「pattern electrode」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

The metal plate 2, an insulating layer 3, and an electrode 4 are pressure-bonded before both the surfaces of a substrate are subjected to resist patterning, thus manufacturing an electrode pattern and the groove of the periphery of the metal plate 2 simultaneously by etching, and then performing cutting along the groove or punching for dividing into a plurality of pieces.例文帳に追加

また、金属板２と絶縁層３と電極４を圧着後、基板両面のレジストパターニングを行って、エッチングにより電極パターンと同時に金属板２の周縁部の溝を作製し、その後、溝に沿った切削加工又は打ち抜き加工をし複数個に分割する。 - 特許庁

In this state, voltage is applied between the electrode 40 and the conductive film 22, and while the distance is kept unchanged, the relative position of the electrode 40 and the metal oxide film 23 is changed, and the specific resistance of the metal oxide film 23 is locally changed so that a circuit pattern can be formed.例文帳に追加

この状態で電極４０と導電膜２２との間に電圧を印加するとともに、距離を保持したまま電極４０と金属酸化物膜２３との相対位置を変化させ金属酸化物膜２３の比抵抗を局所的に変化させることにより回路パターンを形成する。 - 特許庁

In a SAW resonator 1, a SAW resonance element 7 with an electrode pattern comprising reflectors 4a, 4b, an IDT 5 and a pad electrode 6 formed on the surface of the piezoelectric substrate 3 is bonded to the internal mounting surface of the package 2 in a cantilever manner by using an adhesive 8.例文帳に追加

ＳＡＷ共振子１は、パッケージ２の内部実装面に、圧電基板３の表面上に反射器４ａ、４ｂとＩＤＴ５とパッド電極６とからなる電極パターンを形成したＳＡＷ共振素子７を、接着剤８を用いて片持ち状態で接合している。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition capable of manufacturing an electrode pattern in a low manufacturing cost in spite of having high physical properties such as high workability, high degeneration resistance, high conductivity, and high oxidation resistance, and to provide an electrode and a green sheet using the photosensitive paste composition.例文帳に追加

優れた加工性，耐変質性，高導電性，および耐酸化性などのような優れた物性を有しながらも，低い製造費用で電極パターンを製造することができる感光性ペースト組成物，感光性ペースト組成物を用いた電極およびグリーンシートを提供する。 - 特許庁

Paste for an electrode which is blended in an ultraviolet curing resin while having viscosity of 89 Pa second or a thixotropic degree of 1.36 or more and a silver content of 71-80 mass% is printed on a glass substrate, and is cured by irradiating an ultraviolet ray from both sides of the glass substrate to form an electrode pattern.例文帳に追加

粘度が８９Ｐａ・秒またはチキソ性の度合いが１．３６以上で銀含有量が７１〜８０質量％で紫外線硬化性樹脂に配合した電極用のペーストをガラス基板上に印刷し、両面側からの紫外線照射により硬化させて電極パターンを形成する。 - 特許庁

On a semiconductor substrate, an element active region, where an insulated gate field effect transistor is formed, is enclosed with a channel element isolation region, with the gate electrode pattern being thicker in the region striding the channel element separation region of the gate electrode of the insulating gate field effect transistor.例文帳に追加

半導体基板上であって絶縁ゲート電界効果トランジスタの形成される素子活性領域が溝素子分離領域で囲繞され、絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート電極の溝素子分離領域を跨る領域で上記ゲート電極パターンの寸法が太くなっている。 - 特許庁

To provide an integrated circuit element and its manufacturing method for making the surface area of an electrode increased, by forming a capacitor lower electrode in a symmetrically half-cylindrical shape within an intaglio pattern with a small aspect ratio and also for securing a thin filming margin and an etching margin.例文帳に追加

縦横比が小さい陰刻パターン内に、キャパシタ下部電極を対称的な半シリンダ型で形成することによって、電極の表面を増加させると同時に、薄膜化限界とエッチングマージンを確保することができる集積回路素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Nitrogen is newly introduced in the gate insulating film 3 nearby an end of the gate electrode 5 by carrying out nitriding processing in an atmosphere containing nitrogen after a polysilicon film 4 is bonded onto the gate insulating film 3 and the gate electrode 5 is patterned in a pattern and before the source-drain region 9 is formed.例文帳に追加

