「electron-microscope」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a minute object preparing method and device, capable of manufacturing minute objects by coupling together two members in the correct positional relationship such as a nano-tube probe, while enlarging image photographing takes place in an electron microscope device.例文帳に追加

電子顕微鏡装置内で拡大撮像しながら、ナノチューブプローブ等のように、２部材を正しい位置関係で相互に結合して微小物を製造できる微小物作成方法とその装置を開発する。 - 特許庁

To provide a cathode luminescence specimen holder to easily perform cathode luminescence analysis by using an existing transmission electron microscope (TEM) and a spectroscopic analyzer using the cathode luminescence specimen holder.例文帳に追加

既設の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いてカソードルミネッセンス分析を容易に行うことを可能とするカソードルミネッセンス用試料ホルダ、及び該カソードルミネッセンス用試料ホルダを用いた分光分析装置を提供する。 - 特許庁

The texture structure thereof has the texture characteristics that the metal Si and Si compound cannot be observed by X-ray diffraction and the granular texture cannot be observed by a transmission electron microscope(TEM).例文帳に追加

その組織構造は、Ｘ線回折によって金属ＳｉおよびＳｉ化合物が観察されず、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えたものである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin sample for a transmission type electron microscope in which a coat layer is unlikely to be released from a particle surface and there is no damage in the inside of particles and the coat layers, and an observation method of the thin sample.例文帳に追加

粒子表面からコート層が剥がれ難く、粒子内部とコート層に損傷のない透過式の電子顕微鏡用薄片試料の作製方法と薄片試料の観察方法を提供する。 - 特許庁

To realize a method of manufacturing a membrane sample for a scanning transmission electron microscope which is suitable for being used in the inspection of a multilayer structure in a semiconductor device and which is handled easily, and to realize an observation method for the membrane sam ple.例文帳に追加

半導体デバイスの多層構造の検査に用いて好適であり、取り扱いが容易な走査透過電子顕微鏡用薄膜試料作製方法および薄膜試料の観察方法を実現する。 - 特許庁

To eliminate use of deposition, and improve the productivity in a preparation of a sample for a transmission electron microscope, when the thin sample which is processed and prepared by a charged particle beam is fixed to a sample holder.例文帳に追加

透過電子顕微鏡用試料の作製において、荷電粒子ビームによって加工して作製した薄片試料を試料ホルダに固定する際に、デポジションを用いないようにすることにより生産性を向上させる。 - 特許庁

The whole stage is rotated on the second spherical seat, without marring the eucentric conditions of a rotating cylinder and a sample holder, so that the direction of the rotating shaft of the cylinder can be set to pass the center of the visual field of the electron microscope.例文帳に追加

回転シリンダや試料ホルダのユーセントリック条件を崩すことなくステージ全体を第２の球面座で回転させ、シリンダ回転軸方向を電子顕微鏡視野中心に通るように設定できるようになる。 - 特許庁

The method for manufacturing the sample to observe the defect in the silicon crystal by the transmission electron microscope comprises the steps of releasing only a shallow region on the surface of the crystal, and thinning the region to the thin piece samples.例文帳に追加

シリコン結晶中の欠陥を透過型電子顕微鏡で観察するための試料作製方法であって、結晶表面の浅い領域のみを剥離させて薄片化し薄片試料とするようにした。 - 特許庁

When performing alignment, an optical positive image, which is an image of observing the end face different from the observation face of the electron microscope from an oblique direction, is photographed at an observation-target portion arbitrarily selected from among a plurality of the observation target portions.例文帳に追加

アライメントの際には、複数ある観察対象部位から任意に選択した観察対象部位で、電子顕微鏡の観察面とは異なる端面を斜めから観察した光顕画像を撮影する。 - 特許庁

A film comprising Os (osmium) is formed on the surface of the sample before processed into a slice form and this sample having the Os film on its surface is processed into the slice form to prepare the sample for the transmission electron microscope.例文帳に追加

薄片状に加工する前のサンプルにＯｓ（オスミウム）からなる膜をサンプルの表面に形成し、その後に加工して薄片状とすることを特徴とする透過型電子顕微鏡用試料の作製方法。 - 特許庁

In the electron microscope applying a phase retrieval method, an image size decided by a pixel size p of a diffraction image, a camera length L, and a wavelength λ of irradiation beams and a sample irradiation area are set to have a constant relation.例文帳に追加

