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interlayer connectionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 458



例文

A connection wiring 25 for connecting an upper electrode 23 of the capacitor C to the layer 12 is formed by a first layer metal on an interlayer film 24 coating the capacitor C, and a shunt wiring 26 for short circuiting the word line is formed.例文帳に追加

強誘電体キャパシタCを覆う層間絶縁膜24上に、第1層メタルにより、強誘電体キャパシタCの上部電極23とトランジスタ拡散層12の間を接続する接続配線25が形成され、またワード線を短絡するためのシャント配線26が形成される。 - 特許庁

The pixel electrodes are electrically connected to the first conductive layer through a connection part (9a') formed in a contact hole (33) opened in the interlayer insulating film in an area including a vertex that the diagonal line along the pretilt direction passes through among the vertexes of the pixel electrodes.例文帳に追加

画素電極は、画素電極の頂点のうちプレチルト方向に沿った対角線が通る頂点を含む領域において、層間絶縁膜に開孔されたコンタクトホール(33)に形成された接続部(9a´)を介して、第1導電層に電気的に接続されている。 - 特許庁

To provide a multilayer printed wiring board having a resin interlayer dielectric layer excellent in reliability of connection of conductor circuits with each other, because dielectric constant and dielectric loss tangent are small, a signal delay and a signal error scarcely occur even if high frequency signals are used, and mechanical characteristics are excellent.例文帳に追加

誘電率や誘電正接が小さく、高周波信号を用いた場合にも、信号遅延や信号エラーが発生しにくく、また、機械的特性にも優れるために導体回路同士の接続の信頼性が高い層間樹脂絶縁層を有する多層プリント配線板を提供すること。 - 特許庁

The package structure of the semiconductor device comprises a semiconductor chip 1 having a semiconductor element and an electrode pad 2, and a protection layer 3 having a wiring 5 structuring an electric circuit on one surface and a plurality of interlayer connection bodies 4 penetrated from the specific position to the other surface.例文帳に追加

半導体素子及び電極パッド2を有する半導体チップ1と、一方の面に電気回路を構成する配線5を有してその所定の位置から他方の面に貫通する複数の層間接続体4を有する保護層3からなる半導体装置のパッケージ構造。 - 特許庁

例文

To provide a multilayer printed wiring board having a resin interlayer dielectric layer excellent in reliability of connection of conductor circuits with each other, because dielectric constant and dielectric loss tangent are small, a signal delay and a signal error scarcely occur, and mechanical characteristics are excellent.例文帳に追加

誘電率や誘電正接が小さく、高周波信号を用いた場合にも、信号遅延や信号エラーが発生しにくく、また、機械的特性にも優れるために導体回路同士の接続の信頼性が高い層間樹脂絶縁層を有する多層プリント配線板を提供すること。 - 特許庁


例文

To provide a method of manufacturing a semiconductor chip laminated body extremely easily providing a semiconductor chip with an interlayer adhesive adhering thereto, and manufacturing a high lamination type semiconductor chip laminated body high in connection reliability even by semiconductor chips each having a projecting electrode.例文帳に追加

極めて簡便に層間接着剤が付着した半導体チップを得ることができ、凸状電極を有する半導体チップであっても接続信頼性の高い高積層型の半導体チップ積層体を製造することができる半導体チップ積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electronic component built-in substrate, along with a manufacturing method thereof and an inspection method therefor, capable of readily and accurately inspecting an interlayer connection of a multilayer printed wiring board, regardless of the kind of removing method of insulating layer, without having to carry out cross-section analysis of a finished product of the multilayer printed wiring board.例文帳に追加

多層プリント配線基板の完成品の断面解析を行わず、絶縁層の除去方法の種類を問わずに、多層プリント配線基板の層間接続を簡便且つ精確に検査可能な電子部品内蔵基板、その製造方法、及びその検査方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, a third interlayer insulating film 212 is formed, then a capacitor linking connection hole 213 is formed by taking advantage of a part of the third insulating film on the capacitor and a part of the third and second insulating film on the pad, and a buried local interconnection wire 214 is formed of a second conductive layer.例文帳に追加

さらに第3層間絶縁212を形成後、キャパシタ上の第3絶縁膜の一部とパッド上の第3、第2絶縁膜の一部をして、キャパシタ連結用接続孔213を形成し、それを第2伝導層で埋込み局所的相互接続線214を形成する。 - 特許庁