ゲート絶縁膜３上に、ポリシリコン膜４を被着してゲート電極５パターンにパターンニングした後、ソース・ドレイン領域９を形成する前に、窒素を含む雰囲気中で窒化処理を行って、ゲート電極５端部付近のゲート絶縁膜３中に新たに窒素を導入する。 - 特許庁

At least a part of a region corresponding to a hollow portion G in a conductive pattern layer 17 is displaceable with respect to a substrate surface by means of an electrostatic actuator including a lower electrode 121, an upper electrode 122 and a drive voltage supplier 19.例文帳に追加

導電体パターン層１７における中空部Ｇに対応する領域の少なくとも一部分が、下部電極１２１、上部電極１２２および駆動電圧供給部１９からなる静電アクチュエータによって、基板面に対して変位可能となっているようにする。 - 特許庁

The conductor paste is favorably applied to form the address electrode of PDP manufactured in such a manner that a partition of a predetermined pattern is formed by chemical etching performed with the address electrode covered with the protective layer (for example, a resist layer formed by dry film resist).例文帳に追加

かかる導体ペーストは、アドレス電極を保護層（例えばドライフィルムレジストにより形成されたレジスト層）で覆った状態で行われる化学エッチングによって所定パターンの隔壁を形成する態様で製造されるＰＤＰのアドレス電極を形成する用途に好適である。 - 特許庁

In the transparent solar cell module and its manufacturing method, nano crystal oxide film of which pigment is adsorbed and nano particle platina metal thin film are alternately coated on a conductive film pattern of a transparent substrate to produce a lower electrode plate and an upper electrode plate, respectively.例文帳に追加

本発明は、透明太陽電池モジュール及びその製造方法に関し、透明基板の導電性フィルムパターンに色素が吸着されたナノ結晶酸化物フィルムとナノ粒子プラチナ金属薄膜フィルムを交互にコーティングして下部及び上部電極板を各々製造する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electrode catalyst layer with mechanical strength maintained, with a gas diffusion property improved in a pattern shape in a thickness direction toward a polymer electrolyte film, and with a high effective utilization factor of catalyst, in the electrode catalyst layer for a polymer electrolyte fuel cell.例文帳に追加

固体高分子型燃料電池用電極触媒層において、機械的強度を保ちつつ、高分子電解質膜に対して厚さ方向にパターン状にガス拡散性が向上し、触媒の有効利用率が高い電極触媒層の製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the generation of a notch on a sidewall of a penetrating electrode with certainty to realize stability of quality and reliability in a semiconductor apparatus having a field region with a dummy pattern formed on a semiconductor substrate and in which the penetrating electrode crossing over the field region is formed.例文帳に追加

半導体基板に形成されたダミーパターンを有するフィールド領域を有し、このフィールド領域をよぎる貫通電極が形成される半導体装置において、貫通電極の側壁に生じるノッチの発生を確実に防止することにより、品質および信頼性の安定性を図る。 - 特許庁

The substrate 4 has a circuit pattern 6a packaging circuits 7b provided on the installation surface to the dielectric 1 and has an outer radiation electrode 6b and an inner circuit grounded electrode 6a, which are connected in at least one position, provided on a surface opposite to the installation surface to the dielectric 1.例文帳に追加

基板４は、誘電体１への設置面に、回路部品７ｂを実装する回路パターン部６ａ及び、誘電体１への設置面とは反対の面に、少なくとも一箇所で接続される外側の放射電極部６ｂと内側の回路接地電極部６ａとを備える。 - 特許庁

After a gate oxide film 4 and a gate electrode film 5 are formed on a P-type semiconductor substrate 1, a highly concentrated impurity diffusion region 7 is formed by implanting highly concentrated N-type impurity ions using a first masking means 6a having a pattern width wider than that of a gate electrode 5a as a mask.例文帳に追加

Ｐ型半導体基板１上に、ゲート酸化膜４及びゲート電極膜５を形成後、ゲート電極５ａよりもパターン幅を拡げて形成された第１マスク手段６ａをマスクとして、高濃度のＮ型不純物イオンを注入して高濃度不純物拡散領域７を形成する。 - 特許庁

To provide an inkjet head in which processing and forming a fine electrode wiring pattern are easily performed, which has a thermal expansion coefficient close to the thermal expansion coefficient of a head chip, and in which a driving electrode provided in a channel can be connected with the external wiring from the back end of the head chip by using a wiring substrate excellent in ink resistance.例文帳に追加

