「dry method」に関連した英語例文の一覧と使い方(72ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material for a laser imager and for an image setter output film having high sensitivity, low fog and high maximum density, excellent in image stability and silver tone and also having good shelf stability and to provide an image forming method for the material.例文帳に追加

本発明の目的は、高感度でカブリが低く、最高濃度が高く、画像安定性、銀色調に優れ、かつ保存安定性が良好のレーザーイメージャー用及びイメージセッター出力フィルム用の銀塩光熱写真ドライイメージング材料とその画像形成方法を提供することにある。 - 特許庁

The method for preparing the oxide thin film transistor having a substrate, a gate electrode, a gate insulating film, a source electrode, a drain electrode, and a semiconductor thin film includes a step for patterning the gate insulating film or the semiconductor thin film through the helicon plasma dry etching process.例文帳に追加

基板とゲート電極とゲート絶縁膜とソース及びドレイン電極と半導体薄膜とを含む酸化物薄膜トランジスタの製造方法において、ゲート絶縁膜又は半導体薄膜は、特定エッチングガスを使用するヘリコンプラズマ乾式工程を通じてパターン化されるステップを含んでいる。 - 特許庁

The method for producing the hydrotreating catalyst composition of the hydrocarbon is composed of adding a solution containing an active metal component to a porous inorganic oxide and/or a porous inorganic oxide precursor, kneading and molding them, and irradiating a microwave to moldings obtained by molding to dry.例文帳に追加

多孔性無機酸化物および／または多孔性無機酸化物前駆物質に活性金属成分を含有する溶液を添加して混練、成型して得られた成型物を、マイクロ波を照射して乾燥することを特徴とする炭化水素の水素化処理触媒組成物の製造方法。 - 特許庁

(1) The method for disposal of the optical recording medium utilizes a dry etching means on the occasion of recovering the polycarbonate resin by removing a metal layer and an ultraviolet-curing resin layer from the optical recording medium having these layers on a polycarbonate resin base.例文帳に追加

（１）ポリカーボネート樹脂基板上に金属層及び紫外線硬化樹脂層を有する光記録媒体から、金属層及び紫外線硬化樹脂層を除去して、ポリカーボネート樹脂を回収するに際し、乾式エッチング手段を利用することを特徴とする光記録媒体の処理方法。 - 特許庁

The laminate comprises the polymer substrate in which the cyclized rubber which is the conjugated diene polymer cyclized product or a derivative thereof is blended and the thin film laminated on the surface of the polymer substrate by the dry-film-forming method.例文帳に追加

また本発明は、ポリマー成形材料に共役ジエン重合体環化物またはその誘導体である環化ゴムが配合されたポリマー基材と、前記ポリマー基材の表面に乾式成膜法により積層された薄膜と、を有する積層体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

This method can dry the precursor by introducing the pre-washed precursor with alcohol such as ethanol or methanol and by introducing a supercritical flow into a container with a pressure and a temperature exceeding a critical point of supercritical flow.例文帳に追加

本発明の方法は、エタノールまたはメタノールなどのアルコールであらかじめ洗浄された前駆体を容器に導入し、超臨界流の臨界点を超える圧力および温度で超臨界流を容器に導入することによって前駆体を乾燥することを含むことができる。 - 特許庁

This treatment method utilizes a vertical self-combusting carbonization furnace to carbonize organic wastes, wherein the organic wastes and dusts collected from exhaust gas emitted from the vertical self-combusting carbonization furnace and a dry kiln are mixed in a mixer 22, pelletized in a pelletizer 23 and charged into the vertical self-combusting carbonization furnace.例文帳に追加

縦型自燃式炭化炉を利用して有機系廃棄物を炭化処理する方法であって、有機系廃棄物と縦型自燃式炭化炉、乾燥キルンの排ガスから捕集されたダストとを混合機２２で混合し造粒機２３で造粒して縦型自燃式炭化炉に投入する。 - 特許庁

To provide a method for quantitatively and easily collecting glycine and ammonia which is free from decomposition or coloring reaction, shows high efficiency per dry microbial cell body and unit time and accompanies no large amount of waste, e.g. microbial cell body or culture medium, when glycine is produced from glycinonitrile by means of using a microorganism.例文帳に追加

