「Step-Rate」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a silicon carbide semiconductor device eliminating an occurrence of a surface roughness of a bunching step or the like to sufficiently improve an activation rate of an impurity-injection layer.例文帳に追加

バンチングステップ等の表面荒れを発生させることなく、不純物注入層の活性化率を十分に高くする炭化珪素半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The CF of each year of the already existing building in a period under consideration is calculated, and an already existing building ΣCF being the total CF is obtained, and an internal rate of return is calculated (a step 204).例文帳に追加

既存建物の検討期間における各年度のＣＦを算出し、これらの合計である既存建物ΣＣＦを算出し、内部利益率を算出する（ステップ２０４）。 - 特許庁

When Cex >6.0%+α, the system is in the fuel lean state, and therefore, the degree of opening of the flow rate adjusting valve is increased by one step in order to increase an addition amount of auxiliary fuel gas.例文帳に追加

Ｃex＞６．０％＋αの場合には燃料リーンの状態であるため、補助燃料ガス添加量を増大させるべく流量調整弁の開度を１段階大きくする。 - 特許庁

By multiplying this reference value 2 with a correction factor, calculated based on a generator load and battery temperature, rate-of-change limiting value of the target generation voltage of the generator is calculated (Step 14).例文帳に追加

この基準値２に発電機負荷とバッテリ温度とに基づいて算出した補正係数をかけて発電機の目標発電電圧の変化率制限値を算出する（ステップ１４）。 - 特許庁

With regard to a through image, if the direction of rotation of the zoom ring is the enlarging direction, for example, the display is reduced gradually at a rate based on the rotational speed of the zoom ring (step S12).例文帳に追加

一方、スルー画像に関しては、例えばズームリングの回転方向が拡大方向である場合、ズームリングの回転速度に基づく速度で、徐々に縮小表示する（ステップＳ１２）。 - 特許庁

In the sublimation/growth step S2, the rate of argon gas introduced in a reaction system is altered according to early, middle and final stages of growth of the silicon carbide single crystal.例文帳に追加

昇華・成長工程Ｓ２では、炭化ケイ素単結晶の成長初期、成長中期、成長後期と変わるに連れて、反応系内に導入するアルゴンガスの流量を変化させる。 - 特許庁

To provide a method for producing trichlorosilane with a high recovery rate of trichlorosilane by suppressing decomposition of trichlorosilane and formation of polymers in a step of cooling a gas formed by the conversion reaction.例文帳に追加

転換反応によって生成したガスを冷却する工程において、トリクロロシランの分解とポリマーの生成を抑制したトリクロロシランの回収率が高い製造方法を提供する。 - 特許庁

A first etching step employs an etching method in which an etching rate to at least a second film and a third film is high and etching is performed until at least a first film is exposed.例文帳に追加

すなわち、第１のエッチング工程には、少なくとも第２の膜及び第３の膜に対するエッチングレートが高いエッチング方法を採用し、少なくとも第１の膜を露出するまで行う。 - 特許庁

To provide a method of producing polyol ester that has a high reaction velocity, does not need a moisture removal step, has a fully high reaction rate, and has a small acid value.例文帳に追加

反応速度が速く、水分の除去工程が不要であり、反応率が十分高く、かつ酸価が小さいポリオールエステルを得ることができるポリオールエステルの製造方法の提供。 - 特許庁

The method preferably includes a step (S15) for canceling the contract concerning the flat-rate power usage apparatus when the existence of the unused power usage apparatus is confirmed.例文帳に追加

また、使用されていない電力使用設備が存在することが確認された場合に、該定額電力使用設備に関する契約を抹消するステップ（Ｓ１５）を含むことが好ましい。 - 特許庁

The film thickness of the thin-film structure to be deposited can be precisely controlled and the desired light reflectivity can be obtained by controlling the evaporation rate from the stage of the pretreatment step prior to the deposition operation.例文帳に追加

成膜動作前の前処理工程時から蒸発レートの制御を行うことで、成膜する薄膜構造の膜厚を精密に制御して所望の光反射率を得ることができる。 - 特許庁

The method for producing the saturated norbornene-based resin film comprises a casting step of casting the solution of a saturated norbornene-based resin at a casting rate of 10 m/min to 90 m/min.例文帳に追加

飽和ノルボルネン系樹脂の溶液を、流延速度１０ｍ／分以上９０ｍ／分以下で流延する流延工程を含む飽和ノルボルネン系樹脂フィルムの製造方法である。 - 特許庁

In a method of controlling the driving torque to be given to wheels in turning motion, a temporary torque command is computed (S10 to S14), based on the target yaw rate in the processing step of the first half.例文帳に追加

