「on the bias」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

At this time, a correction amount is read from a table depending on whether the lapse of time is ≥60 s or <60 s, and corrects the developing bias on the basis of the number of the rounds and the correction amount (step S7).例文帳に追加

このとき、経過時間が６０秒以上であるか６０秒未満であるかによって補正量をテーブルから読み込み、周回数と補正量に基づいて現像バイアスを補正する（ステップＳ７）。 - 特許庁

At least a part of each on the bistable device and the bistable memory element is composed of an organic microcrystal, and an organic bistable layer is incorporated which changes the resistance depending on the bias voltage, thus assuring the characteristic control capability, low-cost fabrication and reduced variation in the characteristics.例文帳に追加

少なくとも一部が有機微結晶で構成され、バイアス電圧に応じて抵抗値が変化する有機双安定層を有することにより、特性制御が可能で、安価に作製でき、かつ特性ばらつきが少なくなる。 - 特許庁

Therefore, when the oscillation current of the differential couples M1 and M3 on one side is increased by the difference of DC bias voltages V1 and V2, the oscillation current of the differential couples M2 and M4 on the other side is decreased and oscillation is stopped.例文帳に追加

したがって、直流バイアス電圧Ｖ１，Ｖ２の差によって、一方の差動対Ｍ１，Ｍ３の発振電流が増加すると、他方の差動対Ｍ２，Ｍ４の発振電流が減少して発振を停止する。 - 特許庁

The pressing force of a bias spring 43 acts to the left on a valve element 33 while the pressing force of a thermosensitive spring 40 acts to the right on the valve element 33, which lies at a standstill when the two pressing forces are balanced.例文帳に追加

バイアスバネ４３の押圧力が弁体３３に対し左方に作用し、感温バネ４０の押圧力が弁体３３に対し右方に作用し、両者の押圧力がバランスし、及び弁体３３は停止している。 - 特許庁

The surface potential at the irradiated part on the photoreceptor drum 110 is recovered toward the primary electrification direction by the recovery bias voltage applied on the primary transfer roller 113.例文帳に追加

一次転写ローラ１１３に印加された回復バイアス電圧は、感光体ドラム１１０の照射部分の表面電位を一次帯電の方向に回復させる。 - 特許庁

Because the ionized vapor deposition material flies toward the bias electrode 63, a thin film 12 having a film thickness nearly identical with that on the surface 10A of the substrate 10 can be deposited also on the side wall 11A of the hole 11.例文帳に追加

イオン化された蒸着物質は、バイアス電極６３に向かって飛翔するため孔１１の側壁１１Ａにも基板１０の表面１０Ａと略同一の膜厚の薄膜１２が形成される。 - 特許庁

On the insulation film 22 containing the interconnections 23 in the semiconductor substrate 21 including the interconnections 23 on the insulation film 22, a thin protection film 24 is formed without applying a substrate bias voltage, and thereafter the interlayer insulating film 25 is formed.例文帳に追加

絶縁膜２２上に配線２３を有する半導体基板２１に配線２３を含む絶縁膜２２上に、基板バイアスを印加させることなく薄い保護膜２４を形成してから、層間絶縁膜２５を形成する。 - 特許庁

A nozzle 10 arranged with a bias electrode 6 and an image electrode 7 on the wall surface thereof is employed, a counter electrode 11 is disposed in front of the forward end opening of the nozzle 10, a voltage is applied to the bias electrode 6 arranged on the wall surface of the nozzle 10, and a voltage of the opposite phase is applied to the counter electrode 11.例文帳に追加

ノズル１０として、その壁面にバイアス電極６と画像電極７とを配設したノズル１０を用い、ノズル１０の先端開口の前方に対向電極１１を配設し、ノズル１０の壁面に配設したバイアス電極６に電圧を印加するとともに、対向電極１１にバイアス電極とは反対位相の電圧を印加する。 - 特許庁

Then, the toner discharge length is set up based on the computed average character printed rate, and the repeating cycles are set up to apply the cleaning bias based on the toner discharge length.例文帳に追加

次に、算出された平均印字率に基づいてトナー吐出長が設定され、トナー吐出長に基づいてクリーニングバイアスを印加する際の繰り返しサイクル数が設定される。 - 特許庁

A conductive roll capable of rotating while abutting on the belt 3 is used as the bias applying member 5A, and a cleaning member 6 cleaning the surface of the conductive roll (5A) while abutting on the surface thereof is installed.例文帳に追加

