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layer patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 8592



例文

In the manufacturing method of a transparent conductive film where a mask is placed on a substrate, a pattern shaped transparent conductive layer is formed on the substrate by a sputtering method, a grid having a magnet is placed between a target and a substrate, and a pattern shaped transparent conductive film comprising the target material is formed over the substrate by a sputtering method.例文帳に追加

基板上にマスクを設け、スパッタリング法により基板上に透明導電膜をパターン形成する透明導電膜形成方法において、ターゲットと基板間にマグネットを備えたグリッドを設け、スパッタリング法により前記基板上にターゲット形成材料からなる透明導電膜をパターン形成することを特徴とする透明導電膜形成方法とした。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an array substrate comprising the steps of simultaneously patterning a three-layer metal film (Mo/Al/Mo) and multilayer nonmetallic film (SiNx/aSi:H/n+-type a-Si:H), by using one mask pattern capable of forming a stepwise cut of a film covering the multilayer film pattern and sufficiently preventing a fault due to the cut.例文帳に追加

一つのマスクパターンを用いて、三層金属膜(Mo/Al/Mo)及び多層非金属膜(SiNx/a-Si:H/n^+a-Si:H)を一括してパターニングする工程を含むアレイ基板の製造方法において、多層膜パターンを覆う膜についての段切れの形成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。 - 特許庁

A fine pattern formation method for semiconductor elements facilitates the pattern formation stage by implementing at least part of photoresist trimming by atomic layer vapor deposition together with spacer oxide film vapor deposition, thereby enabling the precision of trimming to be enhanced and photoresist footing, which may occur during the trimming, to be reduced.例文帳に追加

本発明の実施形態に係る半導体パターン形成方法によれば、フォトレジストのトリミングの少なくとも一部を原子層蒸着方法によってスペーサ酸化膜蒸着と共に実施することにより、段階が容易となり、トリミングの精密度を高めることができ、トリミング中に発生し得るフォトレジストフーチング(footing)を減らすことができる。 - 特許庁

The ground conductor patterns 305c-305e are formed over a plurality of layers between the input wiring conductor pattern 305a and the output wiring conductor pattern 305b, and the ground conductor patterns 305c-305e formed over the plurality of layers are connected with each other by a fourth dielectric layer via 306e, 306f.例文帳に追加

前記接地導体パターン305c〜305eは、前記入力配線導体パターン305aと前記出力配線導体パターン305bとの間に複数層にわたって形成され、前記複数層にわたって形成された各接地導体パターン305c〜305eどうしを、第4の誘電体層間ビア306e,306fで接続している。 - 特許庁

例文

To provide a method of forming a proper resist pattern by EB (electron beam) direct lithography and proper circuit pattern thereafter in a manufacturing process of semiconductor devices, etc., using the EB (electron beam) direct lithography, which coats the entire substrate uniformly with an EB (electron beam) direct lithography resist even in the presence of electrodes having a gold layer and wirings on the substrate.例文帳に追加

EB(電子線)直接描画を用いる半導体装置等の製造プロセスにおいて、基板上に金(Au)層を有する電極、配線が存在しても基板全体に均一にEB直接描画用レジストが塗布でき、EBの直接描画による良好なレジストパターン形成、その後の良好な回路パターンの形成を可能とした方法を提供する。 - 特許庁


例文

A circuit device is equipped with an optical path 101 as a three- dimensional body which serve as an optical path for optical communication, a circuit layer 105 possessed of a circuit pattern formed like an outer shell around the optical path, and optical communication parts 102 and 103, which form a part of the circuit containing the circuit pattern.例文帳に追加

光通信用の光路となる立体物としての光路部101と、この光路部の周りに外殻のように形成された回路パターンを有する回路層105と、光路部と回路層との間に位置し、光路部を介して光通信を行うことにより、回路パターンを含む回路の一部を構成する光通信部102、103とを備える。 - 特許庁

The magnetization method of the servo pattern of a perpendicular recording discrete track medium using a master disk includes a step for transferring the servo signal composed of two magnetization groups whose directions are perpendicular to a substrate and opposed to each other to a servo region by using a magnetic field leaked from a soft magnetic layer provided on the master disk in a position corresponding to the servo pattern.例文帳に追加

