「layer pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(148ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a printed-wiring board where the conductive pattern of each layer for composing the electric circuit of a multilayered printed-wiring board is formed on the same insulating substrate, and a method for manufacturing the multilayered printed-wiring board using the printed-wiring board.例文帳に追加

多層型プリント配線基板の電気回路を構成する各層の導電パターンが同一の絶縁基板上に形成されたプリント配線基板及びこれを用いた多層型プリント配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The attachment verifying print pattern (S) comprises not less than one kind of elements, such as characters, figures, marks, and the like, which are formed, for example, through a heat coloring reaction of a heat coloring ink layer or a transfer on a hologram metallic foil.例文帳に追加

係着証明印影（Ｓ）は、文字，数字，記号，マーク等の１種又は２種以上の要素で構成され、例えば、感熱発色性インキ層の加熱発色反応により、あるいはホログラム金属箔の転写等により表出される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a both-sided mask which has patterns on both surfaces of a transparent substrate, the both-sided mask being provided with a protection layer for protecting the pattern formed on one surface of the transparent substrate.例文帳に追加

透明基板の両面にパターンを有する両面マスクの作製方法において、透明基板の一方の面に形成されたパターンを保護するための保護層を設けた両面マスクの作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

When a pattern drawing device 100 scans an exposure unit 30 equipped with a mask 361 to the (+Y) side of the main scanning direction with respect to a substrate 9, the drawing device exposes a resist layer of a substrate 9 through the transmissive patterns SLG1, SLG2 at the same time.例文帳に追加

パターン描画装置１００は、マスク３６１を備えた露後部３０を、基板９に対して主走査方向の（＋Ｙ）側へ走査させる場合、透過パターンＳＬＧ１，ＳＬＧ２とを同時に介して基板９のレジスト層を露光する。 - 特許庁

In the inkjet recording medium with one or more ink receiving layers coated on one surface of a substrate, a sheet of paper, wherein a watermark pattern obtained by partially changing thickness is formed on a non-coating surface side of the ink receiving layer, is used as the substrate.例文帳に追加

基材の片面に一層以上のインク受容層が塗設されたインクジェット記録媒体において、該基材として、該インク受容層の非塗設面側に、厚みを部分的に変化させてなる透かし模様が形成された紙を用いる。 - 特許庁

To provide an in-cabin switch gear capable of changing the arrangement of a pattern which is the operational display of the switch gear only by simply changing a mask layer, and executing the intended operation corresponding to the operational display.例文帳に追加

車室内スイッチ装置において、簡単なマスク層の交換のみでスイッチ装置の操作表示である図柄の配置変更を行うと共に、操作表示に対応した意図する動作を行わせることができるようにすることである。 - 特許庁

In the semiconductor device, a double recess 25 is filled with: an insulating layer 22 formed on the side wall faces and bottom face thereof; and a columnar conductor 30 made of metal, one end of which is connected with the surface of a pattern 14 at the semiconductor substrate side.例文帳に追加

二段凹部２５は、その側壁面及び底面に形成された絶縁層２２と、パターン１４の半導体基板側面に一端部が接続された金属から成る柱状導体部３０とによって充填されている。 - 特許庁

A backing material is bonded to the back of the surface layer material 1 by an adhesive, the surface of the wet process nonwoven fabric is contacted with an embossing roll by embossing treatment, and an embossed pattern is formed on the surface of the nonwoven fabric, so that the wallpaper is obtained.例文帳に追加

さらに、前記表層材１の裏面に裏打ち材を接着剤により接合し、前記湿式不織布面がエンボスロールに当接するようにエンボス処理して、不織布表面にエンボス模様を形成させることにより、壁紙を得る。 - 特許庁

To provide a processing method which can suppress microloading effects and improve CD controllability, without using any dummy pattern, etc., by increasing the volatility of a reaction product obtained, when a base material layer is etched.例文帳に追加

母材層をエッチングする際の反応生成物の揮発性を高くすることにより、マイクロローディング効果を抑制し、ダミーパターン等を用いなくともＣＤ制御性を向上させることのできる加工方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a color filter by which occurrence of residues on development attributable to insufficient rinse by the effect of irregularity made by formation of a first layer can be prevented, each color pattern is configured into a proper rectangular geometry, and to provide a color filter with high planarity can be produced.例文帳に追加