加工や微細な電極配線パターンの形成が容易であり、かつ、ヘッドチップの熱膨張係数に近く、かつ、耐インク性に優れた配線基板を用いて、ヘッドチップの後端からチャネル内に設けた駆動電極と外部配線との接続ができるインクジェットヘッドの提供。 - 特許庁

Electrode paste, whose binder is a resin with a thermosetting temperature lower than a thermosetting temperature of binder resin of the resistor layer 21 and a glass transition temperature, is subjected to pattern formation in the surface of the resistor layer 21 and the resin is thermally set, thus forming an electrode layer 22.例文帳に追加

次に前記抵抗体層２１のバインダー樹脂の熱硬化温度およびガラス転移温度よりも低い熱硬化温度を有する樹脂をバインダーとした電極ペーストを、前記抵抗体層２１の表面にパターン形成し、前記樹脂を熱硬化させて電極層２２を形成する。 - 特許庁

In the thin-film solar cell module having a conductive metal oxide layer, a photoelectric conversion layer, and a back electrode on a translucent insulating substrate, the finger electrode of a preset pattern of a narrow line width for reducing the resistance loss of the conductive metal oxide layer is provided.例文帳に追加

透光性絶縁基板上に、導電性金属酸化物層と、光電変換層及び裏面電極とを有する薄膜系太陽電池モジュールにおいて、導電性金属酸化物層の抵抗損を低減する、線幅の細く予め設定したパターンのフィンガー電極が設けられる。 - 特許庁

To securely manufacture a laminated ceramic electronic component which is free of a decrease in coverage of an internal electrode, a short-circuit defect etc., and having high reliability by preventing an internal electrode pattern from being attacked by a solvent in ceramic slurry when a ceramic green sheet is formed by applying the ceramic slurry.例文帳に追加

セラミックスラリーを塗布してセラミックグリーンシートを形成する際に、内部電極パターンがセラミックスラリー中の溶剤によってアタックされることを防止して、内部電極のカバレッジの低下やショート不良などがなく、信頼性の高い積層セラミック電子部品を確実に製造することを可能にする。 - 特許庁

Subsequently, a third hydrogen barrier film 104 is deposited to cover the exposed ferroelectric film 4 and then the ferroelectric film 4 and lower electrode film 30 are etched sequentially to form the pattern of the ferroelectric film 4 and a lower electrode 3 self-aligned therewith.例文帳に追加

露出した強誘電体膜４を覆って第３の水素バリア膜１０４を堆積し、この上に形成したマスクを用いて強誘電体膜４及び下部電極膜３０を順次エッチングして、強誘電体膜４とこれに自己整合された下部電極３をパターン形成する。 - 特許庁

When an internal electrode layer 15 is arranged such that the secondary internal electrode 15 is provided for every other layer and included only in the same profile pattern, minute positional shift of the secondary internal electrodes 15 can be prevented between respective layers.例文帳に追加

このため内部電極層において、二次側内部電極１５を１層おきに設置する構成として、同一の形状パターンにのみ二次側電極１５が含まれる構成とすれば、各層間での二次側内部電極１５の相互の微小な位置ずれを防止することができる。 - 特許庁

On the surface side of the transfer electrode of a vertical shift register composed of polysilicon constituting a vertical transfer electrode group, a wiring pattern 50 having a metallic or metal silicide auxiliary wiring and an extra wiring of lower resistance than polysilicon is formed.例文帳に追加

垂直転送電極群を構成している多結晶シリコンからなる垂直シフトレジスタの転送電極の表面側には、多結晶シリコンよりも低抵抗である金属または金属シリサイド製の補助配線及び付加配線を有する配線パターン５０が形成されている。 - 特許庁

This light emitting device (optical semiconductor device) 1 includes: a semiconductor package 10 with a light emitting element 11 mounted thereon; and the wiring board 30 formed with a wiring pattern 32 for electrically connecting one electrode terminal 23b and the other electrode terminal 23c of the semiconductor package 10 thereto.例文帳に追加

この発光装置（光半導体装置）１は、発光素子１１が搭載された半導体パッケージ１０と、半導体パッケージ１０の一方電極端子２３ｂおよび他方電極端子２３ｃが電気的に接続される配線パターン３２が形成された配線基板３０とを備えている。 - 特許庁