微生物を用いグリシノニトリルからグリシンを生産するにあたり、分解や着色反応を伴わず、乾燥菌体当たり、且つ単位時間当たり高活性であって菌体や培地の多量廃棄を伴わず、グリシンとアンモニアが定量的に、かつ容易に回収する方法を提供する。 - 特許庁

In the image forming method, an image is formed on the paper by a first image forming device 11 using a liquid developing system, and transparent or semitransparent dry toner is printed in a region containing at least a part of the obtained image by a second image forming device 12 to provide glossiness.例文帳に追加

液体現像システムを使用する第１画像形成装置１１で用紙に画像を形成し、ついで得られた前記画像の少なくとも一部を含む領域に第２画像形成装置１２で透明ないし半透明の乾式トナーを印字して光沢を付与する画像形成方法である。 - 特許庁

To prevent bedsores and substantially reduce a caregiving load by facilitating distribution of a body pressure by sitting up a laying person and moving the person to the right and left by little power, and constantly maintaining surface positions of a human body in dry states which is one prevention method of bedsores.例文帳に追加

寝ている人を省力でもって起き上げさせ、左右に移動させ、体圧を分散させることが容易にでき、しかも床ずれの防止の１つである人体の表面位置を常に乾燥状態に保つことができるため、床ずれを防止できると共に介護負担を大幅に解放することができる。 - 特許庁

The manufacturing method of the waveguide type optical device by which the core layer consisting of a polymer is patterned by dry etching to form the optical waveguide is characterized in that first, second and third etching gases used in respective steps have compositions respectively different from each other.例文帳に追加

ポリマーからなるコア層を、ドライエッチングによってパターニングし光導波路とする導波路型光デバイスの製造方法であって、各工程に用いられる第１、第２、及び第３のエッチングガスが、それぞれ異なる組成であることを特徴とする導波路型光デバイスの製造方法である。 - 特許庁

To provide a surface treatment method by which the adhesiveness of a coating can be improved so that the adhesiveness of a coating to both wet and dry conditions can be satisfied and the same to strong alkali cleaning may be satisfied without necessitating costly equipment and safety measures.例文帳に追加

高価な設備や安全対策を要求することなく、ドライ、ウェット双方の状態に対する塗膜密着性を満足でき、さらには強アルカリ洗浄に対しても満足できるように、塗膜の密着性を向上させることができる表面処理方法を提供する。 - 特許庁

In the method for producing the resin powder formed of an acrylic polymer block copolymer (A) consisting of an acrylic polymer block (a) and a methacrylic polymer block (b), fine powder is removed from a spherical dry powder resin obtained via (1) a beading process, (2) a dehydrating process, (3) a drying process.例文帳に追加

１）ビーズ化工程、２）脱水工程、３）乾燥工程、を経て得られた球状乾燥粉体樹脂から、微粉を除去することを特徴とする、アクリル系重合体ブロック（ａ）とメタアクリル系重合体ブロック（ｂ）からなるアクリル系重合体ブロック共重合体（Ａ）の樹脂粉体の製造方法。 - 特許庁

To provide a natural rubber capable of saving work such as not necessarily requiring a mastication process, also not requiring to perform a viscosity adjustment by using a kneading machine, etc., such as a dry pre-breaker, etc., and without causing unevenness in its mastication quality, and a method for producing the same.例文帳に追加

素練り工程を必ずしも必要としない、またドライプリブレーカー等の混練機等を用いて粘度調整をする必要がない等のタイヤ工場における省力化ができ、練り品質にもバラツキが生じない天然ゴム及び天然ゴムの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material which is improved in scratch resistance during heat development, without affecting photographic performances, and which is provided with satisfactory lubricity without affecting suitability to coating, and to provide an image recording method that uses the same.例文帳に追加

