameter of the β-spodumene solid solution is 100-1,000 nm.例文帳に追加

本発明における結晶化ガラスは、オパール調の外観を呈するため、図１に示すように、調理器用トッププレート１０の裏面１０ａに光沢の強い装飾膜１１（例えばＴｉＮ膜）を形成しても、その内部で反射光が程良く散乱し、その結果、柔らかい光沢を有する高級感のある外観を得ることができる。 - 特許庁

The initial pressure is found by processing the wafer W having a coverage ratio (of an area of an SiO2 divided by an area of an Si film layer) varying depending on the flow rate of Cl2, finding a difference between internal pressures of the chamber 104 before and after plasma generation, and adding a value obtained from the coverage ratio and pressure difference to a processing pressure value.例文帳に追加

初期圧力値は，Ｃｌ_2の流量に応じて，被覆率（ＳｉＯ_2膜層の面積／Ｓｉ膜層の面積）が異なるウェハＷに処理を施し，プラズマ生成前後の処理室１０４内の圧力差を求め，それら被覆率と圧力差から求められた値を処理圧力値に加算して求める。 - 特許庁

As an iron-containing raw material except a returned ore, the pisolitic iron ore and a high grade iron ore having ≤1.5 mass % SiO2 content are used and the pisolitic iron ore is blended at 30-80 mass %, and not lower than 50 mass % of the pisolitic iron ore is regulated to have ≤1.5 mass % Al2O3 content.例文帳に追加

返鉱以外の鉄含有原料として、ピソライト鉄鉱石とＳｉＯ_2含有量が１．５質量％以下の高品位鉄鉱石を用い、かつピソライト鉄鉱石を３０〜８０質量％配合し、ピソライト鉄鉱石中の５０質量％以上をＡｌ_2Ｏ_3含有量が１．５質量％以下のピソライト鉄鉱石とする。 - 特許庁

Subsequently, on the poly-silicon films 4, 4' of a first layer prescribing a gate width of a MOSFET and on a sidewall SiN film 6, the poly-silicon films of a second layer wider than the poly-silicon films 4, 4' are formed through a SiO2 film 8, and the poly-silicon films of the second layer are silicified to form a titanium silicide layer 12.例文帳に追加

次いで、ＭＯＳＦＥＴのゲート幅を規定する１層目のポリシリコン膜４，４'の上、及び、側壁ＳｉＮ膜６の上にＳｉＯ2膜８を介して、ポリシリコン膜４，４'よりも幅広の２層目のポリシリコン膜を形成し、その２層目のポリシリコン膜をシリサイド化して、チタンシリサイド層１２を形成する。 - 特許庁

This composition comprises an organic-solvent solution of a fluororesin and amorphous silica dispersed therein, and its coloration is suppressed since it contains an alkaline substance in an amount (oxide base) of 0.150-5.000 wt.% per SiO2 of the amorphous silica.例文帳に追加

有機溶媒中に溶解されたフッ素樹脂の溶液と、前記溶液中に分散された非晶質シリカとから成るフッ素樹脂組成物において、非晶質シリカのＳｉＯ_２当たり酸化物基準で０．１５０乃至５．０００重量％のアルカリ性物質を含有することでフッ素樹脂組成物の着色が抑制される。 - 特許庁

In an etching method for a film being the target of etching made on a substrate arranged within a processing chamber, the processing gas introduced into an air-tight processing chamber 104 consists of CF4, N2, and Ar, and the film being the target of etching consists of an upper organic polysiloxane film and a lower organic SiO2 film.例文帳に追加

気密な処理室１０４内に処理ガスを導入し，処理室内に配置された基板上に形成されたエッチング対象膜に対するエッチング方法において，処理ガスはＣＦ_４とＮ_２とＡｒとからなり，エッチング対象膜は，上層の有機ポリシロキサン膜及び下層の無機ＳｉＯ_２膜からなる。 - 特許庁