マスターディスクを用いる垂直記録ディスクリートトラックメディアのサーボパターン磁化方法であって、マスターディスクにサーボパターンに対応する位置に設けられた軟磁性層からの漏れ磁界によって、サーボ領域に、基板に垂直で、かつ反対向きの2種の磁化の組からなるサーボ信号を転写する工程を含むことを特徴とするサーボパターン磁化方法。 - 特許庁

To provide a photosetting resin composition having excellent printing durability to a concavo-convex die upon embossing and forming a fine concavo-convex pattern layer excellent in heat resistance and chemical resistance; and to provide an optical article such as a diffraction grating and a relief hologram having a surface structure where a fine concavo-convex pattern is formed by using the resin composition.例文帳に追加

エンボス成形において凹凸金型への優れた耐刷性を有し、かつ耐熱性、耐薬品性に優れた微細凹凸パターン層を形成することができる光硬化性樹脂組成物を提供し、かつ該樹脂組成物により微細凹凸パターンが形成された表面構造を備える回折格子やレリーフホログラム等の光学物品を提供する。 - 特許庁

With utilizing a function of a single selection unit 105 in an application layer 101, a microcomputer receives operation requests from a plurality of applications (103, 104), respectively, selects a load as a controlled object corresponding to the operation requests and an operational pattern to be performed by the load, and gives information about the selected load and the selected operational pattern to an output driver unit 106.例文帳に追加

マイコンはアプリケーション層101における1つの選択部105の機能により、複数のアプリ(103,104)夫々からの動作要求を受け付け、動作要求に対応する制御対象の負荷と、該負荷に行なわせる動作パターンを選択し、選択した負荷及び動作パターンを示す情報を出力ドライバ部106の機能へ与える。 - 特許庁

例文

In order to divide the background symbol of the patterns into two or more parts and display the same, the layer related to the background among the layers is composed of two or more layers corresponding to the divided parts of the background, and at least one background pattern is controlled to be variably displayed at a different speed from that of another background pattern.例文帳に追加

また、前記図柄のうち背景図柄を複数に分断表示するべく、レイヤのうち背景図柄に関するレイヤを、当該複数に分断された背景図柄に対応する複数のレイヤによって構成するとともに、少なくとも1つの背景図柄が、他の背景図柄とは異なる速度で変動表示制御されるようにした。 - 特許庁

例文

The method for manufacturing the electromagnetic wave shielding film comprises (1) a step of laminating a photoresist containing a plating substrate material on a transparent base, (2) a step of forming a geometrical photoresist pattern by exposing and developing the photoresist, and (3) a step of forming a metal layer on the plating substrate material of the photoresist surface formed with the photoresist pattern.例文帳に追加

(1)透明基材上にメッキ下地材料を含有させたフォトレジストを積層させる工程と、(2)前記フォトレジスト層を露光、現像することにより幾何学的なフォトレジストパターンを形成させる工程と、(3)前記フォトレジストパターンを形成したフォトレジスト表面部のメッキ下地材料に金属層を形成させる工程と、を含む方法である。 - 特許庁

To improve the print precision of a conductor pattern forming a coil and reduce a characteristic difference in an inductance value or the like, in a laminated chip inductor wherein a non-magnetic electric insulation layer and a conductor pattern are alternately printed and laminated through screen printing to form a coil and a lead conductor for connecting the coil to an external terminal is formed.例文帳に追加

非磁性電気絶縁層と導体パターンがスクリーン印刷で交互に印刷積層されることによりコイルが形成されるとともに、そのコイルを外部端子に接続する引き出し導体が形成された積層チップインダクタにおいて、上記コイルを形成する導体パターンの印刷精度を高め、インダクタンス値等の特性誤差を小さくする。 - 特許庁

To provide a material of an antireflection film ensuring high etching selectivity to a resist, that is, a high etching speed to a resist, to provide a pattern forming method for forming an antireflection film layer on a substrate using this antireflection film material, and to also provide a pattern forming method using this antireflection film as a hard mask for substrate working.例文帳に追加