第１層が形成されてできた凹凸の影響によるリンス不足に起因する現像残渣の発生を防止し、各色パターンが良好な矩形状に構成され、平坦性の高いカラーフィルタを作製する。 - 特許庁

The control circuit 10 is mounted to a printed circuit board 22 that is fastened to a protruding column 21 of the heat sink 20, and a conductor layer pattern 24 adhered to the top face of the protruding column 21 is soldered to a second terminal Y of a thermistor 12.例文帳に追加

ヒートシンク２０の突柱２１に締結されたプリント回路基板２２には制御回路１０が実装され、突柱２１の頂面に密着する導体層パターン２４はサーミスタ１２の第２の端子Ｙにはんだ付けされている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a light-emitting device and a substrate for deposition capable of improving an EL layer pattern forming accuracy of each color in case of producing full-color flat panel display using red, green and blue luminescent colors.例文帳に追加

赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、各色のＥＬ層のパターン形成の精度を向上させることが可能な発光装置の作製方法及び成膜用基板を提供する。 - 特許庁

Heat transfer printing on the releasing layer using an ink comprising a polyolefin having a viscosity average molecular weight of from 5,000 to 300,000 and a colorant, yields a pattern showing an excellent fixability, resistance to fretting and solvent resistance.例文帳に追加

前記剥離層上に粘度平均分子量が５千〜３０万であるポリオレフィンと着色剤とを成分とするインクを用いて熱転写することにより、定着性、耐擦過性及び耐溶剤性に優れたパターンを形成できる。 - 特許庁

A substrate device includes the pattern film which is formed on the substrate, has the side face part, and comprises the single layer, wherein the side face part is formed so as to have a plurality of angles of slope toward the substrate surface, or is formed so as to produce a level difference shape.例文帳に追加

基板上に形成され、側面部を有すると共に単一層からなるパターン膜を備え、側面部は、基板の表面に対して複数の傾斜角度を有するように形成され、又は段差状に形成されている。 - 特許庁

The transparent resin composition is used when a metal pattern layer whose surface is treated with blackening by a metal blackening treatment liquid and an optical film are laminated to be integrated, and includes a resin and a compound shown by general formula (I).例文帳に追加

透明性樹脂組成物は、金属黒化処理液により表面が黒化処理された金属パターン層と、光学フィルムとを積層一体化する際に用いられ、樹脂と、一般式（Ｉ）で表される化合物と、を含有する。 - 特許庁

To provide an electrically-conductive ink which forms a layer with a high electrical conductivity even when it is heated at a low temperature, and which hardly causes the change of properties owing to the drying before a picturing, and additionally which can form a finer pattern due to its excellent levelling resistance.例文帳に追加

低い加熱温度によっても高い導電性を有する被膜が得られ、描画前の乾燥による変質が起こり難いことに加え、耐レベリング性に優れ、より微細なパターン形成を可能とする導電性インクを実現する。 - 特許庁

To provide an inspection device for exfoliation of a thin film capable of effectively and stable inspecting bonding strength of a back electrode layer without vacuum sucking the surface of a semiconductor substrate, i.e., without damaging a circuit pattern.例文帳に追加

半導体基板の表面を真空吸着することなく、すなわち回路パターンに傷を付けることなく、裏面電極層の接着強度を、効率良く安定して検査することができる薄膜剥離検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for uniformly forming a comparatively-thin plated nickel layer on an uneven pattern on the outer surface of a main body of a die while inhibiting a defect such as a plating spot from being produced thereon; and a production apparatus therefor.例文帳に追加

めっき斑等の欠陥の発生を抑えつつ、金型本体の外周面の凹凸パターン上に比較的薄いニッケルめっき層を均一に形成できるニッケルめっき金型の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

Further, in the light emitting layer, an organic EL element in which a patter is made visible by the difference in the color tone is also available by forming a display pattern made of light- emitting materials different from those of other parts, for instance, by including doping agent.例文帳に追加

また、発光層において、ドーピング剤を含む等、他の部分とは異なる発光材料からなる表示パターン部を形成することによって、色調の差によりパターンを視認することができる有機ＥＬ素子とすることもできる。 - 特許庁