旋回時の車輪に与える駆動トルクを制御する方法において、前半の処理ステップでは、目標ヨーレートに基づいて仮トルク指令値が算出される（Ｓ１０からＳ１４）。 - 特許庁

After estimating the heat transfer rate, in the method, a transiently accurate combustion reference temperature is estimated, and step 320 is implemented in which the plurality of combustors of the gas turbine is controlled by using this parameter.例文帳に追加

熱伝達率の推定後、この方法では、過渡的に正確な燃焼基準温度を推定し、このパラメータを用いてガスタービンの複数の燃焼器を制御するステップ３２０に進む。 - 特許庁

When the number of encoded bits exceeds the number of designated bits that can be used for encoded data, a repetitive rate control loop controls the quantization parameter and a quantization step size.例文帳に追加

繰り返しのレート制御ループが、符号化されるビット数が符号化されるデータに利用可能な指定のビット数を超えると、量子化パラメータおよび量子化ステップサイズを調節する。 - 特許庁

The Rockwell hardness and the melt flow rate of the rubber-modified thermoplastic resin in the virgin material are calculated according to the flame retardant amount vs. physical properties relationships 203 (step S304).例文帳に追加

物性に対する難燃剤添加量の関係式２０３を使用して、追加材料中のゴム変性熱可塑性樹脂のロックウェル・ハードネスおよびメルトフローレートを算出する（ステップＳ３０４）。 - 特許庁

To obtain an aqueous dispersion for polishing chemical machinery capable of polishing a film to be processed, or the like, of a semiconductor device at a sufficient rate and useful especially in a step of shallow trench isolation.例文帳に追加

半導体装置の被加工膜等を十分な速度で研磨することができ、特に、微細化素子分離の工程において有用な化学機械研磨用水系分散体を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method has a step for exposing the surface of the base layer to an Ar gas which has 0.1 to 10 Pa gas pressure and into which the oxygen of 1 to 10% mass flow rate is mixed for 1 to 10 sec.例文帳に追加

また、下地層の表面を、質量流量比１〜１０％の酸素を混合したガス圧０．１〜１０ＰａのＡｒガス中に１〜１０秒間曝露する工程を備える。 - 特許庁

In a step 110, whether the present rotational number is within a range of a target rotational number region corresponding to a set flow rate, is below the range, or is above the range is judged.例文帳に追加

ステップ１１０では、現在の回転数が設定流量に対応した目標回転数領域の範囲内であるか、範囲を下回るか、範囲を上回るかを判定する。 - 特許庁

When the amount of movement exceeds the threshold, the pieces of frame image data are acquired at 300 fps which is high speed photography frame rate, and the pieces of frame image data are sequentially recorded in the work memory (a step S7).例文帳に追加

閾値を超えた場合には、高速撮影フレームレートである３００ｆｐｓでフレーム画像データを取得して、これらのフレーム画像データをワークメモリに順次記録する（ステップＳ７）。 - 特許庁

In a step 250, since a pulse interval is normal, the heartbeat interval is interpolated using the pulse rate interval, and the heartbeat interval is output to a storage device 17 and a display device 19.例文帳に追加

ステップ２５０では、脈拍間隔が正常であるので、この脈拍間隔を用いて心拍間隔を補間し、その心拍間隔を、記憶装置１７や表示装置１９に出力する。 - 特許庁

This production method for methane gas comprises a step of washing a nitrification gas in a methane fermentation tank with a washing solution containing photosynthetic bacteria, a step of fixing carbon dioxide gas in the nitrification gas as an organic substance and a step of fermenting again the organic substance thus fixed to improve the purity of the refined gas and the conversion rate of the organic substance to methane.例文帳に追加

メタン発酵タンクにおける硝化ガスの洗浄を光合成細菌類を混合させた洗浄液で行ない、硝化ガス中の炭酸ガスを有機物として固定し、この固定された有機物をメタン発酵タンクで再発酵させることにより、精製ガスの純度向上と併せて、有機物のメタン転換率を向上させるメタンガス製造法。 - 特許庁

The processing includes a step where an incoming signal is received and an output signal is processed, a step where the measured value of the signal strength of the incoming signal is generated, and a step where an output warning signal is added to the output signal when the quality of the incoming signal is not satisfied, on the basis of the measured value of the signal strength and error rate.例文帳に追加