レジストに対してエッチング選択比が高い、即ちレジストに対してエッチングスピードが速い反射防止膜の材料を提供し、且つこの反射防止膜材料を用いて基板上に反射防止膜層を形成するパターン形成方法及び、この反射防止膜を基板加工のハードマスクとして用いるパターン形成方法も提供する。 - 特許庁

To prevent a decrease in conductivity between a wiring pattern formed on one side of a base material of an information recording media and another wiring pattern formed on the other side, the wiring patterns being interconnected via a connecting wiring layer formed in a hole part provided in the base material.例文帳に追加

基材の一方の面に形成された配線パターンと他方の面に形成された配線パターンとが、基材に設けられた穴部に形成された接続配線層を介して互いに接続される情報記録媒体において、基材の一方の面に形成された配線パターンと他方の面に形成された配線パターンとの間における導電性の低下を防止する。 - 特許庁

When the photo mask is manufactured by forming a light shielding film pattern on one side of a light transmitting substrate and demarcating a light transmitting part by the light shielding film pattern, a fluorine-containing photocatalyst active layer containing a photocatalyst and a fluorine-based compound is formed in a manner that it can be overlapped on the light transmitting part on the plane view.例文帳に追加

光透過性基板の片面に遮光膜パターンが形成され、この遮光膜パターンによって光透過部が画定されているフォトマスクを作製するにあたり、光透過部と平面視上重なるようにして、光触媒とフッ素系化合物とを含有するフッ素含有光触媒活性層を形成することによって、上記課題を解決した。 - 特許庁

To provide a sealant for a liquid crystal one-drop-fill process, which is not repelled even when being applied on an alignment layer with hydrophobicity imparted thereto and which prevents disconnection in a sealing pattern even when a fine sealing pattern is drawn, and to provide a vertical conduction material and a liquid crystal display element.例文帳に追加

滴下工法による液晶表示素子の製造において、疎水性が付与された配向膜上に塗布された場合であっても弾かれることがなく、また、微細なシールパターンを描いた場合であっても、シールパターンに断線が生じることのない液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料、及び、液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with high developing solution dispersion stability, not generating agglomerate, and having high edge phase property, high trackability, and high plating resistance, a photosensitive resin laminated body having a photosensitive resin layer made of the composition, a forming method of a resist pattern using the laminated body, and a method of manufacturing a conductive pattern.例文帳に追加

現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、良好なエッジフューズ性と追従性、高いめっき耐性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

The interface board has one side laid on a second layer surface of the MCM board and the other side extruding into the waveguide hole to guide high frequency signals generated by a high frequency circuit to the waveguide and high frequency signal from the waveguide to the high frequency circuit according to a transmission line pattern 3a connected to a transmission line pattern 1a corresponding to the waveguide hole on the MCM board.例文帳に追加

インタフェース基板は、一方の側がMCM基板の第2層表面上に載置され、他の側が導波管穴にはみ出し、MCM基板の導波管穴対応の伝送線路パターン1aと接続された伝送線路パターン3aによって、高周波回路が発生する高周波を導波管へ、導波管からの高周波を高周波回路へ導く。 - 特許庁

The coating apparatus is provided for coating a substrate for a device of which a first electrode layer has a pattern preformed in a predetermined circuit form thereon, and the coating apparatus comprises an ultrasonic spray nozzle in its upper portion, a pattern mask covering a surface of the substrate for a device, and an electrical field-type mechanism mounted on the substrate for a device or a side mounting the substrate for a device.例文帳に追加

第1電極層が予め所定の回路状にパターンが形成された素子用基板に塗布する装置であって、上部には超音波スプレーノズルを備え、前記素子用基板の表面を覆うパターンマスクを備え、かつ、素子用基板、あるいは該素子用基板設置側には電場形機構を設けることにより解決した。 - 特許庁

To provide a mask which is used to manufacture an optical diffusing film wherein a columnar minute area having a refractive index varied in the perpendicular direction of a resin layer is formed to change the scattering property by an angle of incidence of light, and has a pattern consisting of areas for transmitting light and a pattern intercepting light and excludes an influence of occurring black defects.例文帳に追加