The gas blowing upper nozzle for the opening and closing nozzle of the molten metal vessel has porous bricks 1 composed of ≤5 wt.% silica (SiO2), 2-5 wt.% magnesia (MgO), 1-5 wt.% chromia (Cr2O3), 1-5 wt.% zirconia and the balance being substantially alumina (Al2O3) as the refractory.例文帳に追加

５重量％以下のシリカ（ＳｉＯ_２）、２〜５重量％のマグネシア（ＭｇＯ）、１〜５重量％のクロミア（Ｃｒ_２Ｏ_３）、１〜５重量％のジルコニア（ＺｒＯ_２）を含み、残部実質的にアルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）からなるポーラスれんがを耐火物として有する溶融金属容器開閉ノズル用ガス吹き込み上ノズル。 - 特許庁

The core 2 of the optical waveguide is formed of a composite oxide, obtained by adding SiO2, TiO2, and other oxides of ≥1 kind together, in a rectangularly sectioned shape to eliminate the roughening of the flank of the core 2, the mixing of clusters in the core glass film, the increase in scatter loss, and the deformation at the time of the heat treatment.例文帳に追加

光導波路のコア２を、ＳｉＯ_2 、ＴｉＯ_2 及び他の一種類以上の酸化物が共添加された複合酸化物を成分とする矩形断面形状とすることにより、コア２の側面の荒れ、コアガラス膜中のクラスタの混入、散乱損失の増加及び熱処理時の変形を無くすことができる。 - 特許庁

This glass is obtained by designing its composition so as to essentially comprise 35-39.5 wt.% SiO2, 5-30 wt.% Al2O3 10-30 wt.% MgO and 5-20 wt.% TiO2, with the weight ratio MgO/TiO2 of 2-7.例文帳に追加

ガラス組成において、主成分の組成範囲を、ＳｉＯ_2が３５ｗｔ％以上で且つ ３９．５ｗｔ％以下、Ａｌ_2Ｏ_3が５ｗｔ％以上で且つ ３０ｗｔ％以下、ＭｇＯが１０ｗｔ％以上で且つ ３０ｗｔ％以下、ＴｉＯ_2が５ｗｔ％以上で且つ ２０ｗｔ％以下、ＭｇＯ／ＴｉＯ_2が２以上で且つ ７以下、とした。 - 特許庁

The hardenable inorganic composition contains (a) Al2O3-SiO2 powder, (b) an aqueous solution of an alkali metallic silicate and (c) at least one dispersing auxiliary selected from the group consisting of alcohols, glycols and ketones.例文帳に追加

下記（ａ）成分、下記（ｂ）成分及び下記（ｃ）成分が含有されてなることを特徴とする硬化性無機質組成物、及び、下記（ａ）成分及び下記（ｃ）成分を乾式混合した後、下記（ｂ）成分を混合して得た硬化性無機質組成物を賦形し、硬化させることを特徴とする無機質成形体の製造方法。 - 特許庁

From the observation of the structure under a scanning electron microscope, a target material for deposition of an optical recording medium protective layer has a structure which consists of, in the ratio to the whole, 4-20 mass % SiO2 constituting a network continuous phase and the balance essentially ZnS distributed as a disperse phase filling the meshes of the continuous phase.例文帳に追加

光記録媒体保護層形成用ターゲット材が、走査型電子顕微鏡による組織観察で、全体に占める割合で４〜２０質量％のＳｉＯ_2が網目状連続相を構成し、残りが実質的に前記連続相の網目を埋めた分散相として分布するＺｎＳからなる組織を有する。 - 特許庁

The flocculant for water treatment has been subjected to removal treatment of alkaline metals and the flocculant contains, as main component, a polymerized silicic acid solution, in which the molar ratio of Si to X (X denotes alkaline metals) is 10 to 40, 5 to 30 vol.% water-soluble alcohol and 1 to 10 wt.% SiO2 and has a pH of 1 to 4.例文帳に追加