To provide a glazed substrate 2 which meets conditions that surface waviness 5 of a second convex glazed layer 4 is 0.2 μm or less, straightness B in a direction of length of a pattern is 10 μm or less, and a radius R of curvature at an end is in a range of 3-5 mm.例文帳に追加

凸状の第二グレーズ層４の表面うねり５が０．２μｍ以下、パターン長さ方向の直線度Ｂが１０μｍ以下、先端曲率半径Ｒが３〜５ｍｍを満足するグレーズド基板２を提供すること。 - 特許庁

To provide a thermal recording magnetic ticket sheet whose forgery can be found by a pattern of a copied product different from an original print clearly even by copying a gravure multicolor print formed on a thermal recording layer by a color copier having high fidelity.例文帳に追加

感熱記録層上に成されたグラビア多色印刷を忠実度の高いカラー複写機で複写しても、複写品が明確に元印刷と異なるパターンとなって、偽造物であることが判る感熱記録型磁気券紙を提供する。 - 特許庁

The reflectance of a reflection layer 25 formed to adhere to the surface where a grating pattern 15 is formed or of a reflector or a reflection sheet 19 disposed below a light guide body increases with the distance from a light source.例文帳に追加

回折格子パターン１５が形成されている面に密着して設けられた反射層２５、導光体の下部に配置された反射板もしくは反射シート１９の反射率が、光源から遠ざかるに従って高いこと。 - 特許庁

A process for preparing a flexible device having a superoleophobic surface is used, comprising: a step of providing a flexible substrate; a step of disposing a silicon layer 10 on the flexible substrate 12; a step of using photolithography to create a textured pattern in the silicon layer 10 on the substrate wherein the textured pattern comprises a groove structure 16; and a step of chemically modifying the textured surface by disposing an insulation protective oleophobic coating thereon.例文帳に追加

可撓性基板を設けるステップと、可撓性基板１２上にシリコン層１０を施すステップと、写真平板法を用いて基板上のシリコン層１０にテクスチャー加工されたパターンを作成するステップと、この際テクスチャー加工されたパターンは溝構造１６を含むステップと、テクスチャー加工された表面を、その上に絶縁保護的な疎油性被膜を施すことにより化学的に修飾するステップと、を含む超疎油性表面を有する可撓性デバイスを作製するための方法を用いる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device whose pattern layout is optimized so that the yield of flattening by CMP is not influenced owing to increase of the integration degree of the semiconductor device having a well contact diffusion layer and a sub-contact diffusion layer disposed between both P- and N-channel transistor arrays arranged facing each other.例文帳に追加

Ｐｃｈトランジスタ列とＮｃｈトランジスタ列とが向かい合って配置された半導体集積回路において、両トランジスタ列間にウェルコン拡散層及びサブコン拡散層が配置された装置の集積度を高めても、ＣＭＰによる平坦化を行う際に歩留まりに悪影響のないパターンにレイアウトを最適化した半導体装置を提供する。 - 特許庁

The method for repairing the color filter having the wettable pattern consisting of a lyophilic region and a lyophobic region on a substrate and having the coloring layer formed on the lyophilic region is characterized by removing a coating liquid for forming the coloring layer adhering to the lyophobic region.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基板上に親液性領域と撥液性領域とからなる濡れ性パターンを有し、上記親液性領域に着色層を形成したカラーフィルタの修正方法であって、上記撥液性領域に付着した着色層形成用塗工液を除去することを特徴とするカラーフィルタの修正方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing process of the FRP molding A having a pattern comprising placing a nonwoven fabric 2 composed of a white polyester resin between a transparent resin layer 1 composed of an SMC material not containing toner and glass fibers and a patterned resin layer 3 composed of a patterned or colored SMC material, and laminating them by heating and compression to obtain an integrated body.例文帳に追加

トナーとガラス繊維とを含有しないＳＭＣ材料からなる透明樹脂層１と、柄入りまたは着色されたＳＭＣ材料からなる模様樹脂層３との間に白色のポリエステル樹脂からなる不織布２を挟んで加熱下に加圧し、積層、一体化することを特徴とする模様を有するＦＲＰ成形品Ａの製造方法。 - 特許庁