To provide an anisotropic conductive connector in which required electric connection is certainly achieved regardless of electrode pattern or even if the pitch of the electrode is minute and highly dense, and the manufacturing cost is small, and its manufacturing method, and an electric inspection device of an adaptor and a circuit device.例文帳に追加

電極パターンに関わらず、或いは、電極のピッチが微小で高密度であっても、所要の電気的接続が確実に達成され、製造コストの小さい異方導電性コネクターおよびその製造方法、アダプター装置並びに回路装置の電気的検査装置を提供する。 - 特許庁

An orifice plate 58 is formed on the uppermost layer of a heating part 52, a common electrode 53, a discrete interconnection electrode 54, an ink supply trench 55, an ink supply hole 56, a barrier wall 57, and the like, formed on a chip substrate 51 and a metal mask film 63 is formed thereon by sputtering thus forming a pattern 63-1.例文帳に追加

チップ基板５１上の発熱部５２、共通電極５３、個別配線電極５４、インク供給溝５５、インク供給孔５６、隔壁５７等の最上層にオリフィス板５８を積層し、この上にメタルマスク膜６３をスパッタ成膜しパターン６３−１を形成する。 - 特許庁

The ceramic heater is formed by arranging a main heater pattern 2 composed of a main heating part 21, a pair of main electrode parts 22 supplying power to the main heating part 21, and a lead part 23 electrically connecting the main heating part 21 and the main electrode parts 22 on a heater base board.例文帳に追加

メイン発熱部２１と、メイン発熱部２１に電力を供給するための一対のメイン電極部２２と、メイン発熱部２１とメイン電極部２２とを電気的に接続するリード部２３とからなるメインヒータパターン２を、ヒータ基板上に形成してなるセラミックヒータ１。 - 特許庁

A split mask part and an end mask part, and a metal vapor deposition electrode having a split pattern formed of a plurality of split electrode parts and a plurality of fuse parts are successively formed on the dielectric film 12 wound around the first rotary drum 44.例文帳に追加

それにより、第一の回転ドラム４４に巻き掛けられた誘電体フィルム１２に対して、分割マスク部及び端部マスク部と、複数の分割電極部及び複数のヒューズ部からなる分割パターンを有する金属蒸着電極とを、順次形成し得るように構成した。 - 特許庁

Subsequently, a polymerization liquid of a conductive polymer is poured into a polymerization bath 19 having an electrode 16 provided therein, the metal supporting board 15 is immersed in the polymerization liquid, and a voltage is applied so that the electrode 16 may become an anode 12 and the conductive pattern 4 may become a cathode 13.例文帳に追加

次いで、電極１６が設けられている重合槽１９に、導電性ポリマーの重合液を注入し、この重合液に金属支持基板１５を浸漬して、電極１６が陽極１２となり、導体パターン４が陰極１３となるように電圧を印加する。 - 特許庁

Successively, by changing the position on the substrate 1a where a solvent for exfoliating the mask layer 15 is supplied toward the edge of the substrate 1a while turning the substrate 1a, a source electrode and a drain electrode each having a prescribed pattern are formed on the substrate from a conductive film 19.例文帳に追加

引き続いて基板１のエッジに向けて、マスク層１５を剥離するための溶剤が提供される基板１ａ上の位置を基板１を回転させながら移動すると、所定のパターンを有するソース電極及びドレイン電極を基板上に導電膜１９から形成する。 - 特許庁

To provide a flip-chip type semiconductor light-emitting device, capable of improving the finish of a solder layer that, is interposed between each electrode pad of a semiconductor light-emitting device and an electrode pattern of a mounting substrate, when flip-chip mounting the semiconductor light-emitting device is to be mounted on the mounting substrate.例文帳に追加

半導体発光素子を実装基板上にフリップチップ実装する際に、半導体発光素子の各電極パッドと実装基板の電極パターンとの間に介在される半田層の仕上がり向上を可能とするフリップチップ型半導体発光素子を提供する。 - 特許庁

When electrostatic attraction is generated between the movable part 4 and the driving fixed electrode 8, the movable part 4 is displaced toward the driving fixed electrode 8 by using the top parts of the bent parts 17 as support points, and distances between the fixed conductor patterns 3a and 3b and the movable conductor pattern 7 are increased.例文帳に追加