The through-hole 21 for interlayer connection bored in a sheet 16 where the beltlike coil conductor pattern 14 is formed is such that the area of one opening 21a is larger than the area of the other opening 21b and the axis slant to the other end side of the beltlike coil conductor pattern 14.例文帳に追加

帯状コイル導体パターン14が形成されているシート16に設けた層間接続用貫通孔21は、一方開口部21aの面積が他方開口部21bの面積より大きく、かつ、軸心が帯状コイル導体パターン14の他端側に傾いている。 - 特許庁

例文

An opening 71 of a solder resist layer 70 is formed such that the opening 71 overlaps a peripheral portion of a solder pad 75 by 5 μm and overlapping thickness thereof is 20 μm; and therefore, the solder pad 75 does not come off from an interlayer insulating layer 150 and the connection reliability is improved.例文帳に追加

ソルダーレジスト層70の開口71を、半田パッド75の周辺部に5μm重なり、且つ、重なりの厚みを20μmになるように形成してあるため、半田パッド75が層間樹脂絶縁層150から剥離することがなくなり、接続信頼性が向上する。 - 特許庁

例文

The display device is formed by dividing any of the wiring at the crossing parts of electrode lines such as scanning lines and signal lines, and power source lines and other wiring, and also connection lines for connecting the divided wiring via a gate insulating layer or an interlayer dielectric and the other kinds of insulating layers are formed.例文帳に追加

走査線や信号線等の電極線と電源線他の配線との交差部において何れかの配線を分断して形成すると共に、ゲート絶縁層または層間絶縁層と他の種類の絶縁層とを介して分断された配線を接続する接続線を形成する。 - 特許庁

The inner peripheral surfaces of a wiring groove 12 and a connection hole 13, which are formed in interlayer insulating films 8 and 11 are covered with oxidation preventing films, such as SiN films 14 and 19, and thereafter, a Cu film is buried in the groove 12 and the hole 13 to form a Cu dual-damascene wiring.例文帳に追加

層間絶縁膜8、11に形成される配線溝12および接続孔13の内周面を酸化防止膜、例えばSiN膜14、9により覆った後、配線溝12および接続孔13にCuを埋め込んでCuデュアルダマシン配線を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a printed circuit board, which is effective in thinning of line and high precision of a circuit pattern in a build-up printed wiring board capable of high density wiring and high density mounting, by preventing thickening of etching margin of the circuit pattern caused by copper plating used in interlayer connection.例文帳に追加

高密度配線および高密度実装が可能なビルドアッププリント配線板において、層間接続のための銅めっきにより配線パターンのエッチング代が厚くなるのを阻止し、細線化と配線パターンの高精度化にも有効なプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a single-sided printed wiring board which is excellent in interlayer connection reliability and suitable for efficiently manufacturing a high-density multilayer printed wiring board of IVH structure in high yield, and a manufacturing method thereof for solving troubles attendant on the formation of a viahole by laser processing.例文帳に追加

レーザ加工によるビアホール形成に伴う問題点を解消し、IVH構造の高密度多層プリント配線板を高い歩留りで効率よく製造するのに好適な層間接続信頼性に優れた片面プリント配線板およびその製造方法を提案すること。 - 特許庁

An interlayer connection portion 23 is preferably formed to be connected between, for example, a first conductive portion 21a formed on a first insulating portion 11a and a first conductive portion 21b formed on a different first insulating portion 11b disposed superposingly with the first insulating portion 11a.例文帳に追加

層間接続部23は、例えば、第一絶縁部11aに形成された第一導電部21aと、第一絶縁部11aに重ねて配された別な第一絶縁部11bに形成された第一導電部21bとの間を接続するように形成されていればよい。 - 特許庁

The multilayer printed wiring board 10 having such structure as disclosed above results in forming a plurality of function elements such as a resistor and the like between a plurality of first laminated insulating portions 11 by forming the interlayer connection portion 23 between the first insulating portions 11a and the first insulating portions 11b.例文帳に追加

このような構成の多層プリント配線板10によれば、第一絶縁部11aと第一絶縁部11bとの間に層間接続部23を形成することで、積層された複数の第一絶縁部11の間に、抵抗体などの機能素子を形成することができる。 - 特許庁