バイアス印加部材５Ａとして転写搬送ベルト３に当接して回転し得る導電性のロールを使用し、この導電性のロール（５Ａ）の表面に当接してそのロール面を清掃する清掃部材６を設置した。 - 特許庁

On the side of a data line driving circuit of the display panel for performing matrix driving of the dual mode display element, a bias voltage to be superimposed on the gradation potential according to the display mode is selected.例文帳に追加

また、デュアルモード表示素子をマトリクス駆動するディスプレイパネルのデータ線駆動回路側において、その表示モードに応じて階調電位に重畳されるバイアス電位を選択する。 - 特許庁

The varied DC bias thereby varies the effect of plasma on one portion of the substrate 22 relative to the effect of plasma on another portion of the substrate.例文帳に追加

それにより、変えられたＤＣバイアスが、基板２２の一部分に対するプラズマの効果を、基板の別の部分に対するプラズマの効果に関して変える。 - 特許庁

The sensor has a first silicon nitride layer having the thickness of about 1 to 5 nm on side edges of the sensor and on regions of a bottom shielding layer adjacent to the sensor below a ferromagnetic bias layer of the sensor.例文帳に追加

センサは、センサの側縁上で、およびセンサの強磁性バイアス層の下でセンサに隣接する下遮蔽層の領域上で、約１〜５ｎｍの厚さを有する第１の窒化ケイ素層を有する。 - 特許庁

On the other hand, on the side of an address line driving circuit, the value of an inverse voltage to be applied to a non-selected line according to the display mode is set in correspondence with the bias voltage.例文帳に追加

一方、アドレス線駆動回路側においても、その表示モードに応じて非選択ラインに印加する逆電圧の値を上記のバイアス電位に対応させて設定する。 - 特許庁

The parameter for image density control, for example, laser power in an exposure device, potential by electrification on the surface of the photoreceptor drum 17 and developing bias potential of the developing device 20 are controlled based on the detected result.例文帳に追加

その検知結果に基づいて、画像濃度制御パラメータ、例えば、露光装置におけるレーザパワー、感光ドラム１７表面の帯電電位、現像装置２０の現像バイアス電位等を制御する。 - 特許庁

A driving current generates a specified voltage on a capacitor upon the memorizing state and, upon the emission state, a bias is applied onto a transistor and the organic light emission diode by utilizing the specified voltage on the capacitor.例文帳に追加

記憶状態時に駆動電流がコンデンサ上に特定の電圧を発生し、放出状態時にはコンデンサ上の特定電圧を利用してトランジスタと有機発光ダイオード上にバイアスを印加する。 - 特許庁

The temperature measuring device mounts a rotation member 31 through the hinges on both the sides of the support plate 23 respectively, assembles springs on each hinge, and bias so as to rotate the rotation member 31 upward.例文帳に追加

支持板２３の両側に、それぞれ蝶番を介して、回動部材３１を取り付けると共に、各蝶番にばねを組み込んで、回動部材３１を上向きに回動するよう付勢する。 - 特許庁

When a bias voltage is applied to a fixing roller 2 in ceramic coating is applied on the surface thereof, the surface potential on the fixing roller 2 becomes higher than the surface potential of the pressure roller 8, and an electric field is formed between both rollers.例文帳に追加

表層がセラミックコーティングされている定着ローラ２にバイアス電圧が印加されると、定着ローラの表面電位が加圧ローラ６の表面電位より高くなり、両ローラ間に電界が形成される。 - 特許庁

The sub piston 52 is structured so as to be usually biased on the rear end side by a bias force of the second spring 51, the counterweight 50, and air inside the air chamber 55 so as to be abutted on a cum 54.例文帳に追加

サブピストン５２は、第２バネ５１の付勢力、カウンタウェイト５０、及び空気室５５内の空気により、常に後端側へ付勢されカム５４に当接するように構成されている。 - 特許庁

Therein, the quantity of dimensional bias is set to be a dimensional error portion on the irradiation amount which allows a dimensional change with respect to the amount of beam irradiation on the drawing to come to the minimum.例文帳に追加

このとき、寸法バイアス量は描画時のビーム照射量に対する寸法変化が最小となる照射量での寸法誤差分に設定する。 - 特許庁

The transmission side 1 superimposes an 'H' level of the clock signal on a '0' level of the data signal and also superimposes an 'L' level of the clock signal and a DC bias on a '1' level of the data signal.例文帳に追加