本発明の目的は、写真性能に影響を与えることなく、熱現像時の擦り傷耐性を大幅に改良し、かつ塗布性に影響を与えることなく、十分な滑り性を備えた銀塩光熱写真ドライイメージング材料とそれを用いた画像記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silver salt photothermographic dry imaging material having ultrahigh contrast and excellent in storage stability of the unprocessed photosensitive material and in image preservability after heat development as a material for a scanner or an image setter for printing plate making, and also having small effect on the work environment, and to provide an image forming method for the material.例文帳に追加

印刷製版用のスキャナー、イメージセッター用として、超硬調で且つ未処理感材の保存安定性及び熱現像後の画像保存性に優れ、且つ作業環境負荷が小さい銀塩光熱ドライイメージング材料を提供すること及びその画像形成方法を提供する。 - 特許庁

As a result, position changes of cutting edges 24 and 26 of the single crystal diamond 14 caused by the thermal expansion of the body 12, that is, displacement to an axial direction distal end side is suppressed, to obtain further excellent machining accuracy, even when the highly accurate machining such as mirror finishing is performed by the dry method.例文帳に追加

これにより、乾式で鏡面仕上げ等の高精度加工を行う場合でも、ボデー１２の熱膨張に起因する単結晶ダイヤモンド１４の切れ刃２４、２６の位置変化、すなわち軸方向の先端側への変位が抑制されて、一層優れた加工精度が得られるようになる。 - 特許庁

A hollow cylindrical carbide 9 is charged into a shaft furnace to be used as a fusion heat source and a reductant, in this waste fusion disposal method of the present invention wherein the waste is fed into the shaft furnace type waste fusion furnace 1 to dry, decompose thermally, burn and fusion-treat the waste.例文帳に追加

シャフト炉式廃棄物溶融炉１に廃棄物を装入し、廃棄物を乾燥、熱分解、燃焼、溶融処理する廃棄物溶融処理方法において、中空筒状の炭化物９をシャフト炉炉内に装入して廃棄物の溶融熱源及び還元剤として使用する。 - 特許庁

To provide a hologram recording material capable of achieving all of high sensitivity, high diffraction efficiency, favorable storage property, a low shrinkage rate, dry process and multiple recording characteristics, applicable to a high-density optical recording medium, a three-dimensional display, a holographic optical element or the like, and to provide a hologram recording method.例文帳に追加

高密度光記録媒体、３次元ディスプレイ、ホログラフィック光学素子等への応用可能な高感度かつ高回折効率、良保存性、低収縮率、乾式処理、多重記録特性を両立することができるホログラム記録材料及びホログラム記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for charging a functional additive capable of adding a resin material to a resin material obtained by heating to dry the functional additive easy to be changed in properties and to be discolored at a heating time without cooling and preventing the resin material from being deteriorated due to an increase in a heat history.例文帳に追加

加熱時に変質、変色し易い機能性添加物を加熱乾燥した樹脂材料に樹脂材料を冷却することなく添加することができ、熱履歴の増加による樹脂材料の劣化が防止できる機能性添加物の投入方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, by which when a large number of individual patterns arranged parallel with one another are formed by dry-etching a conductive material joined to an insulating material, the side faces of the patterns are made free of the occurrence of etching defects, such as etching residue (footing) and a wedge-shaped cut (notching).例文帳に追加

絶縁材料上に接合された導電性材料にドライエッチングを施して、多数並列配置された個々のパターンを形成するにあたり、パターンの側面に加工残り（フッティング）や楔状の切れ込み（ノッチング）等のエッチング異常が生じないパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The pattern forming method is carried out by using a pattern forming material having at least a photosensitive layer on a supporting body, and includes steps of laminating the photosensitive layer on a substrate to be processed, exposing and developing the photosensitive layer to form a resist pattern, and shaping the resist pattern by a dry process on the resist pattern.例文帳に追加

支持体上に感光層を少なくとも有するパターン形成材料における該感光層を、被処理基体上に積層し、該感光層を露光し、現像してレジストパターンを形成した後、該レジストパターンに対してドライプロセスによりレジストパターン整形工程が行われるパターン形成方法。 - 特許庁

The filler 36 is then removed until an upper surface of a partition film 21 on the recording element 20A (when the recording element has no partition film 21, an upper surface of the recording element 20A) is exposed by using a dry etching method by which an etching rate of the filler 36 is higher than an etching rate of the first coating material 42.例文帳に追加