樹脂層の厚み方向に屈折率が異なる柱状の微小領域を形成し、光の入射角度によって散乱性が変化する光拡散フィルムを作製するマスクで、光を透過する領域からなるパターンと、光を遮断するパターンを有し、かつ発生した黒欠陥の影響を排除したマスクを提供することである。 - 特許庁

The heatsink includes a first radiating fin 4 bonded to the top of a high heat generating LSI 3, an inner layer pattern which is formed in a printed board 1 with the high heat generating LSI 3 disposed on the printed board 1 and dissipates heat from the high heat generating LSI 3, and a second radiating fin 25 bonded on the printed board 1 to dissipate heat transmitted from the inner pattern.例文帳に追加

高発熱LSI3の上部に接着された第1の放熱フィン4と、高発熱LSI3がその上に搭載されているプリント板1の内部に高発熱LSI3の熱を逃がす内層パターンと、該内層パターンから伝達された熱を放熱するために、プリント板1上に接着された第2の放熱フィン25と、を設けて構成される。 - 特許庁

An oxide superconductor thin film pattern 20 is formed through a CeO2 buffer layer on a sapphire substrate 10 having a step 11 formed such that the step 11 traverses specified regions of a square thin film pattern 22 having an opening 23 at the center, and step type Josephson junction 26, 27 are formed at the regions where the step 11 traverses.例文帳に追加

段差部11を有するサファイア基板10上にCeO_2バッファ層を介して酸化物超電導薄膜からなる超電導薄膜パターン20を形成し、中心部分に開口部23を有する正方形状の薄膜パターン22の所定の部位を段差部11が横断するように段差部11及び薄膜パターン20を構成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a recording material having gloss even in either of a picture part and a non-picture part by conquering a defect of lowering of pattern clearness based on staining of printing elements or fixing inferiority generated by not quick absorbing of a solvent in an ink receptive layer when the pattern is formed by using color ink.例文帳に追加

顔料インクを用いてパターンを形成したときにインクの溶媒が速やかにインク受容層に吸収されないために生じる画線の滲みや定着不良に基づくパターンの鮮明性が低下するという欠点を克服し、かつ画像部及び非画像部のいずれにおいても光沢を有する記録材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

A photosensitive resin pattern 301 covering the control electrode part 140 is formed by a stencil printing plate method such as a screen printing method, a desired region including the uppermost part of the control electrode part 140 of the of photosensitive resin pattern 301 is exposed, developed and the protective layer 302 covering a predetermined region including the uppermost part of the control electrode part 140 is formed.例文帳に追加

スクリーン印刷法などの孔版印刷法により、制御電極部140を覆う感光性樹脂パターン301を形成し、感光性樹脂パターン301の、制御電極部140の最上部を含む所望の領域に露光を施し、これを現像し、制御電極部140の最上部を含む所定の領域を覆う保護膜302を形成する。 - 特許庁

Thereafter, a thin film resistance element where the heat sink 2 for heat dissipation is formed just under a resistance film 6 is attained by forming a pattern of insulation film 5 on the flat surface of the heat sink 2 and insulation layer 4, forming a pattern of resistance film 6 from above the insulation film 5 and then connecting the end faces of both patterns respectively on the electrodes 3.例文帳に追加

しかる後、ヒートシンク部2と絶縁体層4の平坦な上面に絶縁膜5をパターン形成し、この絶縁膜5の上から抵抗膜6をパターン形成してその両端部をそれぞれ電極部3上に接続することにより、抵抗膜6の真下に放熱用のヒートシンク部2が存在する薄膜抵抗素子を得る。 - 特許庁

To provide a method for releasing a flexible film from a reinforcing plate without incurring position deviation or disconnection of a circuit pattern, break of a bonding pad with an electronic component, damage of the electronic component, and the like in a circuit board member wherein the high-accuracy circuit pattern is formed by sticking the flexible film through an organic layer to the reinforcing plate and maintaining dimension accuracy.例文帳に追加