位相回復法を適用した電子顕微鏡等において、回折像の画素サイズｐ、カメラ長L、照射ビームの波長λにより決まる画像サイズと試料照射領域が一定関係になるようにする。 - 特許庁

To provide a stage system enabling alleviation of vibration or drift at a high level and positioning accuracy, which are required for a sample stage of a scanning electron microscope used in a field of semiconductor manufacturing.例文帳に追加

半導体製造分野で用いられる走査型電子顕微鏡の試料ステージについて要求されるような高いレベルでの振動やドリフトの低減および位置決め精度を可能とするステージ装置の提供。 - 特許庁

To provide an electron microscope with a camera for image observation, capable of rotating an observation image to an optional angle without changing the visual field.例文帳に追加

本発明は像観察用カメラを備える電子顕微鏡に関し、視野を変えることなく観察像を任意の角度に回転させることができる像観察用カメラを備える電子顕微鏡を提供することを目的としている。 - 特許庁

To accurately calculate a coordinate data conversion/correction formula for a short time so as to effectively search particles on a wafer from their data that are measured by a particle counter, by a scanning electron microscope (SEM).例文帳に追加

パーティクルカウンタで測定したウェーハ上の粒子の座標データに対し走査型電子顕微鏡（SEM）で当該粒子の探索を効果的に行うための、座標データ変換・補正式を短時間で精度良く算出する。 - 特許庁

A pair of the electron images E1 having the binocular disparity is photographed in an observation direction C by attaching the assistant's camera 7 to the luminous flux intake port 10 of the microscope main body 6 to be outputted to the stereoviewer S1.例文帳に追加

助手用カメラ７を顕微鏡本体６の光束取入口１０に取付けることにより、観察方向Ｃでの両眼視差を有する一対の電子映像Ｅ１を撮影し、ステレオビュアＳ１に出力できる。 - 特許庁

The magnesium oxide powder has a cubic particle shape when observed by a scanning electron microscope, and has a cumulative 50% particle diameter (D_50) of at least 1.0 μm by a laser diffraction scattering type particle size distribution measurement method.例文帳に追加

走査型電子顕微鏡にて観察した粒子形状が立方体状であり、かつレーザ回折散乱式粒度分布測定による累積５０％粒子径（Ｄ_５０）が１．０μｍ以上である酸化マグネシウム粉末。 - 特許庁

To provide a scanning electron microscope in which a rapid change of an irradiation current can be suppressed against intensity changes of a focusing lens at changing the irradiation current by changing the intensity of the focusing lens.例文帳に追加

集束レンズの強度を変化させて照射電流を変化させるに際して、集束レンズの強度変化に対して、照射電流の急激な変化を抑えることができる走査電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

The sample production device achieves sample production suitable for observation by a scanning electron microscope, by forming a micro irregularity every structure by focused ion beam assistant etching using assist gas for increasing the spatter yield difference for every material.例文帳に追加

材料毎のスパッタイールド差を大きくするアシストガスを利用した集束イオンビームアシストエッチングにより、構造毎の微小凹凸を形成することで、走査電子顕微鏡観察に適した試料作製を実現する。 - 特許庁

Since the camera 4 is moved in conjunction with the movement of a sample 8 by composing the electron microscope like that, the sample 8 is prevented from deviating from the visual field of the camera 4 or being interrupted by various types of apparatuses 6 installed around it.例文帳に追加

このように構成することで、試料８の移動に連動してカメラ４も移動するので、試料８がカメラ４の視野から外れたり、周辺に設置された各種機器６で遮られたりすることがなくなる。 - 特許庁

A probe, means for replacing the inside of a sample chamber with prescribed gas and means for turning into images by ion current detection or absorbed current detection are incorporated to realize a safe SEM (scanning electron microscope) whose risk of electrical discharge is low.例文帳に追加

探針と、試料室内を所定のガスで置換する手段と、イオン電流検出や吸収電流検出による画像化手段を備えることにより、放電の危険性の低い安全なＳＥＭを実現する。 - 特許庁

The scanning electron microscope scans electron beams on a test piece two-dimensionally and produces two dimensional image data 40 based on secondary electrons emitted from the test piece and composes scales 41a, 41b for expressing a prescribed length (1 μm) on the image data along two vertical and horizontal directions mutually perpendicular.例文帳に追加

