「Surface Structures」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To solve the problem that impact to an occupant is large because reaction force rapidly decreases and impact energy cannot be absorbed more than it when once a plurality of recessed groove structures reaching the other end from an end part of an impact receiving surface side buckle and collapse though they are instantly deformed while work-hardening until they buckle and collapse by an impact load.例文帳に追加

解決しようとする課題は、衝撃受け面側の端部から他端まで達する複数の凹溝構造では、衝撃荷重により座屈崩壊するまでは加工硬化しながら一気に変形をするが、一旦座屈崩壊すると急激に反力が減少し衝撃エネルギーをそれ以上吸収できないため乗員への衝撃が大きいという点である。 - 特許庁

To provide a double-sided adhesive tape facilitating position-adjusting operation constituting a problem in laminating work regardless of being horizontal or perpendicular in a laminating surface, enabling firm adhesion setting after bonded, for use in the adhesion setting fields for housing construction materials, household electrical appliances, automotive parts and general structures.例文帳に追加

住宅建材、家電、自動車部品や一般的な構造物の接着固定分野に於いて、優れた接着強度を示す両面テープを使用し、貼り合わせ作業時に問題となる位置調整作業を、貼り合わせ面が水平面、垂直面を問わず容易とし、接着後は強固に接着固定することが可能である両面粘着テープを提供する。 - 特許庁

The production method of the multilayer films comprises forming the multilayer films laminated with the layers varying in at least one among constitution elements, compositions, and crystal structures by using a magnetron sputtering apparatus 1 which has a target 14 composed of thin film raw materials as base materials and performs sputtering by concentrating a plasma by the effect of a magnetic field near to the surface of the target 14.例文帳に追加

多層膜の製造方法は、薄膜原料を基材とするターゲット１４を有し、ターゲット１４の表面近傍に磁場の作用でプラズマを集中させてスパッタリングを行うマグネトロン・スパッタ装置１を用い、構成元素、組成、結晶構造の少なくとも一つが相違する層を積層させた多層膜を形成する方法である。 - 特許庁

One or a plurality of microchannels comprise protruded structures on the inner surface of at least one of one or a plurality of microchannels constituted such that the flow of the heat transmission fluid passing through one or a plurality of microchannels is affected.例文帳に追加

熱伝達デバイスは、熱伝達流体を収容するのに適した１つまたは複数のマイクロチャネルを備え、マイクロチャネルの１つまたは複数は、１つまたは複数のマイクロチャネルを通る熱伝達流体の流れに影響を与えるように構成された、１つまたは複数のマイクロチャネルの少なくとも１つの内部表面上の突出構造を有する。 - 特許庁

By two-dimensionally arranging metal structures (metal particles 2) minuter than wavelength of incident light on a flat surface of a transparent glass substrate 1 at a distance smaller than the wavelength of incident light, the polarization control element 10 which has high light transmittance, can afford a sufficient retardation, is high in the latitude of design and is excellent in heat resistance and light resistance can be obtained.例文帳に追加

透明なガラス基板１の平坦な面に、入射する光の波長よりも微小な金属構造（金属粒子２）を、入射する光の波長よりも小さい距離で２次元に配置することにより、光の透過率が高く、十分な位相差を与えることの可能な、設計自由度が高く、耐熱性や耐光性に優れた偏光制御素子１０とする。 - 特許庁

The original plate is obtained by disposing a photosensitive layer containing an IR absorbing dye and a water-insoluble and alkali-soluble resin and having solubility in an alkaline aqueous solution increased by heating on an aluminum support having big wave, medium wave and ripple structures on the surface.例文帳に追加

アルミニウム支持体上に、赤外線吸収染料と、水不溶性かつアルカリ可溶性の樹脂とを含有し、加熱によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大する感熱層を設けた平版印刷版原版であって、該アルミニウム支持体が、表面に大波構造と中波構造と小波構造とを有する平版印刷版原版。 - 特許庁

A space larger than the soldered joint area of the footprint 3 is made between the footprint and the printed circuit board 1 to give a spring property to the footprint so that it can release stress even if the board is distorted and structures, for example, with a through-hole formed in the lower substrate of the footprint or a recession formed in the lower substrate surface of the footprint are provided.例文帳に追加

フットプリント３のはんだ接合されるエリアより少し広く、フットプリントとプリント配線板１の間に空間を作ることで、フットプリントにばね性を持たせ、プリント配線板がたわんだ場合でも、応力を緩和する構造とし、例えば、フットプリント下方の基板に貫通孔を設ける、フットプリント下方の基板表面に凹部を設ける等の構造とした。 - 特許庁