可撓性フイルムを有機物層を介して補強板に貼り合わせ、寸法精度を維持することで、高精度な回路パターンを形成した回路基板用部材を、回路パターンの位置ずれや断線、電子部品との接合パッド部の破断や電子部品の破損を起こすことなく、可撓性フイルムを補強板から剥離する方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of a printed wiring board includes a step S11 for forming an insulation resin layer containing inorganic filler at a content of 30 wt% or higher, a step S12 for forming a conductor on the insulation resin layer, and a step S14 for forming a conductor pattern on the insulation resin layer by irradiating the conductor with a laser beam thereby dividing the conductor or narrowing the width of the conductor.例文帳に追加

プリント配線板の製造方法が、30wt%以上の含有率で無機フィラーを含む絶縁樹脂層を形成すること(ステップS11)と、絶縁樹脂層上に導体を形成すること(ステップS12)と、レーザ光を導体に照射することによって、導体を分断し又は導体の幅を細くすることで絶縁樹脂層上に導体パターンを形成すること(ステップS14)と、を含む。 - 特許庁

In manufacturing an electromagnetic wave shielding adhesive film, related to a plastic film with a conductive metal where a conductive metal layer is laminated on a transparent base material through a thermo-setting adhesive layer, an etching resist pattern is formed by screen printing or offset printing, and the conductive metal layer is etched to form a geometric graphic of a conductive metal.例文帳に追加

透明基材上に熱硬化型接着剤層を介して導電性金属層が積層されてなる導電性金属付きプラスチックフィルムにおいて、スクリーン印刷法又はオフセット印刷法により作製したエッチングレジストパターンを形成し、導電性金属層をエッチングすることにより導電性金属からなる幾何学図形を形成することを特徴とする電磁波シールド性接着フィルムの製造法。 - 特許庁

A base coated with an uncured adhesion layer, a means for forming a desired image pattern by selectively sticking to the base a liquid image-making resin constituted of a liquid resin contrary to the adhesion layer in respect to responsive characteristics to oil, and a means for concurrently curing the adhesion layer and the sticking liquid image-making resin, are provided at least in the constitution of this invention.例文帳に追加

本発明は、本発明は、非硬化状態の接着層を塗布した基材と、油に対する感応特性が前記接着層とは相反する液体樹脂からなる液体作像樹脂を前記基材に選択的に付着させ所望の画像パターンを形成する手段と、その後前記接着層及び付着した前記液体作像樹脂を同時に硬化させる手段と、を少なくとも備えた構成とした。 - 特許庁

The decorative sheet is formed by laminating at least a picture pattern layer and a transparent thermoplastic polyester-based resin layer in this order, and the transparent thermoplastic polyester-based resin layer contains at least polylactic acid, and has a glass transition temperature of 50-90°C, a tensile elastic modulus of 2-3.5 GPa, and a tensile fracture elongation of 100-200%.例文帳に追加

少なくとも絵柄インキ層と透明熱可塑性ポリエステル系樹脂層がこの順に積層されてなる化粧シートにおいて、該透明熱可塑性ポリエステル系樹脂層が少なくともポリ乳酸を含み、且つ、ガラス転移点が50℃以上90℃以下、引っ張り弾性率が2GPa以上3.5GPa以下、引っ張り破断伸び率が100%以上200%以下であることを特徴とする化粧シートを提供する。 - 特許庁

In the decorative sheet constituted by laminating at least a pattern ink layer, a transparent thermoplastic resin layer and a surface protective layer on a thermoplastic resin sheet base material in this order, the thermoplastic resin sheet base material is constituted of at least the polylactic acid type resin and a polyolefinic resin and has a phase structure wherein the polylactic acid type resin becomes a disperse phase and the polyolefinic resin becomes a continuous phase.例文帳に追加

熱可塑性樹脂シート基材上に、少なくとも絵柄インキ層と透明熱可塑性樹脂層と表面保護層がこの順に積層されてなる化粧シートにおいて、該熱可塑性樹脂シート基材が少なくともポリ乳酸系樹脂とポリオレフィン系樹脂から構成され、ポリ乳酸系樹脂が分散相、ポリオレフィン系樹脂が連続相となる相構造であることを特徴とする化粧シートを提供する。 - 特許庁