送信側１では、データ信号の「０」にクロック信号の「Ｈ」を重畳し、データ信号の「１」にクロック信号の「Ｌ」を重畳すると共に直流バイアスを重畳する。 - 特許庁

On the other hand, the magnetic field from the coil M/Dv and a magnetic field from a bias magnet 40 are mutually added on the left side of the figure, and saturation is enhanced and reactance is further reduced.例文帳に追加

一方、図の左側では、コイルＭ／Ｄｖよりの磁界とバイアスマグネット４０からの磁界が足され、飽和が進みリアクタンスは更に減少する。 - 特許庁

A shape memory alloy spring 30 is provided on the lower side of the frame body 28, and a bias spring 33 holding the movable lens part 27 at a predetermined position at ordinary time is provided on the upper side of the frame body 28.例文帳に追加

枠体２８の下側に形状記憶合金ばね３０を設け、上側に、通常時に可動レンズ部２７を所定位置に保持するバイアスばね３３を設ける。 - 特許庁

The method of forming a coating on a substrate comprises: a step where the plasma of a coating material is generated; a step where the plasma is vapour-deposited on the substrate; and a step where a bias (smaller than -1,500 V) is applied to the substrate.例文帳に追加

本発明の基材を被膜する方法は、被膜材料のプラズマを発生させる工程と、該プラズマを基材上に蒸着させる工程と、該基材に-1,500V以下のバイアスを印加する工程と、を含む。 - 特許庁

In the device, the difference in potential of distribution of potential on an image carrier is ≥50 V when an image exposure light is consecutively radiated on the image carrier after electrifying and developing process is carried out at developing bias where the effect of the electric field can be markedly received.例文帳に追加

帯電後の像担持体に、像露光光を連続照射した際の、像担持体上での電位分布の電位差が５０Ｖ以上あり、電界の効果を顕著に受け易い現像バイアスで現像処理をおこなう。 - 特許庁

We do not recommend this generator because of the large bias produced in the pseudorandom number output distribution (same as the one used for an attack on DSA, which uses the PRNG for DSA in FIPS PUB 186-2 Appendix 3) depending on the parameter. 例文帳に追加

パラメータによっては擬似乱数出力分布について、PRNG for DSA in FIPS PUB 186-2 Appendix 3 を利用した DSA に対する攻撃に使われたと同様の大きな偏りが生じるので推奨できない。 - 経済産業省

In a three dimensional loom which weaves a multiaxial three dimensional fabric by guiding a bias yarn 2 released from a beam 7 with a piece 6 and moving the piece in a predetermined weaving pitch by pitch, a tension-reducing means 9 for reducing the tension of the bias yarn 2 between the beam 7 and the piece 6 is installed on a yarn route on the upstream side of the piece 6.例文帳に追加

ビーム７から解舒されるバイアス糸２を駒６で案内し、その駒６を所定の織成送りピッチづつ移動させて多軸三次元織物を織製する三次元織機１において、上記駒６の上流側の糸道上に、駒６を移動させるときに上記ビーム７と駒６間のバイアス糸２のテンションを弱めるテンション低減手段９を設けたものである。 - 特許庁

When a potential having image information is supplied to a gate of the driving TFT depending on the video signal, a reverse bias voltage is applied to the driving TFT and the light emitting element which are connected in series with each other and when a pixel displays an image depending on the video signal, a forward bias voltage is applied to the driving TFT and the light emitting element.例文帳に追加

ビデオ信号に従って駆動用ＴＦＴのゲートに画像情報を有する電位を与える際に、直列に接続されている駆動用ＴＦＴと発光素子に逆方向バイアスの電圧を印加し、ビデオ信号に従って画素が表示を行なう際に、駆動用ＴＦＴと発光素子に順方向バイアスの電圧を印加する。 - 特許庁

A method 400 modifying the bias generator includes metal programming either or both of the MP pull-up transistor and the MP pull-down transistor, such that the respective ON resistance of the metal-programmed transistor is combined with an effective ON resistance of the bias generator circuit.例文帳に追加

バイアス発生器を修正する方法４００は、メタル・プログラミングされたトランジスタの各オン状態抵抗が、バイアス発生器回路の実効オン状態抵抗と組み合わされるように、ＭＰプルアップ・トランジスタおよびＭＰプルダウン・トランジスタの一方または両方をメタル・プログラミングすることを含む。 - 特許庁