In particular, the surface layer is a layer having the nano-concave-convex structures, and the intermediate layer is preferably constructed with a resin in which the thickness becomes 90% of the original thickness when the stress is released after compression, wherein a compressive breaking stress is ≥20 MPa, and a compression stress is 1-20 MPa in a compression ratio of 20%.例文帳に追加

特に、表層がナノ凹凸構造を有する層であり、また中間層は、圧縮破壊応力が２０ＭＰａ以上であり、圧縮率２０％における圧縮応力が１〜２０ＭＰａであり、圧縮後に応力を解放した場合元の厚さの９０％以上に戻る樹脂によって構成されていることが好適である。 - 特許庁

The heat developable photosensitive material includes an image forming layer containing at least a photosensitive silver halide, a non-photosensitive organic silver salt, a reducing agent for silver ions and a binder on one surface of a support, wherein the binder comprises at least a polymer A having structures represented by formulae (1) and (2).例文帳に追加

支持体の一方面上に、少なくとも感光性ハロゲン化銀、非感光性有機銀塩、銀イオンのための還元剤、及びバインダーを含有する画像形成層を有する熱現像感光材料であって、前記バインダーが、少なくとも下記一般式（１）及び一般式（２）で表される構造を有するポリマーＡを含むことを特徴とする熱現像感光材料。 - 特許庁

In this method of cleaning a substrate treatment apparatus by using a cleaning transfer member, the cleaning transfer member is provided with an aggregation layer of oblique columnar structures each protruding with an elevation angle of <90° from the surface of the transfer member and having an aspect ratio of ≥1, and the cleaning transfer member is used after completion of cleaning processing.例文帳に追加

本発明の基板処理装置のクリーニング方法は、クリーニング搬送部材を用いて基板処理装置をクリーニングする方法であって、該クリーニング搬送部材は搬送部材の表面に該表面からの仰角が９０度未満で突出したアスペクト比が１以上の斜め柱状構造体の集合層を備え、該クリーニング搬送部材を清浄処理した後に用いる。 - 特許庁

A manufacturing method of the nanostructure wherein a plurality of periodic pore arrangement structures having different periods are formed on the anodic oxide film next to each other comprises a step wherein pore-starting points comprising different kinds of periodic arrangements are formed on the surface of a substrate essentially comprising aluminum, and a step wherein the substrate is simultaneously subjected to anodic oxidation with the same anodic oxidation potential.例文帳に追加

陽極酸化膜に形成された異なる周期を有する複数の細孔周期配列構造が、互いに隣接して配列したナノ構造体の製造方法であって、アルミニウムを主成分とする基板表面に複数種類の周期配列からなる細孔開始点を作製する工程と、基板を同じ陽極酸化電圧で同時に陽極酸化をする工程とからなる。 - 特許庁

The organic EL panel sealing substrate designed to achieve the above objectives has flexibility and includes at least a metal layer, with conductive projected structures formed in a pattern-like manner on the surface on one side of the metal layer, and the organic EL substrate of an organic EL panel disposed on the projected structure side.例文帳に追加

フレキシブル性を備え、少なくとも金属層を有するものであり、かつ上記金属層の一方の表面には導電性を有する突起構造がパターン状に形成されており、上記突起構造側に有機ＥＬパネルの有機ＥＬ基板が配置されて用いられることを特徴とする有機ＥＬパネル用封止基板を提供することにより、上記目的を達成する。 - 特許庁

To provide a plating pretreatment method and plating method which do not undergo a surface roughening process in plating the surfaces of polymeric materials having carbon-hydrogen bonds in molecular structures, i.e., plastic products, fibrous or textile products and obviate the discharge of environmentally burdening emission materials, such as discharge of heavy metals.例文帳に追加

この発明は、分子構造中に炭素−水素結合を有する高分子材料、すなわちプラスチック製品、繊維又は繊維製品等の表面にめっきをするに当たって、表面粗化工程を経ることなく、また、重金属の排出などの環境に負荷のかかる排出物を排出することのない、めっき前処理方法およびめっき方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The semiconductor device 1 includes the horizontal MISFET formed on the main surface of a SOI substrate 2, and on the substrate 2 where concave-convex structures 6 for expanding the current pathway between a source region 3 of the MISFET and the drain region 4 are disposed, and the boundary of the concave part 11 and the convex part 12 of the concave-convex structure 6 is constituted by a slanting face.例文帳に追加

半導体装置１は、ＳＯＩ基板２の主表面に横型のＭＩＳＦＥＴを形成して成り、基板２の主表面には、ＭＩＳＦＥＴのソース領域３とドレイン領域４間の電流経路を拡大させるための凹凸構造６が設けられており、凹凸構造６の凹部１１と凸部１２の境界が斜めに傾斜している面によって構成されている。 - 特許庁