The method of patterning a thin film includes a process for laminating a deposition film 30 on the thin film 20, a process for laminating a photo resist layer 40 on the deposition film, a process for patterning the photoresist layer by photolithography, and etching and patterning the deposition film by using the patterned photoresist layer, and a process for etching and patterning the thin film by using the patterned deposition film as a pattern mask.例文帳に追加

薄膜20上に、蒸着膜30を積層する工程と、 前記蒸着膜上に、フォトレジスト層40を積層する工程と、 フォトリソグラフィにより、前記フォトレジスト層をパターニングし、パターニングされた前記フォトレジスト層を用いて前記蒸着膜をエッチングしてパターニングする工程と、 パターニングされた前記蒸着膜をパターンマスクとして、前記薄膜をエッチングしてパターニングを行う工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the optical element transfer foil, at least the film-like base material, a release layer formed by curing a first radiation cured resin, and a relief pattern layer formed by curing a second radiation cured resin are laminated in this order, and wavelength of radiation which hardens the first radiation cured resin is shorter than wavelength of radiation which hardens the second radiation cured layer.例文帳に追加

少なくとも、フィルム状の基材と、第一の放射線硬化型樹脂を硬化させた離型層と、第二の放射線硬化型樹脂を硬化させたレリーフパターン層がこの順に積層された光学素子転写箔であって、前記第一の放射線硬化型樹脂を硬化させた放射線の波長が、前記第二の放射線硬化型樹脂を硬化させた放射線の波長より短いことを特徴とする光学素子転写箔。 - 特許庁

In an ink acceptable base material for forming a conductive pattern using a conductive ink, the ink acceptable base material has at least one base layer of (A) a base layer containing a compound having at least one kind of groups chosen from mercapto group, carboxyl group, carboxylic acid ester group, amino group, and epoxy group, and (B) a base layer consisting of a silane coupling agent.例文帳に追加

導電性インクを用いて導電性パターンを形成するためのインク受容基材において、該インク受容基材が、(A)メルカプト基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、アミノ基及びエポキシ基から選ばれる少なくとも1種の基を有する化合物を含む下地層、(B)及びシランカップリング剤から成る下地層の少なくともいずれかの下地層を有することを特徴としたインク受容基材及び導電性パターン形成方法。 - 特許庁

The method includes steps of: forming an organic antireflection film containing a photoacid generating agent on a film to be etched; heat treating the organic antireflection film at a predetermined temperature; forming a chemically amplified photoresist layer on the organic antireflection film; transferring a pattern on a mask by using a light source at a single wavelength onto the chemically amplified photoresist layer; and developing the chemically amplified photoresist layer.例文帳に追加

被エッチング膜上に、光酸発生剤を含む有機反射防止膜を形成する工程と、有機反射防止膜を所定温度で熱処理する工程と、有機反射防止膜上に化学増幅型フォトレジスト層を形成する工程と、化学増幅型フォトレジスト層に単一波長の光源を用いてマスク上のパターンを転写する工程と、化学増幅型フォトレジスト層を現像する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a diffraction structure formation body with a patterned metal reflecting layer formed by processing a metal reflecting layer in a fine pattern shape at a high speed and its manufacturing method, diffraction structure transfer foil using the diffraction structure formation body having the patterned metal reflecting layer, a diffraction structure sticker, diffraction structure transfer foil, and an information recording medium with the diffraction structure using the diffraction structure sticker.例文帳に追加

細かいパターン状の金属反射層を高速で加工したパターン状の金属反射層を有する回折構造形成体とその製造方法、パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体を用いた回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、及び回折構造体転写箔、回折構造体ステッカーを用いた回折構造体付き情報記録媒体を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the light emitting device includes irradiating first light which satisfies a predetermined conditional expression from one face of a first substrate on which the material layer is formed, to pattern the material layer, and irradiating second light which satisfies a predetermined conditional expression from the other face of the first substrate to deposit the patterned material layer on a second substrate as a film-formed substrate.例文帳に追加

第1の基板の材料層が形成された一方の面から所定の条件式を満たす第1の光を照射することにより、材料層をパターン形成し、次いで第1の基板の他方の面から所定の条件式を満たす第2の光を照射することにより、パターン形成した材料層を被成膜基板である第2の基板上に蒸着させる発光装置の作製方法である。 - 特許庁