The semiconductor snubber 200 includes a capacitor 210 formed at least on one end side of the substrate region during reverse bias of the reflux diode 100, a resistance 220 including a part of the substrate region, and a reverse blocking diode 222 formed on at least a part of the substrate region so as to be in a reverse blocking state with respect to forward bias of the reflux diode 100.例文帳に追加

半導体スナバ２００は、還流ダイオード１００の逆バイアス時に少なくとも前記基板領域の一端側に形成されるキャパシタ２１０と、基板領域の一部を含む抵抗２２０と、還流ダイオード１００の順バイアスに対して逆阻止状態となるように、基板領域の少なくとも一部に形成された逆阻止型ダイオード２２２とを含む。 - 特許庁

The radiation detector comprises a substrate; a plurality of pixel electrodes 19 provided on the substrate at an interval mutually; a photoconductive layer 20 that is provided on the substrate while being in contact with the pixel electrodes and includes a plurality of crystals 31 for converting to charge with a level corresponding to the intensity of incident radiations; and a bias electrode layer capable of applying a prescribed bias voltage to the photoconductive layer.例文帳に追加

放射線検出器は、基板と、基板上に互いに隙間を置いて配設された複数の画素電極１９と、画素電極に接して基板上に設けられ、入射される放射線の強度に対応する大きさの電荷に変換する複数の結晶３１を含む光導電層２０と、光導電層に所定のバイアス電圧を印加可能なバイアス電極層とを備えている。 - 特許庁

The image forming apparatus for forming the image on a conveyed paper S (recording sheet) includes a photoreceptor on which an electrostatic latent image is formed, a developing roller which carries a developer and to which a developing bias is applied, to perform development for supplying the developer to the electrostatic latent image, and a controller which controls the developing bias applied to the developing roller.例文帳に追加

搬送される用紙Ｓ（記録シート）に画像を形成する画像形成装置であって、静電潜像が形成される感光体と、現像剤を担持し、現像バイアスが印加されることで現像剤を静電潜像に供給する現像を行う現像ローラと、現像ローラに印加する現像バイアスを制御する制御装置とを備える。 - 特許庁

This integrated circuit device comprises a comparator 1 having a reverse amplifier 2, a sampling capacitor 3 for holding a potential Vi1 of a first input signal In1, the bias source 4 of the reverse amplifier 2, a sampling switch 5 turned on during the sampling operation, a comparison switch 6 turned on during the comparing operation, and a bias switch 7 for setting the operating point of the reverse amplifier 2.例文帳に追加

コンパレータ１を、反転増幅器２と第１の入力信号Ｉｎ１の電位Ｖｉ１を保持しておくためのサンプリングコンデンサ３、反転増幅器２のバイアス源４、サンプリング動作時にオンするサンプリング用スイッチ５、コンパレート動作時にオンするコンパレート用スイッチ６、及び反転増幅器２の動作点を設定するためのバイアス用スイッチ７を含んで構成する。 - 特許庁

This rotation detector is equipped with the rotor 20 provided, as a detecting object on rotation, on a rotary shaft 21 which rotates while being supported by a housing 10 having a bearing, a semiconductor chip 30 having the magnetic sensing element for sensing a change in the magnetic field in the vicinity of the rotor 20, and a bias magnet 40 for giving a bias magnetic field to the sensing element.例文帳に追加

回転検出装置は、軸受を有するハウジング１０により支持されつつ回転する回転軸２１に該回転の検出対象として設けられるロータ２０と、該ロータ２０の近傍にて磁界の変化を感知する磁気感知素子を有する半導体チップ３０と、磁気感知素子にバイアス磁界を付与するバイアス磁石４０とを備えている。 - 特許庁

A light receiving element 16b outputs a photocurrent receiving light emitted from the semiconductor light emitting device 10, modulating current setting signals based on the photocurrent outputted from the light receiving element 16b are supplied to the modulated current source 30c, and bias current setting signals based on the above photocurrent are supplied to a bias current source 30d through the intermediary of one or more diodes 44.例文帳に追加

変調電流源３０ｃには、半導体発光素子１０からの光を受けた受光素子１６ｂからの光電流に基づく変調電流設定信号が供給され、バイアス電流源３０ｄには上記の光電流に基づくバイアス電流設定信号が１以上のダイオード４４を介して供給される。 - 特許庁