To provide a method for mounting a semiconductor element on a wiring substrate through a protrusion electrode for an external connection not containing lead (Pb), and for mitigating stress acting on a wiring layer laminated through an interlayer insulating film composed of a Low-K material in the semiconductor element from the wiring substrate during such mounting, thereby an occurrence of an interlayer detachment may be suppressed.例文帳に追加

鉛(Pb)を含有しない外部接続用突起電極を介して半導体素子を配線基板に実装する方法であって、当該実装の際に、配線基板から、当該半導体素子に於けるLow−K材料から構成される層間絶縁膜を介して積層されている配線層に作用する応力を緩和して、層間剥離の発生を抑制することができる半導体素子の実装方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To secure connection reliability between a lower-layer conductor circuit and an upper-layer conductor circuit as a whole in a multilayered wiring board, even when connection defects occur in some of a plurality of via holes by collectively forming the via holes at formation of via holes through the interlayer insulating layer, on which the upper-layer conductor circuit is formed by a semi-aditive method.例文帳に追加

セミアディティブ法により上層導体回路が形成された層間絶縁層にバイアホールを形成するに際して複数のバイアホールを集合して形成することにより、複数のバイアホールの内いくつかに接続不良が発生した場合においても、配線板全体として下層導体回路と上層導体回路との接続信頼性を確実に保持することが可能な多層プリント配線板を提供する。 - 特許庁

The protection layers 3 are laminated on the semiconductor chip 1 to cover an electrode pad 2, a top of the interlayer connection body 4 is connected to the electrode pad 2, and the wiring 5 is arranged on a surface opposite to a surface covering the electrode pad 2 of the protection layer 3.例文帳に追加

保護層3は、半導体チップ1に積層されて電極パッド2を覆うとともに、層間接続体4は、その先端が電極パッド2と接続され、且つ配線5は、保護層3の電極パッド2を覆う面とは反対側の面に配設されてなることを特徴とする半導体装置のパッケージ構造。 - 特許庁

An insulation member 40a composed of a hydrophilic material is formed in a region Z1 on the pixel electrode 34 and corresponding to a position where a metal frame 21GF for a gate electrode and an electrode 21C for gate connection are superposedly disposed and formed via a interlayer insulation film 32, and to an outer periphery part thereof, respectively.例文帳に追加

画素電極34上であってゲート電極用メタルフレーム21GFとゲート接続用電極21Cとが層間絶縁膜32を介して互いに重なって配置形成される位置及びその外周縁部にそれぞれ対応する領域Z1に親水性材料で構成された絶縁部材40aを形成した。 - 特許庁

On a polysilicon wiring 2 formed in ladder-like manner by a gate connection wiring part 245 for electrically connecting a plurality of gate electrode parts 21 to their both ends, respectively, there is formed a gate signal wiring 25 made of aluminum which extends in the direction in which the plurality of gate electrode parts 21 are arranged in parallel via an interlayer dielectric.例文帳に追加

複数のゲート電極部21およびそれらの両端部をそれぞれ電気的に接続するゲート接続配線部24によりはしご状に形成されたポリシリコン配線2上に、層間絶縁膜を介して、複数のゲート電極部21が並ぶ方向に延びるアルミニウム製のゲート信号配線25を形成する。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring board in which in an electric connection in an interlayer between respective wiring layers of the multilayer wiring board, a wiring pitch for ensuring a via forming part is not widened and a wiring length or a wiring width is not increased, thereby not increasing a production size also, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

多層配線基板の各配線層の層間での電気的接続において、ビア形成部を確保するために配線ピッチを広げたり、配線長さや配線幅を増加させることがなく、かつこれにより、製品サイズも増加させることのない、多層配線基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the printed circuit board includes: laminating a buildup layer 120 on a base substrate 110 including a circuit layer 115 connected with a first via 114 penetrating an insulating layer; processing a viahole 160 penetrating the buildup layer 120 including at least a part of the first via 114; and forming an interlayer connection member 162 in the viahole 160.例文帳に追加

絶縁層に貫設された第1ビア114と連結された回路層115が形成されたベース基板110にビルドアップ層120を積層し、第1ビア114の少なくとも一部を含むビルドアップ層120を貫くビアホール160を加工し、ビアホール160に層間連結部材162を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a module having a built-in component which can sufficiently expose a terminal electrode of a surface mounting component in an insulating resin layer without damaging the electrode without largely depending on the irradiation amount of a laser beam, and can unfailingly connect an interlayer connection conductor to the terminal electrode of the surface mounting component.例文帳に追加