本発明の走査型電子顕微鏡は、電子ビームを試料上に２次元状に走査し、試料から発せられる２次電子に基づいて２次元的な画像データ４０を生成するとともに、画像データ４０に、互いに垂直な縦横の２方向に沿って、所定の長さ（１μｍ）を表すスケール４１ａ，４１ｂを合成する。 - 特許庁

In the scanning electron microscope in which the inside of an inner pipe for passing an electron beam is set up to be vacuum and a low vacuum observation is possible with an objective restriction arranged between the inner pipe and a specimen chamber, a two-stage objective restriction unit having another second objective restriction between the objective restriction and the specimen is arranged at an end of the inner pipe.例文帳に追加

本発明は、電子ビームが通過するインナーパイプ内部を真空とし、試料室との間に設けた対物絞りにより低真空観察が可能な走査電子顕微鏡において、対物絞りと試料との間にさらに第二の対物絞りを設けた２段対物絞りユニットをインナーパイプの端に設ける。 - 特許庁

When a multi-axial stage 40 of a scanning electron microscope 10 is rotated horizontally, inclined or moved horizontally, an operation of rotating, inclining or horizontally moving an image for specification is performed by means of a mouse 62 while creating an image for specification from an SEM image obtained from a signal of a secondary electron detector 20 and displaying the image on an image display unit 61.例文帳に追加

走査電子顕微鏡１０の多軸ステージ４０を水平回転、傾斜、水平移動させるに際して、二次電子検出器２０の信号から得られるＳＥＭ像から指定用画像を作成して画像表示装置６１に表示しつつ、マウス６２で指定用画像を回転、傾斜、水平移動させる操作を行う。 - 特許庁

This method is to adjust the multi-pole lenses of the electron spectrometer having a plurality of the multi-pole lenses attached to a transmission electron microscope, and optimum conditions are found by simulation using a parameter design method using the exciting currents of the multi-pole lenses as parameters in this lens adjusting method.例文帳に追加

透過型電子顕微鏡に付随している複数個の多重極子レンズを有する電子分光器の多重極子レンズを調整する方法であって、多重極子レンズの励磁電流をパラメータとしたパラメータ設計手法を用いたシミュレーションにより最適条件を求めるレンズ調整方法を提供する。 - 特許庁

The electron microscope introducing a sample through a spare exhaust room for carrying out measurement and observation by electron beams is to be provided with an exchange room for an electrostatic chuck different from the spare exhaust chamber, and a vacuum pump for vacuum pumping the exchange chamber.例文帳に追加

上記課題を解決するために、電子ビームによる測定，観察を行うために予備排気室を経由して、試料を導入する電子顕微鏡において、前記予備排気室とは異なる静電チャックの交換室と、当該交換室を真空排気するための真空ポンプを備えた電子顕微鏡を提案する。 - 特許庁

An electron microscope is provided with axial-symmetry lenses (10, 11) arranged between two multipoles (8, 9), a rotating compensation lens (12) giving rotating action to electrons in a surface perpendicular to the optical axis is arranged in a collecting light surface of an electron orbit to be made between the axial-symmetry lenses.例文帳に追加

２つの多極子（８，９）間に２つの軸対称レンズ（１０，１１）を配置した電子顕微鏡の球面収差補正装置において、軸対称レンズ間にできる電子軌道の集光面内に、光軸と垂直な面内で電子に回転作用を与える回転補正レンズ（１２）を配置したものである。 - 特許庁

In Fig.2, the fact that the structure of chrysotile is changed from acicular ones to grains may be confirmed from the crystal structure determined by X-ray diffraction and measurement results of a surface structure determined by an electron microscope by irradiating a sulfuric aqueous solution in which the chrysotile is immersed with electron beams with an incidence energy of 0.8 MeV.例文帳に追加

図２では、白石綿を浸漬した硫酸水溶液中に、入射エネルギー０．８ＭｅＶの電子線を照射することで、白石綿の構造が針状から粒状に変化することが、Ｘ線回折による結晶構造ならびに電子顕微鏡による表面構造の測定結果から確認できる。 - 特許庁

With the spherical aberration correction device of the electron microscope with two axial symmetry lenses (10, 11) between two multipole elements (8, 9), a rotation correction lens (12) giving electrons rotation action within the plane vertical to the light axis is arranged in a converging face of an electron orbit generated between the axial symmetry lenses.例文帳に追加

２つの多極子（８，９）間に２つの軸対称レンズ（１０，１１）を配置した電子顕微鏡の球面収差補正装置において、軸対称レンズ間にできる電子軌道の集光面内に、光軸と垂直な面内で電子に回転作用を与える回転補正レンズ（１２）を配置したものである。 - 特許庁