The method of continuously manufacturing the conduit comprises the steps of: attaching a sacrificial layer 17 of a thin plastic around a former 1 rotating and advancing the conduct in an overlapping pattern; forming a conduit 6 by covering the sacrificial layer on the former while bonding overlapped layers each other; and removing the sacrificial layer from the inner part of the conduit after bonding.例文帳に追加

本発明の導管を連続的に製造する方法は、薄いプラスチックの犠牲層17をオーバラップするパターンで、導管を回転させ且つ前進させるフォーマ1の周りにつける工程と、オーバラップしている層を互いに接合しながら、フォーマ上で犠牲層を覆って導管6を形成する工程と、接合後に犠牲層を導管の内側から除去する工程と、を備えていることを特徴とする。 - 特許庁

This filter for the organic EL element has the transparent substrate 2, the light shielding part 3 formed in a pattern shape on the transparent substrate 2 while containing a resin and a coloring agent and having insulation, a coloring layer 5 formed in the opening part of the light shielding part 3 on the transparent substrate 2, and an overcoat layer formed on the light shielding part 3 and the coloring layer 5.例文帳に追加

透明基板2と、上記透明基板2上にパターン状に形成され、樹脂および黒色着色剤を含有し、絶縁性を有する遮光部3と、上記透明基板2上の上記遮光部3の開口部に形成された着色層5と、上記遮光部3および上記着色層5の上に形成されたオーバーコート層6とを有することを特徴とする有機EL素子用カラーフィルタ。 - 特許庁

The color filter comprises a transparent substrate, a characteristics change layer for changing the characteristics by the action of photocatalyst formed on the transparent substrate accompanied by energy irradiation, the light-shielding part formed on the characteristic change layer by a heat transfer method and pixel parts formed along a pattern, in which the characteristics of the characteristics change layer is changed.例文帳に追加

上記目的を達成するために、透明基材と、前記透明基材上に形成されたエネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化する特性変化層と、前記特性変化層上に熱転写法により形成された遮光部と、前記特性変化層の特性が変化したパターンに沿って形成された画素部とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

The method for manufacturing a ferroelectric memory 1000 includes a step (a) wherein a lower electrode layer 20, a ferroelectric layer 30, and a first upper electrode layer 40 are stacked in sequence on a substrate 10; a step (b) to anneal the ferroelectric lamination; and a step (c) to pattern the ferroelectric lamination into a specified shape.例文帳に追加

本発明にかかる強誘電体メモリ1000の製造方法は、(a)基体10の上方に下部電極層20、強誘電体層30、および第1の上部電極層40を順次積層することにより強誘電体積層体を形成する工程と、(b)前記強誘電体積層体にアニール処理を行う工程と、(c)前記強誘電体積層体を所定の形状にパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing circuit board utilizes an adhesive tape and comprises steps of (A) forming a circuit pattern on an adhesive agent layer of the adhesive tape by a conductor, (B) forming an insulated layer by coating the circuit forming surface of the adhesive tape with an insulation material, and then (C) exposing the circuit at the surface of insulation layer by peeling the adhesive tape.例文帳に追加

本発明の回路基板の製造方法は、粘着テープを用いた回路基板の製造方法であって、(A)粘着テープの粘着剤層上に導体により回路パターンを形成する工程の後、(B)前記粘着テープの回路形成面に絶縁性材料を塗布して絶縁層を形成する工程、次いで(C)前記粘着テープを剥離して絶縁層表面に回路を露出させる工程を設けることを特徴とする。 - 特許庁

This method for manufacturing a multilayered wiring board includes the consecutive steps of a step of forming a curing insulation resin layer, a step of selectively forming a via hole in the curing insulation resin layer, a step of etching a metal for a wiring pattern, a step of curing the curing insulation resin layer after etching, and a step of applying a plating treatment for interlayer connection.例文帳に追加

配線パターンが形成された絶縁基材上に、硬化性絶縁樹脂層を設ける工程、該硬化性絶縁樹脂層に選択的にビアホールを形成する工程、配線パターンの金属をエッチングする工程、エッチング後に該硬化性絶縁樹脂層を硬化する工程、およびメッキ処理を行って層間接続を行う工程、をこの順に行うことを特徴とする多層配線基板の製造方法。 - 特許庁