脱アルカリ金属処理を施すことによってＳｉ／Ｘ（Ｘ：アルカリ金属）のモル比を１０〜４０とした重合ケイ酸溶液を主成分とし、水溶性アルコールを５〜３０ vol％含有し、かつＳｉＯ_2 濃度が１〜１０重量％、pH１〜４であることを特徴とする水処理用凝集剤。 - 特許庁

At a position where a boron contamination is measured, an Si wafer 11 where an SiO2 film 12 is formed on the surface is held, an Sb is diffused in an Si wafer 16, while the Si wafer 11 and the p-type Si wafer 16 are adjoining each other, for obtaining an impurities concentration profile in the Si wafer 16.例文帳に追加

ボロン汚染を測定すべき位置に、表面にＳｉＯ_2 膜１２が形成されているＳｉウェハ１１を保持し、Ｓｉウェハ１１とｐ型のＳｉウェハ１６とを互いに隣接させた状態でＳｉウェハ１６中にＳｂを拡散させ、Ｓｉウェハ１６における不純物濃度プロファイルを求める。 - 特許庁

On the working surface side of the aluminum ash, Al2O3-SiO2 sintered layer 2 in the aluminum ash components is formed with the radiation heat in the molten iron vessel and also, it is considered that AlN formed by reacting the metallic Al in the aluminum ash and the air has the molten iron resistance and the erosion of the refractory brick 3 on the bed is prevented.例文帳に追加

アルミ灰の稼働面側には溶銑容器内の輻射熱でアルミ灰成分であるＡｌ_2 Ｏ_3 ，ＳｉＯ_ 2の焼結層２が形成されるとともに、アルミ灰中の金属Ａｌと空気とが反応して形成されるＡｌＮが耐溶銑性を有し敷の耐火れんが３の溶損を防止すると思われる。 - 特許庁

The principal components in the glass composition are 20-40 wt.% SiO2, 25-43 wt.% Al2O3, 10-25 wt.% B2O3, 5-15 wt.% MgO and 1-10 wt.% Ta2O5.例文帳に追加

ガラス組成において、主成分の組成範囲を、ＳｉＯ_2が２０ｗｔ％以上で且つ ４０ｗｔ％以下、Ａｌ_2Ｏ_3が２５ｗｔ％以上で且つ ４３ｗｔ％以下、Ｂ_2Ｏ_3が１０ｗｔ％以上で且つ ２５ｗｔ％以下、ＭｇＯが５ｗｔ％以上で且つ １５ｗｔ％以下、Ｔａ_2Ｏ_5が１ｗｔ％以上で且つ １０ｗｔ％以下、とした。 - 特許庁

In the magnetic head having a gap in a closed magnetic path formed by magnetic cores 1 and 2, at least one part of the gap is formed by successively laminating Cr layers 14 and 15 and SiO2 layers 16 and 17 and at least, one parts of the cores 1 and 2 are composed of soft magnetic thin films 5 and 6.例文帳に追加

磁気コア１，２により閉磁路が構成され、且つ前記閉磁路内にギャップを有してなり、上記ギャップの少なくとも一部がＣｒ層１４，１５とＳｉＯ_2層１６，１７とを順に積層して構成されるとともに、上記磁気コア１，２の少なくとも一部が軟磁性薄膜５，６により構成される。 - 特許庁

To provide a method for cleaning not only a SiO2-based optical device but also a CaF2-based optical device by removing organic matters adsorbed on the surface of each of the optical devices and to provide a method for cleaning the optical device having even an optical thin film such as a reflection preventing film.例文帳に追加

本発明は、SiO_2系光学素子に限らず、CaF_2系の光学素子にも適用可能な光学素子表面の吸着有機物を除去する洗浄方法を提案すること及び光学素子が、反射防止膜等の光学的薄膜を有していても適用可能な洗浄方法を提案することを課題とする。 - 特許庁

A recess structure is made into double state recess structure composed of a wide recess and a narrow recess, a gate electrode 7 is formed into Y-shaped (or T-shaped) mushroom, and the base of that gate electrode 7 is formed into structure supporting that base while holding it on both sides with a remaining gate overhang insulator 9 (typically with an oxidized film SiO2).例文帳に追加