Since an interval between the vibrator 16 and the dummy pattern 26 becomes the same as a fixed interval between the second silicon layer 12 and the vibrator 16, a damping effect by a sealing medium 41 on the cap part 20 side of the vibrator 16 and a damping effect by the sealing medium 41 on the second silicon layer 12 side can be uniformized.例文帳に追加

これによると、振動子１６とダミーパターン２６との間の間隔が、第２シリコン層１２と振動子１６との間の一定の間隔と同じになるので、振動子１６のキャップ部２０側の封止媒体４１によるダンピング効果と第２シリコン層１２側の封止媒体４１によるダンピング効果とを均一にすることができる。 - 特許庁

To make operation possible in a light room, and to enhance handleability, resolution, adhesiveness and storage stability and to make possible formation of a pattern high in density and precision and freedom by forming a photosensitive resin layer containing an infrared absorbing dye between a transparent organic support and an organic protective layer.例文帳に追加

明室下での作業が可能で取扱性に優れる上に、解像性、密着性、保存安定性にも優れ、設備投資、環境安全面の問題がなく、多品種少量生産、短納期化に対応可能な半導体レーザー等の直接描画により、高密度かつ微細で自由度の高いパターン形成が可能な感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

To prevent a stress at wire bonding, etc. to be applied to a minute wiring pattern in a first multilayer wiring structure, in a semiconductor integrated circuit device comprising a first multilayer wiring structure using a low dielectric constant inter-layer insulating film and a second multilayer wiring structure using an inter-layer insulating film of larger dielectric constant formed thereon.例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜を使った第１の多層配線構造とその上に形成されたより誘電率の大きい層間絶縁膜を使った第２の多層配線構造とを有する半導体集積回路装置において、ワイヤボンディングなどの際の応力が第１の多層配線構造中の微細な配線パターンに印加されるのを抑制する。 - 特許庁

Concerning a wiring board 100 having a flexible printed wiring layer 22, this wiring board has an electrode 10 having a contact electrically connected with the wiring pattern of the flexible printed wiring layer 22 and an electrode electrically connected with an electric component 18, and rigid printed wiring layers 24 for holding the electrode between themselves.例文帳に追加

フレキシブルプリント配線層２２を有する配線基板１００において、フレキシブルプリント配線層２２の配線パターンと電気的に接続された接触部と、電気部品１８と電気的に接続する電極部とを有する電極１０と、接触部を挟み込んで電極を保持するリジットプリント配線層２４とを有することを特徴とする配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a display device in which formation of an organic layer onto an auxiliary wiring can be prevented without reducing an aperture ratio of a pixel at pattern-forming the organic layer on the lower part electrode by a contact transcription method, and in which improvement of display performance is enabled to be improved by preventing voltage drop of the upper part electrode by this.例文帳に追加

接触転写法によって下部電極上に有機層をパターン形成する際に、画素の開口率を低下させずに補助配線上への有機層の形成を防止でき、これにより上部電極の電圧降下を防止して表示性能の向上を図ることを可能とした表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A carbon-contained film serving as a source of carbon and oxygen is brought into contact with the surface of a Cu wiring pattern where a Cu-Mn alloy layer is formed on a sidewall, which is thermally treated so that Mn atom in the Cu-Mn alloy layer reacts with the carbon atom and oxygen atom from the carbon source, thereby forming an Mn oxide film containing carbon as a barrier film.例文帳に追加

Ｃｕ−Ｍｎ合金層を側壁に形成したＣｕ配線パターンの表面に、炭素および酸素源となる炭素含有膜を接触させ、熱処理により、前記Ｃｕ−Ｍｎ合金層中のＭｎ原子と前記炭素源からの炭素原子と酸素原子を反応させ、炭素を含むＭｎ酸化物膜をバリア膜として形成する。 - 特許庁

In the pixel formation area preformed on a transparent substrate, an ink layer is formed by selectively sticking the curable color ink of ≥40 wt.% in solid-component density which contains a pigment and a curable component with an ink jet method, and the ink layer is cured by light irradiation and/or heat irradiation to form a prescribed pattern.例文帳に追加