次に充填材３６のエッチングレートが第１被覆材４２のエッチングレートよりも高いドライエッチング法により記録要素２０Ａの上の隔膜２１の上面（隔膜２１がない場合は記録要素２０Ａの上面）が露出するまで充填材３６を除去する。 - 特許庁

In the method for patterning, a photo-curable resin 24 is applied on a face of the member 10 to be etched with the hollow 13 on which the dry etching is applied, and a mold 50 having a pattern corresponding to a mask 24a with taper-shaped side face to be formed on the member to be etched is pressed on the photo-curable resin.例文帳に追加

空洞１３を有する被エッチング部材１０のドライエッチングを施す面に光硬化性樹脂２４を付与し、被エッチング部材上に形成すべきテーパー形状の側面を有するマスク２４ａに対応したパターンを有するモールド５０を光硬化性樹脂に押し付ける。 - 特許庁

To provide a method for killing rhizomes, which does not require a weeder of exclusive use and a fuel, easily and economically weeds in a wide area even in a wasteland such as hills and fields, banks and dry riverbeds on which weeds grow thickly, and kills weed rhizomes and exterminates rhizomes in a non-reliving state.例文帳に追加

専用の除草機及び燃料が不要で、野山や堤防や河川敷などの雑草が繁茂した荒れ地でも、たやすく経済的にかつ広範囲に除草でき、しかも、雑草の根茎を死滅させて、復元不可能な状態に根絶できる根茎死滅方法を提供する。 - 特許庁

The hydration is made by blowing off or vaporing water content with the air exhausted from the air outlet without using such a method that a cleaning brush is shaken by a hand, wet clothes are wrung by hands to enable the water content to dehydrate to a nearly dry state more than manual operation.例文帳に追加

掃除ブラシを手で振る、濡れた衣類を手で絞る等の方法ではなく、空気吐出口からの吐出空気で水分を吹き飛ばすもしくは蒸発させることで水分を除去することで、手動の場合よりもより乾燥状態に近い状態にまで水分を除去することが可能となる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin film solar cell, by which the thin film solar cell capable of having a Cd-free buffer layer formed without using a wet process and is extremely low in toxicity can be manufactured inexpensively through an all-dry process of superior productivity, and which is extremely superior in practicality.例文帳に追加

ウェットプロセスを用いることなくＣｄを含まないバッファ層を形成でき、量産性に秀れるオールドライプロセスで極めて毒性の低い薄膜太陽電池をコスト安に製造可能な極めて実用性に秀れた薄膜太陽電池の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a composition for a hologram recording material, a hologram recording material, and a method for recording a hologram, which can realize high sensitivity, high diffraction efficiency, a low shrinkage degree and dry process and which is applicable for a high-density optical recording medium, a three-dimensional display, a holographic optical element or the like.例文帳に追加

高密度光記録媒体、３次元ディスプレイ、ホログラフィック光学素子等への応用可能な高感度かつ高回折効率、低収縮率、乾式処理を両立することができるホログラム記録材料用組成物、ホログラム記録材料及びホログラム記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a hard film capable of corresponding to dry, high speed cutting and high feed cutting by improving adhesion of a hard film onto the tool, improving oxidation resistance and abrasion resistance, further welding resistance and suppressing diffusion of a workpiece element into a hard film in a high temperature state.例文帳に追加

硬質皮膜の密着性を改善し、耐酸化性、耐摩耗性を向上させ、更に高温状態での耐溶着性並びに硬質皮膜中への被削材元素の拡散を抑制し、切削加工の乾式化、高速化、高送り化に対応する硬質皮膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silver halide photosensitive material having a heat- responsive decolorable colored layer comprising a heat-responsive decolorable colored composition which is easily decolored by dry development without causing image defects and giving image information of high image quality which can be read with a scanner and to provide an image forming method.例文帳に追加

乾式現像処理により画像欠陥を生じないで容易に消色する熱応答消色性着色組成物からなる熱応答消色性着色層を有し、スキャナで高画質の画像情報を読み取ることが可能なハロゲン化銀感光材料及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