リセス構造をワイドリセス及びナローリセスからなる二段リセス構造とし、ゲート電極７をＹ型（あるいはＴ型）のマッシュルーム型に形成し、そのゲート電極７の付け根部をゲート庇下残り絶縁体９（典型的には酸化膜ＳｉＯ２）で両側から挟んで支持する構造を形成する。 - 特許庁

This light amplifying medium is constituted of a core glass 1 and a clad glass 2, and the core glass 1 is formed by doping Er to a matrix glass by 0.001-10% as mass percentage display, and the matrix glass contains Bi2O3 in the range of 25-70 mol% and at least either B2O3 or SiO2.例文帳に追加

コアガラス１とクラッドガラス２からなり、コアガラス１が、マトリクスガラスにＥｒが質量百分率表示で０．００１〜１０％添加されているガラスであり、該マトリクスガラスが、Ｂｉ_2Ｏ_3を２５〜７０モル％の範囲で含有し、かつ、Ｂ_2Ｏ_3およびＳｉＯ_2の少なくともいずれか一方を含有する光増幅媒体。 - 特許庁

The highly functional ceramic balls for waste water treatment brought into contact with chlorine water have a skeleton comprising silica (SiO2) and alumina (Al2O3) and contain ≥12 wt.%, in total, of alkali metals and alkaline earth metals carried in the gaps in the skeleton.例文帳に追加

塩素水に接触させる高機能性セラミックボールであって、シリカ(ＳiＯ_2)およびアルミナ(Ａl_2Ｏ_3)を骨格として、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の含有量の総和が12重量％以上であり、該アルカリ金属あるいはアルカリ土類金属を前記骨格の隙間に担持した汚水処理用セラミックボール、および、その製造方法である。 - 特許庁

The hydraulic material for water holding solidified body consists of 50-70 wt.% blast furnace slag fine powder, 30-50 wt.% inorganic powder containing amorphous ≥50 wt.% SiO2 and ≥3 wt.% of an alkali stimulating agent to 100 wt.% of the blast furnace slag fine powder and inorganic powder.例文帳に追加

５０〜７０質量％の高炉スラグ微粉末と、５０質量％以上の非晶質ＳｉＯ_2を含む３０〜５０質量％の無機粉末と、該高炉スラグ微粉末及び該無機粉末の１００重量部に対して３重量部以上のアルカリ刺激剤とを含有してなることを特徴とする保水性固化体用水硬材である。 - 特許庁

The SiO2-containing layer is obtained by forcibly reacting a main agent comprising organopolysiloxane having a methyl group or a phenyl group, a crosslinking agent comprising organosiloxane having a functional side chain, a curing catalyst comprising an organic compound containing a metal selected from Zn, Al, Ti and Sn and B3+ halogen by energy treatment.例文帳に追加

このＳｉＯ_2含有層は、メチル基もしくはフェニル基を有するオルガノポリシロキサンからなる主剤と、官能性側鎖を有するオルガノシロキサンからなる架橋剤と、Ｚｎ・Ａｌ・Ｔｉ・Ｓｎから選ばれる含金属有機化合物からなる硬化触媒と、Ｂ^3+ハロゲンとを、エネルギー処理により強制反応させて製造される。 - 特許庁

The heat retaining agent for molten steel surface comprises ≤10% SiO2 content and MgO and at least one kind among Ti, Al, Zr, and the continuous casting method of the steel comprises adding the heat retaining agent into the molten steel surface in a tundish.例文帳に追加

溶鋼表面保温材においてＳｉＯ_2含有率を１０重量％以下とし、且つＭｇＯとＴｉ、Ａｌ、Ｚｒの内少なくとも１種類以上を含有したことを特徴とする溶鋼表面保温材およびこの保温材をタンディッシュ溶鋼表面に添加することを特徴とする鋼の連続鋳造方法。 - 特許庁