透明基板上に予め形成される画素形成領域に、顔料および硬化可能な成分を含む固形分濃度が４０重量％以上である硬化性カラーインクを、インクジェット法によって選択的に付着させて、インク層を形成し、該インク層を、光照射および／または熱照射によって硬化させて所定のパターンを形成する。 - 特許庁

In an optical disk master production device 20, a resist substrate 103 is obtained by depositing an inorganic resist material made of incomplete oxides of transition metal on a substrate 100 to form a resist layer 102, and the resist layer 102 is irradiated with singular output light LE to be selectively exposed in accordance with a desired rugged pattern.例文帳に追加

光ディスク用原盤製造装置２０は遷移金属の不完全酸化物からなる無機レジスト材料を基板１００上に成膜してレジスト層１０２を形成しレジスト基板１０３を得て、当該レジスト層１０２に特異出力光ＬＥを照射し所望の凹凸パターンと対応した選択的な露光を施し感光させる。 - 特許庁

The method for forming an image is carried out by using the above photoresist in steps of forming a photoresist layer on a substrate, irradiating the photoresist layer with light through a mask corresponding to a specified pattern, developing the photoresist film with a developing solution containing an alkali and removing the exposed part to form a positive image.例文帳に追加

更に、本発明によれば、基材上にフォトレジスト層を形成し、所望のパターンに対応するマスクを介して上記フォトレジスト層に光照射した後、得られたフォトレジスト膜をアルカリを含む現像液で現像し、露光部を除去して、ボジ型画像を形成する画像形成方法において、上記フォトレジストを用いる方法が提供される。 - 特許庁

The copper-clad laminate 5 is constituted by adhering a metal foil 2 for a circuit pattern on one surface of an insulating base material 1, forming a metal layer 3 for electrically shielding on the other surface, and then laminating the base material 1 so that the metal layer 3 is opposed to at least one surface of a circuit base material 4 via an adhesive material or the like.例文帳に追加

銅張積層板５は、絶縁性ベース材１の一方の面に回路パターン用の金属箔２を張り付け、他方の面に電気シールド用の金属層３を形成した後、接着材等を介して回路基材４の少なくとも一方の面に金属層３が対向するように絶縁性ベース材１を張り合わせることにより構成される。 - 特許庁

On a substrate having a group pattern, magnetic films are laminated in such a laminating order as a magnetic wall movement layer comes on the front side, and this magnetic film surface is etched by sputtering accelerated ions made incident thereto from the direction perpendicular to the substrate, and the magnetic wall movement layer on the group side is selectively etched and removed by making use of ionic incident angle dependency of a sputtering rate.例文帳に追加

グルーブパターンを有する基板上に、磁壁移動層が表面側になるような積層順で磁性膜を積層し、この磁性膜表面を、基板に垂直な方向から入射する加速イオンによってスパッタエッチングし、スパタリング率のイオン入射角依存性を利用してグルーブ側部の磁壁移動層を選択的にエッチング除去する。 - 特許庁

A film or a laminated film formed of simple substance or composite compound of Si oxide, AlN, or Al_2O_3 is formed as an electrical insulating inorganic compound film 6 on both the upper and lower surface of a polyimide film 1, respectively, a Cu layer 4 is formed at least on the upper inorganic compound film 6, and the Cu layer 4 is formed into a prescribed interconnect line pattern.例文帳に追加

ポリイミドフィルム１の両側の表面に、電気絶縁性の無機化合物膜６として、Ｓｉの酸化物、ＡｌＮ、Ａｌ_2Ｏ_3単体又はこれらの複合化合物あるいは積層膜を形成し、その少なくとも片面側の上記無機化合物膜６上にＣｕ層４を形成し、該Ｃｕ層を所定の配線パターンに形成する。 - 特許庁

Two kinds of 1st and 2nd mask layers 1 and 2 which have a large etching selection ratio are laminated and cut along the laminating direction to form a mask substrate and the 1st mask layer 1 is selectively etched by using a resist pattern as an etching mask to form a mask having a mask opening (beam transmission part) C determined by the film thickness d1 of the 1st mask layer 1.例文帳に追加

エッチング選択比の大きい２種類の第１および第２のマスク層１，２を積層し、積層方向に沿って切断することによりマスク基板を形成し、レジストパターンをエッチングマスクとして第１のマスク層１を選択的にエッチングすることで、第１のマスク層１の膜厚ｄ１によって決まるマスク開口（ビーム透過部）Ｃを有するマスクが形成される。 - 特許庁