The exposure mask is used to irradiate an object to be processed with light from a light irradiating device to form a pattern, and the mask comprises a photocatalyst layer 101 formed of a photocatalyst that develops a catalytic function by light from the light irradiating device and a light shielding layer 102 in contact with the photocatalyst layer and having an opening to selectively block the light from the light irradiating device.例文帳に追加

光照射装置から光を照射し、被処理物にパターンを形成する際に用いる露光用マスクであって、 前記光照射装置からの光によって触媒機能を発現する光触媒によって形成された光触媒層101と、 前記光触媒層に接し、前記光照射装置からの光を選択的に遮光する開口が形成された遮光層102と、を備えている構成とする。 - 特許庁

The dielectric structure is formed on a pixel layer or electrode layer, the uneven dielectric coefficient distribution is formed by using a specific pattern of the dielectric layer structure to generate a lateral electric field quantity, and then lines of the electric force of a slit electrode lateral electric field on the substrate are changed to increase liquid crystal molecule tilting and also accelerate the pretilt and response time of liquid crystal molecules, thereby forming multiple domains.例文帳に追加

画素層或いは電極層の上に誘電層構造が形成され、この誘電層構造の特定パターンを利用し不均一な誘電係数分布を形成し、横向の電場分量を発生することにより、基板上のスリット電極横向き電場の電力線を改変し、液晶分子傾倒を増強し、液晶分子のプレティルトと応答時間を加速し、これによりマルチドメインを形成する。 - 特許庁

The substrate for light source mounting an element for light source comprises a base substrate having high thermal conductivity, an insulation layer having high thermal conductivity formed on the side of the base substrate for mounting the element for light source, a wiring pattern formed on the mounting surface side through the insulation layer, and a heat dissipation layer having high heat radiation properties formed on the side opposite to the mounting surface side.例文帳に追加

光源用素子が実装される光源用基板であって、高い熱伝導性を有するベース基板と、ベース基板の光源用素子が実装される実装面側に形成された高い熱伝導性を有する絶縁層と、絶縁層を介して実装面側に形成された配線パターンと、実装面側と反対側の面に形成された高い熱放射性を有する放熱層とを有する構成とする。 - 特許庁

A block copolymer thin film 703 comprising a block copolymer (di-block copolymer) comprised of for example, two types of a block chain A and a block chain B is formed on a neutral layer 801 to which a guide pattern 702 is formed.例文帳に追加

ガイドパターン702が形成された中性層801上に、例えば2種類のブロック鎖A及びブロック鎖Bから構成されたブロック共重合体(ジブロック共重合体)よりなるブロック共重合体薄膜703を形成する。 - 特許庁

It is preferable that the solvent has a boiling point ranging 150-300°C and the repair film is a laminate having a pattern and further, the outermost paint film layer of the repair film is a clear paint film.例文帳に追加

好ましくは、上記記載の高沸点溶剤が、沸点150〜300℃の沸点を有し、上記補修塗膜が、模様が形成された積層塗膜であり、補修塗膜の最表層塗膜がクリヤー塗膜である塗膜補修フィルム。 - 特許庁

To provide a deposition method in which a throughput is improved and moreover a desired pattern of a material layer can be obtained smoothly when a plurality of different material layers are laminated on a substrate, and to provide a method of manufacturing a light-emitting device.例文帳に追加

基板上に異なる複数の材料層を積層する際、スループットを向上しつつ、円滑に材料層の所望のパターン形状を得る成膜方法および発光装置の作製方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

例文

The method further comprises the steps of then opening to include the first opening, forming a second photoresist pattern 37 having a second opening 37a of an overhanging-like sectional shape at the sidewall, and then coating a second metal layer 39 thereon.例文帳に追加

次に、第1の開口部を包含するようにして開口し且つその側壁がオーバーハング状の断面形状の第2の開口部37aを設けた第2のフォトレジストパターン37を形成した後、第2の金属層38を被着する。 - 特許庁




  
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