This amorphous inorganic fiber soluble in a physiological medium contains ≥85 wt.% of a total amount of SiO2 and CaO, 0.5-3.0 wt.% of MgO and 2.0-8.0 wt.% of P2O5 and having ≥40 of KI-value by Germany dangerous article regulation.例文帳に追加

ＳｉＯ_2とＣａＯとの合計含有量が８５重量％以上であり、０．５〜３．０重量％のＭｇＯと２．０〜８．０重量％のＰ_2Ｏ_5とを含有し、かつドイツ危険物質規制による発癌性指数（ＫＩ値）が４０以上であることを特徴とする生理学的媒体に可溶な非晶質無機繊維。 - 特許庁

As the intermediate layer 2 and the outer layer 4, a composite ceramic containing at least two kinds selected from alumina, mullite, steatite, forsteatite, cordierite, and glass having at least one of Al2O3, SiO2, and MgO2 as a main component is used, and the intermediate layer 2 has larger sintering density at low temperature than the outer layer 4.例文帳に追加

中間層２および外部層４として、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２およびＭｇＯ_２の少なくとも１種以上を主成分とするアルミナ、ムライト、ステアタイト、フォルステアタイト、コーディエライトおよびガラスから選ばれた少なくとも２種以上を含む複合セラミックスを用い、中間層２は、外部層４より低温で焼結密度が大きい。 - 特許庁

A mixture slurry obtained by crushing and mixing ZnO, Bi2O3, Sb2O3, and SiO2 is supplied to a rotary kiln, dried and roasted during the crushing to provide an insulating powder, and a first insulating material obtained by kneading the insulating powder and organic binder is coated on a desired part of the temporarily baked body (S4).例文帳に追加

次に、ＺｎＯ，Ｂｉ_2Ｏ_3，Ｓｂ_2Ｏ_3，ＳｉＯ_2を粉砕・混合して得た混合物スラリーをロータリーキルンに供給し、粉砕すると共に乾燥・焙焼して絶縁粉体を得た後、その絶縁粉体と有機バインダーとを混練して得られた第１絶縁材を前記仮焼体の所望の部分に塗布する(Ｓ４)。 - 特許庁

This method for producing the spherical alumina having ≤20 ppm sodium content by spraying a powder of an alumina raw material into a high-temperature flame is characterized by 1-50% siliceous powder having 0.1-2.0 mm average particle diameter, expressed in terms of SiO2 and present in the powder of the alumina raw material.例文帳に追加

アルミナ原料粉末を、高温火炎中に溶射し、球状アルミナを製造する方法において、アルミナ原料粉末中に平均粒径０．１〜２．０ｍｍのシリカ質粉末をＳｉＯ_2換算で１〜５０％存在させることを特徴とするソーダ含有率２０ｐｐｍ以下の球状アルミナ粉末の製造方法。 - 特許庁

Concentrations of three or more components is including at least water, crude fat and polysaccharide from among water, crude fat, polysaccharide, crude protein, crude fiber, an ignition loss and SiO2 in the dehydrated cake are measured, and a multiple recurrence formula showing the relation between the dry adhesion and the component of the dehydrated cake is formed.例文帳に追加

請求項１の発明では、脱水ケーキの水分、粗脂肪、多糖類、粗蛋白、粗繊維、強熱減量、ＳｉＯ_2 のうち、少なくとも水分、粗脂肪、多糖類を含む３成分以上の濃度を測定して、脱水ケーキの乾燥付着力と成分との関係を示す多重回帰式を作成しておく。 - 特許庁

A low silica X type zeolite molded body containing at least 95% low silica X type zeolite with a molar ratio of SiO2/Al2O3 of 1.9-2.1 is brought into contact with a mixed gas containing carbon dioxide with a molar fraction of at least 5% and a gas with a lower polarity than carbon dioxide to perform adsorptive separation of carbon dioxide.例文帳に追加

ＳｉＯ_2／Ａｌ_2Ｏ_3モル比が１．９〜２．１の低シリカＸ型ゼオライトを９５％以上含有する低シリカＸ型ゼオライト成形体に、モル分率が５％以上の二酸化炭素、及び二酸化炭素より極性の低いガスを含む混合ガスを接触させることにより、二酸化炭素を吸着分離する。 - 特許庁