This curable polyphenylene ether resin composition comprises (a) the thermosetting polyphenylene ether resin and (b) a filler subjected to surface treatment with at least one kind of silane coupling agent selected from silane compounds having structures represented by formula (1), formula (2), formula (3) and formula (4) in an amount of 1-800 pts.wt. based on 100 pts.wt. of the component (a).例文帳に追加

（ａ）熱硬化型ポリフェニレンエーテル系樹脂、及び（ｂ）式（１）、式（２）、式（３）、式（４）で表される構造を有するシラン化合物から選ばれる少なくとも１種のシランカップリング剤にて表面処理した充填剤を、（ａ）成分１００重量部を基準として、１〜８００重量部の（ｂ）成分を含有することを特徴とする硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物。 - 特許庁

Since the bus wiring 150 passes on the upper surface in the boundary region, imaging is not performed by light receiving pixels but dummy pixels of the same structures as the light receiving pixels are arranged and a vertical CCD registor is provided so that signal charges are transferred only by the vertical CCD registor having characteristics similar to those of the imaging region 110 and the charges are delivered to the horizontal CCD registor 121.例文帳に追加

この境界領域では、上面にバス配線１５０が通っているため、受光画素による撮像は行わないが、受光画素と同一構造のダミー画素を配置し、垂直ＣＣＤレジスタを設けることにより、撮像領域１１０と同様の特性で垂直ＣＣＤレジスタによる信号電荷の転送だけを行い、水平ＣＣＤレジスタ１２１への電荷受け渡しを行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a package substrate for mounting a semiconductor element in which the yield can be enhanced by reducing adhesion of resin powder, miniaturization and adhesion are ensured by forming an embedded circuit not causing undercut, an outer layer circuit can be formed for an insulation layer on the surface, and various metal structures such as bumps or pillars can be formed.例文帳に追加

樹脂粉の付着を抑制することにより歩留まり向上が可能であり、アンダーカットが生じない埋め込み回路を形成することにより微細で密着力があり、表面が絶縁層に対して外層回路が形成可能であり、また、バンプやピラー等の種々の金属構成を形成可能な半導体素子搭載用パッケージ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

This paper cutting mechanism 40 used in a printer or the like includes a support 150 having a gap extending along the cross direction X of paper 2, and cutter structures 170, 182 having a knife edge 173 directed obliquely to an extending surface of the paper 2 to push the paper 2 into the gap when being moved in the extending direction X along the gap.例文帳に追加

プリンタ等に用いられる用紙切断機構１４０は、用紙支持面１５１ａ，１５２ａに用紙２の横断方向Ｘに沿って延びた間隙１５８を有する支持体１５０と、間隙１５８に沿ってその延在方向Ｘに移動される際用紙２を間隙１５８内に押し込むように用紙２の延在面に対して斜めに向いた刃先１７３を備えた刃物構造体１７０，１８２とを有する。 - 特許庁

A typical execution mode includes the radiation plate electrically further thermally insulated from a housing 3, the radiation plate making structures 51a, 51c for guiding air on an inner surface 5a deflect in a horizontal direction, the flexed metal sheet with an inclined part lined up in a region 30a flattened on the protective enclosure cover, and the flexed metal sheet toward a cooling element 6 on the protective enclosure cover.例文帳に追加

代表的な実施形態は、ハウジング３から電気的、且つ、熱的に絶縁された放射プレートと；内面５ａ上の空気をガイドする構造５１ａ、５１ｃを水平方向に偏向させる放射プレートと；傾斜部が保護囲いカバー上の平坦化された領域３０ａに整列された曲げられた金属シートと；保護囲いカバー上の冷却要素６に向けられた曲げられた金属シートとを含んでいる。 - 特許庁

This nitride semiconductor structure is provided with a sapphire substrate having processing structures of a recess portion and a projection portion on its surface in advance; a nitride semiconductor buffer layer formed on at least the projection portion on the substrate; and a nitride semiconductor layer formed on the semiconductor structure having an uneven portion by the sapphire substrate and the nitride semiconductor buffer layer.例文帳に追加

しかし、ＳｉＯ_2層を用いたマスクパターンは熱的損傷を受けやすく、熱的損傷を受けたマスクパターンの構成要素であるＳｉまたはＯ_2は窒化物半導体膜に悪影響をもたらし、そのため作製された窒化物半導体発光素子は、発光効率の低下と個々の発光素子の発光効率のばらつきによる製品の信頼性低下を招くと共に、窒化物半導体発光素子生産の歩留まりを低下させるという問題があった。 - 特許庁