レーザー光の照射量に大きく依存することなく、表面実装型部品の端子電極を傷つけることなく絶縁樹脂層において十分に露出させて、層間接続導体と表面実装型部品の端子電極を確実に接続することができる部品内蔵モジュールの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which an inexpensive and highly reliable high integrated circuit can be formed by suppressing an excessive facility investment, keeping a high productivity and forming physically and electrically appropriate connection in an interlayer wiring with a multilayer wiring structure using a wiring material made mainly of Cu.例文帳に追加

余剰な設備投資を抑制し、かつ高い生産性を保持して、Cuを主成分とする配線材を用いた多層配線構造の配線層間において、物理的、電気的に良好な接続を形成することによって、安価で信頼性の高い高集積回路となる半導体装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

An opening is provided to a part of the light blocking film 12 deposited on the circuit element to serve as a cross wiring section 16, a cross electrode 18 is formed of a wiring layer at the same level with the light blocking film 12, and a cross wiring consisting of first electrode wirings 17a and 17c and an electrode wiring 17b can be realized by an interlayer connection.例文帳に追加

回路素子部15の遮光膜12の一部を開口して交差配線部16とし、遮光膜12と同じレベルの配線層で交差電極18を形成し、層間接続により第1層目の電極配線17a、17cと電極配線17bとのクロス配線を実現する。 - 特許庁

A MIM capacitor 11 (constituted of a lower electrode film 8a, a capacitor insulating film 9a, and an upper electrode film 10a) formed on a lower interlayer insulating film 3, can dispense with connection holes for the upper electrode, by being formed with a height same as that of a plug 14a connecting between a lower layer wiring 6 and an upper wiring 14c.例文帳に追加

下層層間絶縁膜3上に形成されたMIM型キャパシタ11(下部電極膜8a、キャパシタ絶縁膜9a、上部電極膜10aからなる)は、下層配線6と上層配線14cを接続するプラグ14aと同じ高さに形成することにより、上部電極用接続孔を必要としない。 - 特許庁

A loop part of a shielded-loop antenna is constituted by a conductive pattern and an interlayer connection part in such a manner that a loop surface of the loop part of the shielded-loop antenna is parallel to the thickness direction and the conductive pattern with a gap is parallel to a surface of the multilayer substrate that faces an object to be measured and is perpendicular to the thickness direction.例文帳に追加

そして、シールデッドループアンテナのループ部分がなすループ面が厚み方向に平行となり、測定対象に対向させる多層基板の厚み方向に垂直な表面に対してギャップを有する導体パターンが平行となるように、ループ部分が導体パターン及び層間接続部により構成されている。 - 特許庁

In the mounting of the semiconductor chip and the interlayer connection of the multilayer interconnection substrate, the hardenable flux included with a resin (A) provided with a phenolic hydroxy group being of solid state in the room temperature, one or more kinds of resins (B) being a hardener and at least one kind thereof is of liquid state in the room temperature, and a thermoplastic resin (C), is used.例文帳に追加

半導体チップの搭載時及び多層配線板の層間接続において、フェノール性ヒドロキシル基を有する室温で固形の樹脂(A)、該樹脂の硬化剤であり、少なくとも一種は室温で液状である一種以上の樹脂(B)及び熱可塑性樹脂(C)を含有する硬化性フラックスを用いる。 - 特許庁

The surface propagating speed in the electric rotating machine and the voltage increasing rate at the connection between a cable and the machine are measured by using a surge power source and the voltage born by interlayer insulation is determined based on the measured surge propagation speed and voltage increasing rate and the duration of wavefront of a specimen inverter.例文帳に追加

サージ電源を用いて回転電機内サージ伝播速度およびケーブル−回転電機接続部の電圧増加率を計測し、計測したサージ伝播速度、電圧増加率と供試インバータの波頭長に基づいて、層間絶縁分担電圧を求め、回転電機の部分放電特性、課電寿命特性と比較する。 - 特許庁

In this method of manufacturing a printed wiring board, after holes for interlayer connection are formed in a prepreg, and the holes are filled with an electrically conductive paste, a metal foil or a core material on which a circuit has been formed is arranged on a surface or on both surfaces of the prepreg, and a heating-and-compressing process is conducted to form a laminated wiring board.例文帳に追加