This ceramic sintered body is a ceramic composition formed by dispersing particles having CaSiO3 or MgSiO3 as a main ingredient in a glass component containing at least either one of SiO2, Al2O3, B2O3 or CaO and MgO, and is obtainable from a ceramic composition having transverse strength of not less than 1500 kg/cm.例文帳に追加

セラミックス焼結体は、ＳｉＯ_2、Ａｌ_2Ｏ_3、Ｂ_2Ｏ_3と、ＣａＯとＭｇＯの少なくとも何れかを含むガラス成分に、ＣａＳｉＯ_3またはＭｇＳｉＯ_3を主体とする粒子が分散しているセラミックス組成物であって、その燒結体の抗折強度が１５００ｋｇ／ｃｍ^2以上であるセラミックス組成物から得られる。 - 特許庁

In the system for producing a semiconductor, where an SiO2 film is formed on a substrate by supplying TRIES gas and O2 gas into a reaction chamber 1 loaded with a substrate, a section 5 for making TRIES gas and O2 merge is provided immediately in front of the reaction chamber 1 and the gas merging section is provided with a turbulence generating means 10.例文帳に追加

基板を装填した反応室１内にＴＲＩＥＳガスとＯ_2ガスとを供給して基板上にＳｉＯ_2膜を形成する半導体製造装置において、反応室１の直前にＴＲＩＥＳガスとＯ_2ガスとを合流させるガス合流部５を設け、そのガス合流部に乱流発生手段１０を設けた。 - 特許庁

On the surface of a substrate 11 composed of a silicon nitride type sinter, an anti-corrosion surface layer 13 composed of at least on of fluoride, oxide or nitride of a metal is formed via a medium layer 12 composed of SiO2 or a compound oxide of an element in No.3a group of the periodic table and silicon.例文帳に追加

窒化珪素質焼結体からなる基体１１の表面に、ＳｉＯ_2または周期律表第３ａ族元素と珪素との複合酸化物からなる中間層１２を介して、金属のフッ化物、酸化物および窒化物のうち少なくとも１種からなる耐食性表面層１３を形成してなる。 - 特許庁

The synthetic calcium silicate is comprised of a melt water- granulated material which contains, as indispensable components, CaO and SiO in the weight ratio of CaO to SiO2 of 0.30-1.05 and, as inevitable impurity, Fe2O3 in an amount of ≤3.0 wt.% and is substantially free from fluorine.例文帳に追加

本発明の合成ケイ酸カルシウムは、必須成分としてＣａＯ及びＳｉＯ_2を含有してなり、ＣａＯ／ＳｉＯ_2重量比が０．３０〜１．０５の範囲内にあり、Ｆｅ_2Ｏ_3含有量が不可避不純物として３重量％以下であり、且つフッ素が実質上不在である溶融水砕物よりなることを特徴とする。 - 特許庁

This composite electrode material is formed by containing graphite grains, amorphous carbon, and silicone, the silicon content in terms of SiO2 is 40-80 wt.%, the true density is 1.8×103 kg/m3 or more, the tap density is 0.8×103 kg/m3 or more, and the specific surface is 8×103 kg/m2 or less.例文帳に追加

黒鉛質粒子、非晶質炭素及び珪素を含有してなり、ＳｉＯ_２換算での珪素含有量が４０〜８０重量％であり、真密度が１．８×１０^３ｋｇ／ｍ^３以上、タップ密度が０．８×１０^３ｋｇ／ｍ^３以上、比表面積が８×１０^３ｍ^２／ｋｇ以下である複合電極材料。 - 特許庁

This ground solidification material contains water glass and slag in a molar ratio of 2.5 or lower as essential ingredients provided that the amount of water glass compounded into 1,000 ml of the resultant liquid composition is 3.5-46 g in terms of SiO2 and that the slag is a finely particulate slag having a specific surface area of 5,000 cm2/g or higher.例文帳に追加