来入信号を受信することにより出力信号を処理するステップと、来入信号の信号強度の測定値を生成するステップと、信号強度の測定値とエラーレートに基づいて来入信号の品質が満足できない場合には、出力警告信号を前記出力信号の付加するステップとを有する。 - 特許庁

When the characteristic frequency reaches a prescribed value Fs, the rough control step Ts1 is ended and the controller 20 sends a switching control signal to the power source circuit 18 to lower the power to be supplied from the power source circuit 18, and to start a fine control step Ts2 for performing etching at the etching rate smaller than said rough control step.例文帳に追加

特性周波数が所定値Ｆｓに到達したとき、粗調整ステップＴｓ１が終了し、制御装置２０は電源回路１８に切換制御信号を送出し、電源回路１８から供給される電力を低下させ、上記の粗調整ステップよりも小さなエッチングレートでエッチングが行われる微調整ステップＴｓ２に移行する。 - 特許庁

The base metal exhaust emission control device of the internal combustion engine includes a first step base metal catalyst means for performing an oxidation purification of HC and CO, and a basic structure consisting of a second step base metal catalyst means for performing a reduction purification of NOx, wherein the first step base metal catalyst means has a purification rate of HC higher than that of CO.例文帳に追加

ＨＣおよびＣＯの酸化浄化を行なう第１段卑金属触媒手段と、ＮＯｘの還元浄化を行なう第２段卑金属触媒手段とから成る基本構造を備え、該第１段卑金属触媒手段はＣＯよりもＨＣの浄化率が高いことを特徴とする内燃機関の卑金属排ガス浄化装置。 - 特許庁

A method of improving an yield of semiconductor integrated circuit device comprises: a step of calculating a fault rate of a design rule based on multiple fault rates of corresponding multiple experimental design rule values and on the number of features in a layout of interest corresponding to the multiple experimental design rule values, respectively; and a step of correcting the layout of interest based on the fault rate of the design rule.例文帳に追加

本発明の半導体集積回路装置の歩留まり向上方法は、多数の実験デザインルール値に対応する多数の欠陥率と、関心レイアウト内で前記多数の実験デザインルール値各々に該当するフィーチャの数に基づいて前記デザインルールの欠陥率を算出し、前記デザインルールの欠陥率に基づいて関心レイアウトを修正することを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The method comprises an emergency stop step A of stopping each drive device in the emergency stop by deceleration rate which is individually set for each drive device in advance, and an emergency stop step B of stopping the each drive device at the emergency stop deceleration rate in which the time before stopping after reaching the emergency stop state and at the zero speed when any trouble occurs in a control device for controlling the speed command.例文帳に追加

各ドライブ装置にあらかじめそれぞれ個別に設定した非常停止減速レートで停止する非常停止工程Ａとともに、速度指令を司る制御装置に故障が発生した場合に、非常停止状態となってからゼロ速度となって停止するまでの時間を一定とする非常停止減速レートで停止する非常停止工程Ｂを有する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device including a plating step of depositing metal along a sidewall of a deep recess having a narrow opening and made in a substrate, which can make small the step difference of the metal deposited on the substrate, by making the deposition rate on the substrate nearly equal to the deposition rate on the sidewall and the bottom of the recess.例文帳に追加

開口部が狭く、深い窪みを有する基板において、該窪みの側壁にそって、金属を析出させるメッキ工程において、基板の表面に析出する析出速度と、窪みの側壁及び底部に析出する析出速度とを、ほぼ同等とすることにより、基板表面に析出される金属段差を、小さくすることが可能とする半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for fabricating a semiconductor device comprises a step for forming a photoresist pattern 14 on a layer 12 to be etched, a step for forming an etching rate increasing film of the layer 12 on the side wall of the photoresist pattern 14, and a step for forming a contact window by etching the layer 12 using the photoresist pattern on which the etching rate increasing film is formed as an etching mask.例文帳に追加

食刻対象層１２の上部にフォトレジストパターン１４を形成する段階と、プラズマ処理を行いフォトレジストパターン１４の側壁に食刻対象層１２の食刻速度を増加させるための食刻速度増加膜を一定の厚さで形成する段階と、食刻速度増加膜が形成されているフォトレジストパターンを食刻マスクとして用いて食刻対象層を食刻することによりコンタクト用のウィンドウを形成する段階とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

To selectively oxidize and remove elements to be oxidized and removed in a molten metal without peroxidizing the molten metal even under a condition of a low oxygen-sending rate or when the oxygen-sending rate was greatly decreased, in the step of oxidizing and refining the molten metal by blowing oxygen gas into it.例文帳に追加