プリプレグに層間接続用の孔加工を施し、この孔に導電性ペーストを充填した後、プリプレグの一面又は両面に金属箔又は回路形成を施したコア材のいずれかを配置し、加熱加圧成形することにより積層一体化する配線板の製造方法に関する。 - 特許庁

The adhesive paste component for printed wiring board interlayer connection contains at least one resin chosen from melamine resin, phenol resin, or an epoxy resin, dihydric alcohol and/or trihydric alcohol with boiling point of not less than 180°C, and conductive powder.例文帳に追加

少なくともメラミン樹脂、フェノール樹脂及びエポキシ樹脂のいずれか一つから選ばれる樹脂と導電粉末及び180℃以上の沸点である2価アルコール及び/又は3価アルコールを含むことを特徴とするプリント配線板層間接続用導電性ペースト組成物を用いることにより、前記課題を解決できる。 - 特許庁

To provide a multilayer printed circuit board, capable of preventing occurrences of cracks or the like in the board or an interlayer resin insulating layer, when an optical waveguide to be incorporated in the multilayer printed circuit board, or particularly, when an optical path conversion mirror is formed by using mechanical processing or the like and having superior connection reliability of light signals.例文帳に追加

多層プリント配線板に内蔵される光導波路を形成する際、特に、機械加工等を用いて光路変換ミラーを形成する際に、基板や層間樹脂絶縁層にクラック等が発生することを防止することができ、また、光信号の接続信頼性に優れた多層プリント配線板を提供すること。 - 特許庁

In this semiconductor device, a pad section serving as an electrode for an external connection comprises: a first pad metal layer 61 formed in a top layer; a second pad metal layer 62 formed under the first pad metal layer 61 at both sides of an interlayer insulating film 71; and vias 63 which penetrate the interlayer insulating film 71 and electrically connect the first and second pad metal layers 61, 62.例文帳に追加

本発明の半導体装置では、外部接続用電極であるパッド部が、最上層に形成された第1のパッドメタル層61と、第1のパッドメタル層61の下に層間絶縁膜71を挟んで形成された第2のパッドメタル層62と、層間絶縁膜71を貫通して第1のパッドメタル層61と第2のパッドメタル層62を電気的に接続するビア63とからなり、第1のパッドメタル層61の端部と第2のパッドメタル層62の端部とが各層の厚み方向に沿って一致しないように互いにずれて配置される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed wiring board which can deposit or fill plating stably and evenly in a pierced hole or an unpierced hole to form a via hole for interlayer connection and keep the thickness of metal foil or a wiring circuit constant to make easy to form a minute wiring circuit and to perform impedance matching.例文帳に追加

層間接続用のビアホールを形成する際のめっきを、貫通孔、又は非貫通孔内に安定して(均一に)析出(或いは充填)することができ、且つ、金属箔(又は、配線回路)の厚みを一定に保ち、微細配線回路形成、及びインピーダンス整合を容易に行うことができるプリント配線板の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for improving connection reliability between a multichip module and a mounting board which is connected to a secondary side of a multilayer wiring substrate of the multichip module, wherein the multichip module is formed by mounting semiconductor devices on a primary side of the multilayer wiring substrate which is formed by laminating wiring layers on both sides (primary and secondary sides) of an insulating substrate together with interlayer insulating films, respectively.例文帳に追加

絶縁基板とその両面(1次側並びに2次側)に層間絶縁膜を含めて夫々形成された配線層からなる配線基板、及び配線基板の1次側の面に搭載された半導体装置を備えたマルチチップモジュールと、配線基板の2次側に接続される実装基板との接続信頼性を高める手段を提供する。 - 特許庁

In laser hole boring work of a conducting hole for interlayer connection in a build-up type multilayer printed wiring board, a working confirmation mark is provided to the end of a position recognition mark to eliminate such trouble that the hole having been worked is repeatedly worked by mistake even when the hole is a small-diameter hole which can not be determined to have been bored.例文帳に追加

ビルドアップ型の多層のプリント配線板における層間接続用の導通孔のレーザ穴明け加工において、位置認識マークの端部に加工確認マークを設けることにより穴明け済みかどうか判別できないような小径穴に対しても加工済みの穴を誤って重複加工するという不具合を解消する。 - 特許庁