モル比が２．５以下の水ガラスとスラグとを必須成分とし、（１）配合液１，０００ml当たりの水ガラスの配合量がＳｉＯ_2 として３．５〜４６ｇであること、および（２）スラグが比表面積５，０００cm^2/g 以上の微粒子スラグであること、という要件を具備してなる懸濁型地盤固結材。 - 特許庁

Multifunctional glass particles 1 are produced by coating the surfaces of glass particles 2 which transmit light with an inorg. coating layer 3 consisting of a mixture of photocatalytic titanium oxide and/or light-accumulating powder or org. inorg. pigment and an inorg. coating material essentially consisting of SiO2 and org. metal compds.例文帳に追加

光が透過するガラス粒２の表面に、光触媒酸化チタンおよび／または蓄光性微粉末または有色無機顔料と、ＳｉＯ_2 および有機金属化合物を主成分とする無機質系塗料との混合物からなる無機質コーティング層３を形成して多機能性ガラス粒１を構成する。 - 特許庁

An InGaAsP guide layer 104, an MQW active layer 105 and a p-InP clad layer 106 are selectively grown on an n-InP substrate 101 by a selective MOVPE method by using a pair of SiO2 stripe masks 103, in such a way that the width of the stripe masks 103 is made wide according to an oscillation wavelength.例文帳に追加

ｎ−ＩｎＰ基板１０１上に、一対のＳｉＯ_2ストライプマスク１０３を用いて、前記ストライプマスク１０３の幅を、発振波長に応じて広くし、選択ＭＯＶＰＥ法によって、ＩｎＧａＡｓＰガイド層１０４、ＭＱＷ活性層１０５、およびｐ−ＩｎＰクラッド層１０６を選択成長させる。 - 特許庁

To provide a combustor for a combustion system of exhaust gas disposer which can resolve deposited gas containing exhaust gas from a semiconductor manufacture device or the like, especially, SiH4 and halogenous gas at the same time at high resolution percentage, and where SiO2 powder is hard to adhere and accumulate and besides which can materialize low NOx combustion and besides can secure safety.例文帳に追加

半導体製造装置等からの排ガス、特にＳｉＨ_４を含んだデポジット系のガス及びハロゲン系のガスを同時に高い分解率で分解できて、ＳｉＯ_２粉が付着・堆積し難く、しかも低ＮＯｘ燃焼を実現でき、且つ安全性を確保できる燃焼式排ガス処理装置用の燃焼器を提供する。 - 特許庁

This glass is obtained by designing its composition so as to essentially comprise 45.5-50 wt.% SiO2, 5-30 wt.% Al2O3, 10-30 wt.% MgO and 5-20 wt.% TiO2, with the weight ratio MgO/TiO2 of 2.5-7.例文帳に追加

ガラス組成において、主成分の組成範囲を、ＳｉＯ_2が４５．５ｗｔ％以上で且つ ５０ｗｔ％以下、Ａｌ_2Ｏ_3が５ｗｔ％以上で且つ ３０ｗｔ％以下、ＭｇＯが１０ｗｔ％以上で且つ ３０ｗｔ％以下、ＴｉＯ_2が５ｗｔ％以上で且つ ２０ｗｔ％以下、ＭｇＯ／ＴｉＯ_2が２．５以上で且つ ７以下、とした。 - 特許庁

This glass is obtained by designing its composition so as to essentially comprise 40.5-43.5 wt.% SiO2, 5-30 wt.% A12O3, 10-30 wt.% MgO and 5-20 wt.% TiO2, with the weight ratio MgO/TiO2 of 2.5-7.例文帳に追加

ガラス組成において、主成分の組成範囲を、ＳｉＯ_2が４０．５ｗｔ％以上で且つ ４３．５ｗｔ％以下、Ａｌ_2Ｏ_3が５ｗｔ％以上で且つ ３０ｗｔ％以下、ＭｇＯが１０ｗｔ％以上で且つ ３０ｗｔ％以下、ＴｉＯ_2が５ｗｔ％以上で且つ ２０ｗｔ％以下、ＭｇＯ／ＴｉＯ_2が２．５以上で且つ ７以下、とした。 - 特許庁