The developing device develops an electrostatic latent image formed on the surface of a photoreceptor drum by laser exposure under a condition that developing bias is applied to a developing sleeve with the toner in two-component developer carried on the developing sleeve.例文帳に追加

現像装置は、現像スリーブ上に担持した２成分現像剤中のトナーにより、現像スリーブに現像バイアスの印加下に、感光ドラムの表面に形成されたレーザ露光による静電潜像を現像する。 - 特許庁

When the switch 17 is turned on (control terminal Ict is grounded), a resistor R5 is parallel connected with a resistor R4 and the bias voltage impressed to the gate of the transistor Q2 becomes higher one on two stages.例文帳に追加

スイッチ１７がオン（制御端子Ictが接地の場合）、抵抗Ｒ５は抵抗Ｒ４と並列に接続され、トランジスタＱ２のゲートに印加されるバイアス電圧が２段階のうち高い方になる。 - 特許庁

The toner quantities on the individual test patterns of a monochromatic color, a secondary color and a ternary color being held on the intermediate transfer body 18 are detected with a density sensor 25 by changing image forming conditions such as laser power, developing bias values or the like.例文帳に追加

レーザパワー、現像バイアス値等の画像形成条件を可変させて中間転写体１８上に保持された単色、二次色、三次色のテストパターンのトナー量を濃度センサ２５で検出する。 - 特許庁

An RF power source 48 is coupled to each of the electrodes 44, 46 for biasing the electrodes, so that each of them is operable for creating a DC bias on a substrate 22 positioned on the surface of the substrate support 20.例文帳に追加

ＲＦパワー源４８が各電極４４、４６に結合されて、電極をバイアスし、それにより電極は、支持表面２０に位置決めされた基板２２にＤＣバイアスを生じるように動作可能である。 - 特許庁

The apparatus for controlling a magnetic field strength of a bias coil 27 at a focal point of a lens during recording on a medium includes a first controller 14 for determining a distance between the focal point of the lens and a reference point on the recording medium.例文帳に追加

媒体上に記録する間にレンズの焦点でのバイアスコイル２７の磁界強度を制御する装置は、記録媒体上のレンズの焦点と基準点との間の距離を決定する第1制御器１４を含む。 - 特許庁

This developing device is provide with antenna electrodes 40a, 40b and 40c of N pieces (N≥2) for detecting remaining quantity of the developer in the developing vessel 11 by detecting the change of electrostatic capacity, based on a developing bias voltage applied on the developer carrier 12.例文帳に追加

現像剤担持体１２に印加した現像バイアス電圧により、静電容量の変化を検知して現像容器１１内の現像剤の残量を検知するためのＮ個（Ｎ≧２）のアンテナ電極４０ａ、４０ｂ、４０ｃを設ける。 - 特許庁

In the case where a desired image quality is not obtained even after the development bias is adjusted within the predetermined range, data on a charging potential and data on an amount of exposure, which are stored in a setting section 18, are altered to improve the image quality.例文帳に追加

現像バイアスを所定範囲で調整しても所望の画質を得られない場合には、画質を改善する方向に設定部１８中の帯電電位のデータおよび露光量のデータを変更する。 - 特許庁

Image density control parameter, for instance, laser power in an exposure device, potential by electrification on the surface of the photoreceptor drum 17 and the developing bias potential of a developing device 20 or the like are controlled based on a detected result.例文帳に追加

その検知結果に基づいて、画像濃度制御パラメータ、例えば、露光装置におけるレーザパワー、感光ドラム１７表面の帯電電位、現像装置２０の現像バイアス電位等を制御する。 - 特許庁

With respect to this MR element, a bias magnet is previously mounted on a sensor chip part of the MR element and then the whole thereof is formed into a mold package, thereby reducing a positioning error on the magnet and the effect thereon of magnet temperature.例文帳に追加

ＭＲ素子には、あらかじめＭＲ素子のセンサチップ部にバイアスマグネットを装着させたうえで全体をモールドパッケージ化にすることで、マグネットの位置決め誤差と、マグネットの温度による影響を軽減する。 - 特許庁

A moment M acts on the connector pin 2 so as to incline its center axis C relative to the tube 1 by a resilient force F of the coil spring 3 acting on the bias position S.例文帳に追加

偏倚位置Ｓに作用するコイルばね３の弾発力Ｆによって、コネクタピン２の中心軸線Ｃをチューブ１に対して傾けるようなモーメントＭが作用する。 - 特許庁