溶融金属に酸素ガスを吹き付けて酸化精錬する際に、低送酸速度の条件下でも、或いは、送酸速度が大幅に低減される場合であっても、溶融金属の過酸化を生じさせることなく、溶融金属中の酸化除去すべき元素を優先的に酸化除去する。 - 特許庁

A code amount is assigned to each frame in the unit of an image group so that a buffer occupancy rate of the image group having a prescribed number of image frames included in a video signal is kept within a range between an upper limit and a lower limit of the preset buffer occupancy rate (1st step).例文帳に追加

ビデオ信号に含まれる所定数の画像フレームを有する画像群のバッファ占有率が、予め設定されたバッファ占有率の上限値と下限値との間の範囲内に収まるように、前記画像群単位で符号量が割り当てられる（第１の段階）。 - 特許庁

In the subsequent second etching step, lower electrodes 17B are formed of the film 17A by etching the remaining portion of the film 17A with a mixed gas of chloride supplied at a flow rate of 0.01 slm and Ar supplied at a flow rate of 0.09 slm.例文帳に追加

続く第２のエッチング工程において、流量０．０１ｓｌｍの塩素と流量０．０９ｓｌｍのＡｒとの混合ガスを用いて、下部電極形成膜１７Ａの残部に対してエッチングを行なうことにより、下部電極形成膜１７Ａから下部電極１７Ｂを形成する。 - 特許庁

A wireless LAN terminal 100a at a transmitting side retransmits an identical frame to a transmitting frame at the same communication rate as a previous transmission until at least a predetermined rate change frequency even though the terminal cannot receive an ACK frame from a receiving side (step S5).例文帳に追加

送信側の無線ＬＡＮ端末１００ａは、送信したフレームに対し、受信側からのＡＣＫフレームを受信できなかった場合であっても、少なくとも所定のレート変更回数になるまでは前回と同一の通信レートにて同一のフレームを再送する（ステップＳ５）。 - 特許庁

An image processing part 202 of a flow chart display device 2 makes a relevance calculation part 203 calculate relevance of a step at a current location and the other steps, and makes a reduction rate calculation part 204 calculate a reduction rate by which all the relevant steps are displayed on the same screen.例文帳に追加

フローチャート表示装置２の画像処理部２０２は、現在位置となるステップと他のステップとの関連性を関連性計算部２０３に計算させ、すべての関連するステップが同一画面に表示されるような縮小率を縮小率計算部２０４に計算させる。 - 特許庁

The method for the production of an inorganic fluorescent material contains a baking step to raise the temperature in a manner that the average heating rate U_0 from the heat-starting temperature t_0 to an arbitrary temperature t_1 is set to be higher than the average heating rate U_t from the arbitrary temperature t_1 to the heat-finishing temperature T_1.例文帳に追加

昇温開始温度ｔ_0から任意の温度ｔ_1までの平均昇温速度Ｕ_0が、任意の温度ｔ_1から昇温終了時の温度Ｔ_1までの平均昇温速度Ｕ_tよりも速くなるように昇温する焼成工程を有することを特徴とする無機蛍光体の製造方法。 - 特許庁

The combustor (25) includes a plurality of individual fuel supply-type substantially concentric annular rings (202, 204, 206), and the flow rate of the fuel to each ring is adjusted alternately by the use of a plurality of individual control devices in the step (406) for adjusting the flow rate of the fuel.例文帳に追加

燃焼器（２５）が複数の個別燃料供給式の実質同心の環状リング（２０２、２０４、２０６）を含み、燃料流量を調整する段階（４０６）が、複数の個別のそれぞれの制御装置を用いて各リングへの燃料流量を交互に調整する。 - 特許庁

The method includes steps of: receiving a report control message having at least one parameter, a step of measuring a flow error rate on the basis of at least one parameter; generating a measurement report on the basis of the error rate; and transmitting the measurement report.例文帳に追加

方法は、少なくとも１つのパラメータを備えるレポート制御メッセージを受信することと、少なくとも１つのパラメータに基づいてフローの誤り率を測定することと、この誤り率に基づいて測定レポートを生成することと、この測定レポートを送信することとを含む。 - 特許庁

In the mixing step, raw material mixture slurry obtained by mixing the powder with a solvent and satisfying a relation of Vs/Vf<1.5 of the maximum viscosity (Vf) in 300-500 /sec share rate and the maximum viscosity (Vs) in 1-100 /sec share rate is prepared.例文帳に追加