This sputtering target can be manufactured by selecting CoO powder and at least one or more kinds among powder of Si oxide, such as SiO2 and SiO, powder of Ti oxide, such as TiO2, Ti2O3 and TiO3, powder of Ca oxide, such as CaO and CaO2, and powder of zinc oxide such as ZnO and subjecting these powders to ball mill kneading, drying, compacting and sintering.例文帳に追加

ＣｏＯ粉末と、ＳｉＯ_2，ＳｉＯ等のＳｉの酸化物粉末、ＴｉＯ_2，Ｔｉ_2Ｏ_3，ＴｉＯ_3等のＴｉの酸化物粉末、ＣａＯ，ＣａＯ_2 などのＣａの酸化物粉末，亜鉛の酸化物ＺｎＯ粉末のうち、少なくとも一つ以上を選び、ボールミル混練，乾燥，成形，焼結することにより製造される。 - 特許庁

The photocatalytic coating fluid forms a thin film having titanium oxide as the major component on a base material and comprises 0.1-10 wt.% titanium oxide (TiO2) having an average particle size of 50-120 nm and a crystallite diameter of 6-18 nm, 0.1-10 wt.% silica compound (SiO2), and ≥60 wt.% alcoholic solvent.例文帳に追加

基材上に酸化チタンを主成分とする薄膜を形成させる光触媒塗布液において、平均粒子径が50nm〜120nm、結晶子径6〜18nmの酸化チタン(TiO_2)を0.1〜10重量％、シリカ化合物(SiO_2)を0.1〜10重量％、アルコール溶媒を60重量％以上含むことを特徴とする酸化チタン含有光触媒塗布液。 - 特許庁

To provide a method for using a coal to form the burnt ash having much CaO and Fe2O3 and little Al2O3 and SiO2 in the component composition of the ash such as in the case of burning China-made Shenhua coal where the coal is used as reduction of iron ore and as heat source in a blast furnace for iron-making.例文帳に追加

中国産の神華炭等を燃焼させた場合のように、灰の成分組成においてＣａＯとＦｅ_2Ｏ_3が多く、Ａｌ_2Ｏ_3とＳｉＯ_2が少ない燃焼灰を形成する石炭を製鉄用の高炉に供給して鉄鉱石の還元用及び熱源用炭として使用する方法に関するものである。 - 特許庁

This method for heat-treating the optical synthetic quartz glass is characterized in that the periphery of the synthetic quartz glass body which is a material to be treated is covered with an SiO2 powder having ≥1×1019 molecules/cm3 dissolved hydrogen molecular concentration on the average and heat-treated in a heating furnace in the method for heat-treating the optical synthetic quartz glass in the heating furnace.例文帳に追加

本発明は、加熱炉内で光学用合成石英ガラスを熱処理する方法において、被処理物である合成石英ガラス体の周囲を、溶存水素分子濃度が平均で１×１０^１９個／ｃｍ^３以上のＳｉＯ_２粉体で覆って加熱炉内で熱処理することを特徴とする。 - 特許庁

Then, an opening 71a for the N+ diffusion layer 62b and an opening 71b for the polycrystalline Si film 66b are simultaneously formed on an SiO2 film 68, and SiN films 72a and 72b that are the capacitance dielectric films of the MIS capacitor 88 and the MIM capacitor 89 are simultaneously formed on the openings 71a and 71b.例文帳に追加

そして、Ｎ^+ 拡散層６２ｂに対する開口７１ａと多結晶Ｓｉ膜６６ｂに対する開口７１ｂとをＳｉＯ_2 膜６８に同時に形成し、ＭＩＳ容量素子８８及びＭＩＭ容量素子８９の夫々の容量誘電膜であるＳｉＮ膜７２ａ、７２ｂを開口７１ａ、７１ｂ上に同時に形成する。 - 特許庁