In the separator integrated electrode, wherein compound porous structures containing one or more of polymer selected from among a group of vinylidene fluoride component containing polymer, polyamide, polyamideimide, polyether imide, polyethersulfone, polysulfone, polyether etherketone, and acrylic, and electrical insulating particles are continuously jointed on the surface of the electrode, the compound porous structure has net-shaped holes made from the polymer, and holes among electrical insulating particles.例文帳に追加

フッ化ビニリデン成分含有ポリマー、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、アクリルの群から選ばれる１種以上のポリマーと電気絶縁性無機粒子とを含有してなる複合多孔構造体が電極表面に連続して接合してなるセパレータ一体型電極であって、該複合多孔構造体がポリマーからなる網状の空孔と電気絶縁性無機粒子間の空孔を有することを特徴とするセパレータ一体型電極、セパレータ一体型電極の製造方法及び電気化学素子。 - 特許庁

The antireflection structure is made by arraying a large number of fine protrusions (fine structures) A1 on a base surface with a pitch smaller than a wavelength of visible light ray, wherein the fine protrusion A1 has a circle or a polygonal planar shape which touches the circle internally and forms a multi-step structure in which the area of the planar shape decreases step by step toward the apex part.例文帳に追加

基礎面上に可視光線の波長よりも小さいピッチで多数の微細凸部（微細構造）Ａ１を配列させた反射防止構造体であって、微細凸部Ａ１が、円又はこの円に内接する多角形の平面形状を有し且つ頂部に向けて平面形状の面積が漸次減少する多段構造を成すものとすることで、当該反射防止構造体を成形するための成形型を容易に作製することを可能にし、微細凸部Ａ１を高精度に形成して反射防止機能のさらなる向上を実現する。 - 特許庁

(2) In the event that the Minister of Agriculture, Forestry and Fisheries intends to impose a restriction pursuant to the provision set forth in the preceding paragraph, he/she may do so by ordering the person who intends to establish such structures to establish a route for anadromous fish or an alternative facility that can act as a substitute for such route, or if he/she considers that it is extremely difficult to establish such a route for anadromous fish or the alternative facility that can act as a substitute for such route, he/she may do so by ordering the person to establish a facility or take measures necessary for the breeding of anadromous fish or other fish within said water surface. 例文帳に追加

２　農林水産大臣は、前項の規定による制限をしようとするときは、当該工作物を設置しようとする者に対し、さく河魚類の通路又は当該通路に代るべき施設を設置すべきこと、もし、さく河魚類の通路又は当該通路に代るべき施設を設置することが著しく困難であると認める場合においては、当該水面におけるさく河魚類又はその他の魚類の繁殖に必要な施設を設置し、又は方法を講ずべきことを命ずることによつても、これをすることができる。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

(a) Photographs are not normally considered to be proper drawings. Photographs are acceptable for obtaining a filing date and generally considered to be informal drawings. Photographs are only acceptable where they come within the special categories as set forth in the paragraph below. Photolitographs of photographs are never acceptable. (b) The Office is willing to accept black and white photographs or photomicrographs (not photolitographs or other reproduction of photographs made by using screens) printed on sensitized paper in lieu of India ink drawings, to illustrate the inventions which are incapable of being accurately or adequately depicted by India ink drawings restricted to the following categories: crystalline structures, metallurgical microstructures, textile fabrics, grain structures and ornamental effects. The photographs or photomicrographs must show the invention more clearly than they can be done by the India ink drawings and otherwise comply with the rules concerning such drawings. (c) Such photographs to be acceptable must be made on photographic paper having the following characteristics which are generally recognized in the photographic trade: paper with a surface described as smooth, tint, white, or be photographs mounted on a proper sized Bristol board.例文帳に追加

(a)写真は，通常は適正な図面とはみなされない。写真は，出願日を取得する目的では受理されるが，一般に非公式の図面とみなされる。写真は，次項に記載する特別な範疇に該当する場合にのみ受理される。写真現像用の原版は，絶対に受理されない。 (b)庁は，墨による図面では正確に又は十分に描写することができない発明を例示するために，墨による図面の代わりに，感光紙に焼き付けた白黒の写真，又は(写真平版又はその他スクリーン印刷による写真の複製でない)顕微鏡写真を受理することが可能であるが，次の範疇のものに限定する。結晶構造，金属組織，織物地等，粒状構造及び装飾効果。写真又は顕微鏡写真は，墨による図面よりも発明を明瞭に示さなければならず，また，当該図面に関する規則に従うものとする。 (c)当該写真が受理されるためには，写真業界で一般に認められている次の特性を有する印画紙，すなわち表面が滑らかで，白無地の印画紙に焼き付けた写真，又は適切な寸法のブリストル紙を台紙にした写真でなければならない。 - 特許庁