This is an electrostatic charge measuring method and a focus adjustment method, or a scanning electron microscope to measure the charge amount or to control an impressing voltage on the test piece by moving the scanning place of the electron beams on the test piece, and changing the impressing voltage on an energy filter.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明の一態様によれば、試料上の電子ビームの走査個所を移動しつつ、エネルギーフィルタへの印加電圧を変化させることで、帯電量を測定、或いは試料への印加電圧を制御する帯電測定方法、焦点調整方法、或いは走査電子顕微鏡を提案する。 - 特許庁

This is a scanning electron microscope apparatus which irradiates a sample 10 with an electron beam 20 and detects secondary electrons discharged from the sample 10 caused by the irradiation and is equipped with a scan generators 32 and 36 for detecting the secondary electrons at a frequency according to a magnification for observing the object 10.例文帳に追加

試料１０へ電子線２０を照射し、該照射に起因して試料１０から放出される２次電子を検出する走査型電子顕微鏡装置であって、試料１０を観察する倍率に応じた頻度で２次電子を検出するためのスキャン・ジェネレータ３２，３６を備えた走査型電子顕微鏡装置を提供する。 - 特許庁

The sample holder 10 for an electron microscope loaded with a measuring target has a housing 16 having openings 28 and 28' permitting the electron beam applied to the measuring target and the detection means provided in the housing 16 to measure the position and flight time of the element dissociated from the measuring target.例文帳に追加

被測定体を搭載する電子顕微鏡用の試料ホルダ１０において、前記被測定体に照射される電子線が通過可能な開口２８、２８’を有する筐体１６と、前記筐体１６の内部に設けられ、前記被測定体から離脱した元素の位置および飛行時間を測定する検出手段とを有する。 - 特許庁

When transferring a mask pattern to a photoresist film applied on a wafer principal surface, after transferring on an off-condition of under dose or defocus or both, a defective inspection is carried out through a process which inspects a transferred pattern to the photoresist film with a scanning electron microscope (SEM) for a voltage potential controlling type visual inspection.例文帳に追加

ウエハ主面上に塗布されたフォトレジスト膜にマスクパターンを転写する際、アンダードーズあるいはデフォーカスまたはその両方の、オフコンディション条件で転写をした後、フォトレジスト膜に転写されたパターンを電位制御型外観検査用走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）で検査する工程を経て欠陥検査する。 - 特許庁

To achieve an electron microscope or an X-ray analysis apparatus, and a sample analysis method for precisely and speedily performing an element analysis with high precision by X rays being generated from a sample by applying electron rays being a foreign object element inspection required for improving a manufacturing yield in a semiconductor element or the like.例文帳に追加

半導体素子等の製造歩留まり向上のために必要な異物元素検査である電子線を照射して試料から発生するＸ線による元素分析を、高精度、高分解能、高速に実施できる電子顕微鏡またはＸ線分析装置及び試料の分析方法を実現することを目的とする。 - 特許庁

For disposing the nano-tube in a desired place, the precise disposition control using an electron microscope is conducted with the same focal depth used on the stage, in which a base board installing table having an angle is installed and the nano-tube is moved in the horizontal direction, and therefore, the situation of the movement can be observed through the microscope owing to the same focal depth.例文帳に追加

任意の場所へナノチューブを配置するには、電子顕微鏡を利用し、ステージ上に同一焦点深度を利用した精密配置制御を行うために、角度をつけた基板設置台を設け、ナノチューブは、水平方向に移動させるので、同一焦点深度であるため、移動の状況は、該顕微鏡により観察することができる。 - 特許庁

Further, the observation method for observing the cross section of the semiconductor device includes a process for observing the cross section of the specific place of the semiconductor device by a scanning microscope and a process for forming the protective film of an amorphous structure to the cross section and further observing the cross section by the transmission type electron microscope through the protective film.例文帳に追加

また、半導体デバイスの断面を観察する観察方法において、前記半導体デバイスの特定箇所の断面を走査型顕微鏡で観察する工程と；前記断面に非晶質構造の保護膜を形成し、当該保護膜を透して透過型電子顕微鏡によって前記断面を更に観察する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an electron microscope usable not only as one which has a WDX with a big constraint of its installation position but as one which can mount a large-sized testpiece and has a large shifting and observation range of a testpiece size.例文帳に追加