At evenly scraping the surface of a silicon substrate comprising a horizontal surface and a slope an anisotropic dry-etching method, the etching condition of a reactive ion etching cycle comprising deposition and etching is set to a following condition: E1<D1, D2<E2, and D3<E3.例文帳に追加

水平面及び傾斜面を有するシリコン基板の表面を異方性ドライエッチング法により一様に削り取るに際し、デポジションとエッチングとからなる反応性イオンエッチングのサイクルのエッチング条件を下記で示される条件に設定することを特徴とするシリコンウエハ構造体の製造方法。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing raw-oyster powder comprises milling and emulsifying fresh raw oysters, spray-drying or freeze-drying the obtained emulsion under such a condition that the surface temperature of the dried particles does not exceed 60°C to obtain dry powder having a moisture content of ≤5 wt. %.例文帳に追加

新鮮な生ガキを粉砕乳状化し、得られる乳状化液を乾燥粒子の表面温度が６０℃を超えない条件下に噴霧乾燥するか又は凍結乾燥して、水分含量が５重量％以下の乾燥粉末とすることを特徴とする生ガキ粉末の製造法。 - 特許庁

To provide a method for producing a diene copolymer latex excellent in the polymerization stability, particle size controlling property, coated paper characteristics such as dry pick strength, wet pick strength and printing gloss and stain resistance characteristics of a back roll represented by wetting stickiness.例文帳に追加

重合安定性、粒径コントロール性に優れ、ドライピック強度とウェットピック強度、印刷光沢等の塗工紙物性に優れ、かつ湿潤ベタツキ性に代表される耐バッキングロール汚れ特性にも優れるジエン系共重合ラテックスの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the method for treating wet dust, sludge-shaped wet dust recovered from a wet type dust catcher is subjected to dehydrating treatment so as to be made into a dehydrated cake, the dehydrated cake is cracked, further, dry dust is added thereto so as to be mixed, and the mixture is granulated, thus a dust granulated material to be a sintering raw material is obtained.例文帳に追加

湿ダストの処理方法では、湿式集塵機から回収されたスラッジ状の湿ダストを脱水処理して脱水ケーキ化し、この脱水ケーキを解砕するとともに、乾ダストを加えて混合・造粒することにより、焼結原料となるダスト造粒物を得る。 - 特許庁

To obtain a detoxifier for removing a special gas which is reduced in the adverse effect of water in a dry detoxifier, can reliably removes a special gas in which water coexists, especially, a low-concentration special gas leaked into the air containing much water, and to provide a method for removing the special gas.例文帳に追加

乾式除害剤における水分の影響を抑制し、水分と共存する特殊ガス、特に、水分を多く含む大気中に漏洩した低濃度の特殊ガスも確実に除去処理することができる特殊ガス除去用除害剤及び特殊ガスの除去方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, for suppressing contamination caused by metal in a treatment chamber and damage of quartz members while suppressing a decrease in film forming speed in a thin film forming step immediately after dry cleaning in the treatment chamber, and improving an apparatus operation rate, and to provide a substrate processing apparatus.例文帳に追加

処理室内のドライクリーニング直後の薄膜形成工程における成膜速度の低下を抑制しつつ、処理室内の金属汚染や石英部材の破損を抑制すると共に、装置稼働率を向上させる半導体装置の製造方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The method for producing the high brightness chemical pulp is provided, in which the chemical pulp subjected to a bleaching treatment is irradiated with light of UV light with a wavelength of 100-400 nm and/or visible light in the presence of hydrogen peroxide, wherein 0.1-5 wt.%. of the hydrogen peroxide per bone dry pulp weight is added.例文帳に追加

漂白処理を行った化学パルプを、過酸化水素の存在下で波長100〜400ｎｍの紫外光及び／または可視光による光照射処理し、前記過酸化水素の添加率が絶乾パルプ重量当たり0.1〜5重量％である高白色度化学パルプの製造方法を提供する。 - 特許庁