To solve the problems such as the decrease in a pattern resolution which may occur during the forming of second and later layers when a multi- layer circuit board is manufactured by an ordinary MCM-D process and the decrease in the flatness of the layer and to achieve the purpose at a low cost without necessitating a polishing process or the like in a damascene method.例文帳に追加

多層回路基板の製造方法に関し、通常のＭＣＭ−Ｄプロセスで多層回路基板を作製するに際し、第２層以後の作製時に発生するパターン解像度の低下や各層に於ける平坦性低下の問題を解消し、ダマシン法に於ける研磨プロセスなどを必要とすることなく、低コストで目的を達成しようとする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminated body with high reliability on adhesion especially under high temperature and high humidity and the laminated body manufactured by the method and a multi-layer circuit board manufactured by forming a circuit pattern thereon in a film, especially not only substrates for semiconductor packages and the multi-layer circuit board but also the laminated bodies in electronic and electric industrial fields.例文帳に追加

フィルム、特に半導体パッケージ用サブストレートや多層回路基板を始めとする電子・電気工業分野での積層体において、特に高温高湿下における接着信頼性の高い積層体の製造方法、及びそのような方法で製造された積層体やそれに回路パターンを形成した多層回路基板を提供する。 - 特許庁

A metallic film 13 has a plurality of openings 14 arranged in a regular pattern satisfying a super-oscillation condition and is inserted between the auxiliary low refractive index layer 17 of the first multilayer film 11 and the auxiliary low refractive index layer 17 of the second multilayer film 12 at such a position that the light quantity distributed to the optical axis direction of the incident light does not become the maximum.例文帳に追加

金属膜１３は、スーパーオシレーション条件を満足する規則的なパターンで設けられた複数の開口部１４を有し、第１多層膜１１の補助低屈折率層１７と第２多層膜１２の補助低屈折率層１７との間における入射光の光軸方向に分布する光量が極大とならない位置に挿入される。 - 特許庁

In the patterned aluminum sheet, an aluminum substrate of a lower layer and an aluminum perforated sheet of an upper layer having opening parts consist of a clad sheet integrated by the clad rolling, and a pattern is formed over the entire surface of the clad sheet by providing an anodically oxidized film of different tone on the surface of the perforated sheet and the surface of the substrate exposed in the opening parts.例文帳に追加

下層のアルミニウム基板と開口部を備えた上層のアルミニウム開口板とがクラッド圧延により一体化されたクラッド板から成り、開口板の表面および開口部内に露出した基板の表面に、異なる色調の陽極酸化皮膜を備えたことにより、クラッド板の表面全体に模様が形成されている模様付アルミニウム板。 - 特許庁

A solar cell polarizing plate 21 includes: a grid-like film 31 where a plurality of fine recesses and protrusions having predetermined pitches or smaller are formed in a stripe pattern; lower layer wiring 33 provided along bottom surfaces of the recesses of the grid-like film 31; and photoelectric conversion layers 34 which are disposed in contact with the lower layer wiring 33 and have elongated shapes along the recesses of the grid-like film 31.例文帳に追加

ソーラセル偏光板２１は、所定のピッチ以下の微細な複数の凹部および凸部が縞状に形成された格子状フィルム３１と、格子状フィルム３１の凹部の底面に沿って設けられた下層配線３３と、下層配線３３に接して配置され、格子状フィルム３１の凹部に沿った細長い形状の光電変換層３４とを備える。 - 特許庁

Then the insulating material layer is removed secondarily by a normal wet etching method or a dry etching method, to a prescribed protruded thickness from the surface of the semiconductor substrate, namely a thickness equal to the insulating material layer which is removed at intermediate treatment process, after removing the CMP cut-off pattern and before forming a gate oxide film is left.例文帳に追加

次に、半導体基板の表面から所定の突出した厚さ、すなわち、ＣＭＰ遮断パターンを除去してからゲート酸化膜を形成する前までの中間処理工程時に除去される絶縁物質層の厚さに該当する厚さが残るまで絶縁物質層を通常のウェットエッチング法またはドライエッチング法により２次的に除去する。 - 特許庁