取付位置の制約の大きいＷＤＸを備える電子顕微鏡としても、搭載できる試料のサイズや試料の移動範囲および観察範囲の大きい電子顕微鏡としても利用できる電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

To prevent a charged particle beam from deviating from its optical axis, irrespective of the direction (parallel or perpendicular to the optical axis) of a magnetic field applied to a sample, in an apparatus using a charged- particle-beam optical system which includes electron microscope.例文帳に追加

電子顕微鏡を含む荷電粒子線光学系を用いた装置において、試料に印加する磁場の方向（光軸と平行、もしくは、垂直）に係らず、荷電粒子線の光軸からのずれが生じないようにすること。 - 特許庁

The objective aqueous dispersion contains polymer particles having a DL/Dn ratio of 1.05-5.0 wherein DL is average particle diameter measured by dynamic light-scattering and Dn is number-average particle diameter determined by a transmission electron microscope.例文帳に追加

動的光散乱式測定装置によって測定した平均粒子径Ｄ_Lと、透過型電子顕微鏡によって測定した数平均子粒径Ｄ_nとの比（Ｄ_L／Ｄ_n）が１．０５〜５．０である重合体粒子を含む水系分散体を得る。 - 特許庁

To provide a sample holder of an electron microscope doing away with pretreatment of a sample for having it electrically conducted, and enabling electricity conduction to the sample and image observation during measurement of electric resistance only by thrusting it down on a sample pedestal.例文帳に追加

試料に電気的導通を取るための試料前処理が不要で、試料台に試料を押止するだけで試料への通電及び電気抵抗測定中の像観察を可能とする電子顕微鏡用試料ホルダの提供。 - 特許庁

To provide an objective lens for an electron microscope system requiring a relatively small space, and for minimizing a magnetic field outside the objective lens, and to provide an improved inspection system used for simultaneously executing image formation and operation of an inspection object.例文帳に追加

必要とされる空間がより少なく、対物レンズ外部の磁界が最小限である電子顕微鏡システムのための対物レンズ、被検物体の像形成および操作を同時に行うための改良検査システムを提供する。 - 特許庁

To provide a scanning electron microscope capable of attaining both photographing and preservation of a moving image and a still image and especially attaining photographing and preservation of the moving image and photographing of the still image with high image quality.例文帳に追加

本発明の目的は、動画の撮影・保存と静止画撮影・保存がいずれも可能な走査電子顕微鏡、特に動画の撮像・保存と、高画質な静止画像が撮影できる走査電子顕微鏡を提供することにある。 - 特許庁

To provide an objective lens for an electron microscope system requiring a smaller space and having a minimum magnetic field outside the objective lens, and to provide an improved inspection system for performing image formation for a subject and manipulation of the subject simultaneously.例文帳に追加

必要とされる空間がより少なく、対物レンズ外部の磁界が最小限である電子顕微鏡システムのための対物レンズ、被検物体の像形成および操作を同時に行うための改良検査システムを提供する。 - 特許庁

The transmission electron microscope having a sample arranged in a sample surface 9b includes an objective lens 11b, a first projection lens system 61b having a plurality of lenses, a second projection lens system 63b having a plurality of lenses, and the analysis system.例文帳に追加

試料面内９ｂに試料を配置した透過電子顕微鏡は、対物レンズ１１ｂ、複数のレンズを有する第１投影レンズ系６１ｂ、複数のレンズを有する第２投影レンズ系６３ｂ、および分析系を備える。 - 特許庁

To provide an electron microscope which can perform real-time observation by correcting deterioration of images which is brought about when charged particle beams are scanned with a speed exceeding the upper limit of a band width of a secondary signal detector and its amplifying circuit.例文帳に追加

二次信号検出器およびその増幅回路の帯域幅の上限を超える速さで荷電粒子線を走査した場合に発生する画像の劣化を補正し、リアルタイム観察が可能な電子顕微鏡を実現する。 - 特許庁

The microscope includes a means for changing an aperture angle of an optical system by varying diameters of a plurality of convergence lenses and diaphragms to change the aperture angle α of an electron beam in accordance with a virtual field corresponding to a single pixel, which is called as a pixel size.例文帳に追加

複数の収束レンズ及び絞りの穴径を変化させることにより光学系の開き角を変化させる手段をもち、１画素に相当する視野範囲、いわゆる画素サイズに応じて電子ビーム開き角αを変化させる。 - 特許庁