Mats are formed by treating stock slurry, in which wooden fibers are dispersed, with a paper-making method and then dehydrated so as to apply a zeolite dispersed liquid to the surfaces of the mats and finally dry them, resulting in manufacturing the functional fiber boards 23A and 23B, which have no warpage and to which the zeolite is adhered at high yield.例文帳に追加

木質繊維を分散した原料スラリーを抄造脱水してマットをフォーミングし、該マットをプレスした上でゼオライト分散液を表面に塗布し、その後乾燥することによって反りがなくかつ歩留り良くゼオライトを付着した機能性繊維板２３Ａ，２３Ｂを製造する。 - 特許庁

The method for purifying the primary cooling water is composed by bringing the primary cooling water in the nuclear power plant with the pressurized water reactor into contact with the porous anion exchange resin whose pore volume is 0.05 to 0.50 mL/g of dry resin (Cl type) and also whose average pore radius is 2 to 50 nm (Cl type).例文帳に追加

本発明の一次冷却水の浄化方法は、細孔容積が０．０５〜０．５０ｍＬ／ｇ−乾燥樹脂（Ｃｌ形）、かつ、平均細孔半径が２〜５０ｎｍ（Ｃｌ形）の多孔形陰イオン交換樹脂に、加圧水型原子力発電所の一次冷却水を接触させることよりなる。 - 特許庁

This manufacturing method for an alkaline dry battery 1 contains a process forming a conductive film 9 with a liquid conductive coating material on the inner surface of a battery case 2 to which a positive mix 3 is fit, and the conductive coating material is preheated, applied, then dried.例文帳に追加

正極合剤３が嵌合される電池ケース２の内面に液状導電性塗料により導電性被膜９を形成するアルカリ乾電池１の製造方法であって、予め前記導電性塗料を予備加熱処理して塗布し、乾燥させることを特徴とする。 - 特許庁

In the present manufacturing method, dry etching treatment is performed on a background substrate 1 using inorganic particles 2 disposed on the background substrate 1 as an etching mask, projecting portions 1B corresponding to the shape of the inorganic particles 2 are formed on a surface of the background substrate 1, and coating 3 for epitaxial growth mask is then formed on the background substrate 1.例文帳に追加

下地基板１上に配置された無機粒子２をエッチングマスクとして下地基板１をドライエッチング処理して下地基板１の表面に無機粒子２の形状に対応した凸部１Ｂを形成した後、下地基板１上にエピタキシャル成長マスク用の被膜３を形成する。 - 特許庁

The method of manufacturing the aluminum titanate ceramic is characterized in that a precursor mixture is prepared by mixing a titania source powder and an alumina source powder and dry-grinding the mixed powders with an acceleration of at least 2G in the co-presence of grinding media, and then the thus-prepared precursor mixture is fired.例文帳に追加

本発明の製造方法は、チタニア源粉末およびアルミナ源粉末を混合し、粉砕メディアの共存下に乾式にて加速度２Ｇ以上の粉砕条件で粉砕して前駆体混合物を得、得られた前駆体混合物を焼成することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the steps of conducting dry etching at an upper interlayer insulating film 7 for the stopper film 6 with a resist pattern 11, as a mask under the conditions of higher selective etching selection ratio of 10 or more than prior art, and etching the film 7 to the film 6, thereby forming the wiring groove 12.例文帳に追加

レジストパターン１１をマスクとして、上部層間絶縁膜７が溝用ストッパー膜６に対して、従来よりさらに高選択な、エッチング選択比が１０以上の条件でドライエッチングを行い、上部層間絶縁膜７を溝用ストッパー膜６までエッチングして配線溝１２を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing silicon carbide film which secures a dielectric coefficient of 4 or less, stable film stress even when the film is left in the atmosphere, a small leak current, extremely slow dry etching velocity which is lower than that of the silicon oxide film including carbon, and may be used as an etching stop film of copper wiring.例文帳に追加

誘電率が４以下であり、大気中で放置しても膜応力が変化せず、リーク電流が小さく、かつ炭素含有シリコン酸化膜よりドライエッチ速度が非常に遅い、銅配線のエッチングストップ膜として使用され得るシリコンカーバイド膜を製造する方法を与える。 - 特許庁