混合工程においては、これらの粉末と溶媒とを混合することにより、せん断速度３００〜５００／ｓｅｃにおける粘度の最大値（Ｖｆ）とせん断速度１〜１００／ｓｅｃにおける粘度の最大値（Ｖｓ）とがＶｓ／Ｖｆ＜１．５という関係を満足する原料混合物スラリーを作製する。 - 特許庁

A step for detecting the change of a vehicle running state and a detected element are processed by a vehicle dynamical equation, and values for calculating a longitudinal speed, horizontal speed, yaw rate, roll rate, roll angle, slip angle, and slip ratio are processed by a Kalman filter to predict a slip angle which is formed in the transient state.例文帳に追加

車両走行状態の変化を検出する段階と検出された要素を車両動力学方程式により処理し縦速度、横速度、ヨーレート、ロールレート、ロールアングル、スリップアングル、スリップ比を算出した値をカルマンフィルタで処理して、過渡状態で発生するスリップアングルを予測する。 - 特許庁

In variable rate bit allocation (step 14), coding difficulty for each time slot is calculated from statistic data obtained by 1st coding in 1 step 11, the coding difficulty in the 1st coding is mapped again to a 2nd time slot in the moving picture sequence after the edit.例文帳に追加

可変レートビットアロケーション（ステップ１４）では、ステップ１１の第一の符号化により得られる統計データからタイムスロット毎の符号化困難度を算出し、第一の符号化における符号化困難度を、編集後の動画像シーケンスにおける第二のタイムスロットへの再マッピングを行う。 - 特許庁

The production method of the silica-coated aluminum pigment comprises a step of dispersing aluminum particles in a solution containing a hydrolyzing catalyst, water and a hydrophilic organic solvent, and a step of adding a solution containing an Si-containing compound to the dispersion at a maximum silica film deposition rate of ≤3 nm/hr.例文帳に追加

アルミニウム粒子を加水分解触媒、水、親水性有機溶剤を含む溶液に分散させる工程、該分散液にＳｉ含有化合物を含む溶液をシリカ膜の最大堆積速度が３ｎｍ／ｈｒ以下にして添加する工程、を含むシリカ被覆アルミニウム顔料の製造方法。 - 特許庁

The method includes also a step for vaporizing uranium hexafluoride in the second cylindrical container, and a step for introducing the vaporized uranium hexafluoride in the second cylindrical container into the driving inlet of the eductor, when a flow rate of the uranium hexafluoride introduced into the suction port is a prescribed value or less.例文帳に追加

本方法はまた、第２の円筒状容器内で六フッ化ウランを気化させる段階と、吸込入口に導かれる六フッ化ウランの流量が所定量以下である場合に、第２の円筒状容器内の気化六フッ化ウランをエダクタの駆動入口に導く段階とを含む。 - 特許庁

A differential value between the face detected position with the center position of the frame is compared with a preset threshold, to specify an area including the face detected position among a plurality of areas corresponding the threshold (step T5), and a compression rate appropriate to the specified area is set (step T).例文帳に追加

そして、顔検出位置とフレームの中心位置との差分値と予め設定した閾値との比較を行い、顔検出位置が前記閾値に対応する複数のエリアのうちのいずれのエリアに入っているかを特定し（ステップＴ５）、その特定されたエリアに対応する圧縮率を設定する（ステップＴ）。 - 特許庁

When an absolute value |α| of the change rate of the helix angle is larger than the allowable limit β (step 104), torque increasing/decreasing control for temporarily decreasing or increasing torque generated in the engine, for example, ignition timing control or intake air quantity control is executed (step 105).例文帳に追加

ねじれ角変化率の絶対値｜α｜が許容限界βよりも大きいときには（ステップ１０４）、機関発生トルクを一時的に減少させまたは増大させるトルク増減制御、たとえば点火時期制御または吸入空気量制御が実行される（ステップ１０５）。 - 特許庁

The method includes a step where the temperature of the steel sheet is brought near to the target temperature by supplying cooling water onto the surface of the steel sheet and the control of the pressure and/or the flow rate of the cooling water supplied in the step is performed by changing the number of rotation of the pump.例文帳に追加

冷却水を鋼板表面に供給することにより鋼板を目標温度に近づける工程を備え、該工程で供給される冷却水の圧力および／又は流量の制御が、ポンプの回転数を変更することにより行われることを特徴とする。 - 特許庁