In this case, upper layer connection wiring 49, 52, 55 and 58 for connecting the bottom gate electrode 9, source/drain electrodes 10 and top gate electrode 8 of the thin-film transistor 3 to the source/drain electrodes of the thin-film transistors 21 and 22 which are connected to conductive layers 35 and 36 are provided on the interlayer insulating film 40 covering the top gate electrode 8.例文帳に追加

この場合、薄膜トランジスタ3のボトムゲート電極9、ソース・ドレイン電極10及びトップゲート電極8と薄膜トランジスタ21、22のソース・ドレイン電極に接続される導電体層35、36とを接続するための上層接続配線49、52、55、58は、トップゲート電極8を覆う層間絶縁膜40上に設けられている。 - 特許庁

This method of manufacturing a multilayer printed wiring board comprises a first process of feeding conductive paste whose volume is larger than the capacity of a blind hole into the blind hole for interlayer connection and then giving acceleration to the conductive paste and a second process of removing an excess of the conductive paste supplied to the blind hole.例文帳に追加

非貫通孔の容積以上の体積の導電性ペーストを層間接続のための非貫通孔部分に供給した後、導電性ペーストに加速度を与えることにより、導電性ペーストを非貫通孔に充填するプロセス、及び非貫通孔の容積に対して過剰な導電性ペーストを除去するプロセスを有する多層プリント配線板の製造方法。 - 特許庁

In the semiconductor device manufacturing method, a Cu containing TiN layer which functions as a cap layer 130 (310) is formed by using a Cu containing Ti target, and Cu contained in the Cu containing TiN layer is diffused by heat treatment to an Al-Cu wiring 120 (320) located in an electrical connection part with the interlayer wiring 200.例文帳に追加

キャップ層130(310)として働くCu含有TiN層がCu含有Tiターゲットを用いて形成され、Cu含有TiN層に含有されたCuを、熱処理により、層間配線200との電気的接続部に位置するAl−Cu配線120(320)に拡散させることを特徴とする半導体装置製造方法。 - 特許庁

To provide a hardenable flux and a hardenable flux sheet capable of surely conducting solder joining, not requiring the cleaning/removing of a remaining flux after solder joining, holding the electric insulation property even in a high temperature and high humidity environment, and capable of carrying out high reliability solder joining, in mounting a semiconductor chip and interlayer connection of multilayer interconnection substrate.例文帳に追加

半導体チップの搭載時及び多層配線板の層間接続において、確実に半田接合することができ、半田接合後の残存フラックスの洗浄除去が必要なく、高温、多湿雰囲気でも電気絶縁性を保持し、信頼性の高い半田接合を可能とする、硬化性フラックス及び硬化性フラックスシートを提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the substrate without a core layer comprises (a) a step to form an insulating layer on the whole surface of a metallic sheet, (b) a step to form a via-hole on the insulating layer for interlayer electrical connection between the metallic sheet and other layer surface, and (c) a step to form many projected functional pads by etching the metallic sheet.例文帳に追加

(a)金属シートの一面に絶縁層を形成する段階と、(b)上記絶縁層に上記金属シートと他面の層間電気的接続のためのビアホールを形成する段階と、及び(c)上記金属シートをエッチングすることで突出された多数の機能パッドを形成する段階とを含むコア層のない基板製造方法が提供される。 - 特許庁

A wiring required for high-speed operation is appropriately and easily practiced, because a block 20 for interlayer connection for connecting from the fifth uppermost level wiring layer 25 with its wiring pitch can be made wide and wiring itself wide and thick to the first lowermost level wiring layer 21 via through-holes 35 to 32 by the shortest route is automatically wired beforehand.例文帳に追加

比較的配線ピッチが広くかつ配線自身の幅が広く厚さも厚くできる最上位の第5配線層25から最下位の第1配線層21まで最短距離でスルーホール35〜32を介して接続する層間接続用ブロック20を予め備えて自動配線を行なうので、要求される高速動作のための配線を適切に容易に実施できる。 - 特許庁

When a connection hole 20 corresponding to a part of the wiring layer 14 is formed in the interlayer insulating film by dry etching using a resist layer as a mask, etching is applied up to the insulating film 16b wherein sand etching tends to progress under a condition with high deposition containing no N_2, and the insulating film 16a is etched thereafter under a condition with low deposition containing N_2.例文帳に追加

レジスト層18をマスクとするドライエッチング処理により配線層14の一部に対応する接続孔20を層間絶縁膜に形成する際に、サイドエッチが進行しやすい絶縁膜16bまではN_2を含まないデポジション性の強い条件でエッチングを行い、その後はN_2を含むデポジション性の弱いい条件で絶縁膜16aのエッチングを行なう。 - 特許庁

To provide a conductive paste filled substrate conducting more sure filling by securing air extractibility and being capable of improving the reliability of interlayer connection by conductive paste even when a fine via hole is filled with the conductive paste, and a manufacturing method for the substrate, and to provide and a multilayer wiring board in which a plurality of the conductive paste filled substrates are laminated, and a manufacturing method for the wiring board.例文帳に追加

微細なビア孔へ導電性ペーストを充填する際にも、エア抜け性を確保してより確実な充填が行え、導電性ペーストによる層間接続の信頼性を向上させることができる導電性ペースト充填基板およびその製造方法、並びに当該導電性ペースト充填基板を複数積層してなる多層配線基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a multilayer printed wiring board is characterized in including: laminating a plurality of sheets of prepregs having through-holes filled with a conductive paste with a predetermined insulating layer thickness in such a way that positions of through-holes become identical; then coating both sides with metal foils; and holding the laminated prepregs between metal plates, heating and pressing them to perform interlayer connection between metal foils at predetermined positions.例文帳に追加

貫通孔を有し、該貫通孔内に導電性ペーストを充填したプリプレグを所定の絶縁層厚さで、かつ貫通孔位置が同一位置になるように複数枚重ねた後、その両面に金属箔を配し、金属プレートで挟み加熱加圧して所定位置の金属箔間の層間接続を行うことを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。 - 特許庁

The semiconductor device includes, on a semiconductor surface having a necessary circuit formed thereon, at least one insulating layer having a resin composition including an epoxy resin, an epoxy resin curing agent, and the components of an organic filler having a primary average particle size of not larger than 1 μm, wherein a circuit using copper as a wiring conductor for interlayer connection in the same layer is formed on an optional portion.例文帳に追加

必要な回路が形成された半導体表面に、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化剤及び平均一次粒子径1μm以下の有機フィラーの成分を含む樹脂組成からなる絶縁層を1層又は複数層備え、かつ同一層内及び層間接続の配線導体として銅を用いた回路を任意の箇所に形成してなる半導体装置。 - 特許庁

Further, the device has an external circuit connection terminal 102 made of the same film as the relay layer 93 and partially exposed through an opening 810 formed in the interlayer insulating film 43, and adjusting films 611 and 612 partially overlapping the opening 810 in a plan view and made of the same films of the lower capacitor electrode 71 and the upper capacitor electrode 300a, respectively.例文帳に追加

更に、中継層93と同一膜からなると共に、層間絶縁膜43に開口された開口部810から一部が露出する外部回路接続端子102並びに、平面的に見て開口部810と部分的に重なると共に、下部容量電極71及び上部容量電極300aの各々と同一膜からなる調整膜611及び612とを備える。 - 特許庁

A wiring board 100 comprises a wiring part (conductor pattern 20, interlayer connection 30), a plurality of electronic components connected electrically with the wiring part, and an insulating substrate which incorporates the wiring part and the plurality of electronic components and includes a plurality of electronic component arrangement parts 40 incorporating the electronic components, and a flexible bent portion 70 constituted between the electronic component arrangement parts 40.例文帳に追加

配線基板100は、配線部(導体パターン20、層間接続部30)と、配線部に電気的に接続された複数の電子部品と、配線部と複数の電子部品とを内蔵するものであり、電子部品を内蔵する複数の電子部品配置部40、及び、可撓性を有し、電子部品配置部40の間に構成された屈曲部70を含む絶縁基材とを備える。 - 特許庁

例文

A method of manufacturing the printed wiring board comprises processes of forming a conductor circuit by pattern electroplating, with a metal foil 8 on top of insulation resin as a power supply layer, the thickness of the metal foil being 2.0 μm or below; and forming a hole 10 for interlayer connection by first forming a mask hole on the top of the metal foil and then irradiating a laser beam thereon.例文帳に追加

絶縁樹脂上にある金属箔8を給電層としてパターン電気めっきにより導体回路を作製する工程を有するプリント配線板の製造方法において、金属箔の厚みが2.0μm以下であり、金属箔上にマスク穴を形成した後にレーザー照射をすることで層間接続用の穴10を形成する工程を有するプリント配線板の製造方法である。 - 特許庁




  
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