可動部４と駆動用固定電極８との間に静電引力が発生すると、湾曲部分１７の頂部を支点として可動部４が駆動用固定電極８側に変位して、固定導体パターン３ａ，３ｂと可動導体パターン７間の間隔が広がる。 - 特許庁

A work piece 15 is placed on a lower electrode 3 with a dielectric body 42 in between down with the surface on which a circuit pattern is formed, and plasma is generated in a vacuum chamber 1 to which the lower electrode 3 is provided, so that a stress layer on the surface on which a mechanical grinding process is performed is etched to remove.例文帳に追加

回路パターンの形成面を下面にして誘電体４２を介在させてワーク１５を下部電極部３上に載置し、下部電極部３が設けられた真空チャンバ１内にプラズマを発生させることにより、機械研削処理が施された表面のストレス層をエッチングして除去する。 - 特許庁

Since it is not required to provide the terminal connection electrode land 8 to the front side of the circuit board corresponding to the terminal electrodes 2(2A, 2B) not used for external connection, a wiring pattern 10 or the like is formed to the front side of the circuit board on which the terminal connection electrode land 8 is omitted.例文帳に追加

外部接続不使用の端子電極２に対応する回路基板表面部分には端子接続用電極ランド８を設けなくて済むので、その端子接続用電極ランド８を省略した回路基板表面部分に配線パターン１０などを形成する。 - 特許庁

A ceramic slurry is applied to one surface (application surface) of the carrier film 10 and then dried, and further, a ceramic green sheet is laminated on which an internal electrode pattern is printed; and then the laminate is burned to form a ceramic sintered body, and an external electrode is formed on the outer surface of the ceramic sintered body.例文帳に追加

キャリアフィルム１０の片面（塗布面）にセラミックスラリーを塗布し、乾燥させ、その上に内部電極パターンを印刷したセラミックグリーンシートを積層して積層体を形成し、積層体を焼成してセラミック焼結体を形成し、セラミック焼結体の外表面に外部電極を形成する。 - 特許庁

On the first substrate 1, a part of a plurality of first and second wiring patterns 9, 11 connected to the first transparent electrode group 4 and the second transparent electrode group 5 is set so as to make the pitch of adjacent wiring patterns multiples of natural numbers of the minimum wiring pattern pitch P.例文帳に追加

この第１の基板１上に、第１の透明電極群４及び第２の透明電極群５に接続する複数の第１及び第２の配線パターン９、１１の一部を、隣接しあう配線パターンのピッチが最小となる配線パターンピッチＰの自然数倍に設定した。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electrode catalyst layer keeping mechanical intensity, and having a high gas dispersion property in a pattern shape in a thickness direction to a polyelectrolyte membrane, and a high effective utilization factor of a catalyst, in an electrode catalyst layer for a solid polyelectrolyte fuel cell.例文帳に追加

固体高分子電解質型燃料電池用電極触媒層において、機械的強度を保ちつつ、高分子電解質膜に対して厚さ方向にパターン状にガス拡散性が高く、触媒の有効利用率が高い電極触媒層の製造方法を提供する。 - 特許庁

The producing method uses a plating die, on which an electrode region corresponding to the collector 10 and an insulation region corresponding to the holes 101 are pattern-formed, for selectively depositing a copper thin film in the electrode region with electric plating and peeling the thin film from the plating die.例文帳に追加

製造方法は、集電体１０に対応する電極領域と、孔１０１に対応する絶縁領域とをパターン形成しためっき金型を使用して、電気めっきにより、電極領域に選択的に銅の薄膜を析出させたのち、薄膜をめっき金型からはく離する。 - 特許庁

After etching the first sacrifice layer, the electrode metal layer and the insulating film using the resist 5 as a mask, the resist 5 is removed to form a pattern of the laminated material of the insulating film 2, the electrode metal layer 3, and the first sacrifice layer 4 on the first diamond semiconductor region 1.例文帳に追加

そして、レジスト５をマスクとして、第１の犠牲層、電極金属層及び絶縁膜をエッチングした後、レジスト５を除去することにより、第１のダイヤモンド半導体領域１の上に、絶縁膜２と電極金属層３と第１の犠牲層４との積層体をパターン形成する。 - 特許庁

To provide an electrode inspection method capable of stably and surely detecting, not only a flaw detected by an conventional method but also flaws of all forms overlooked in the conventional method, with respect to an electrode having a repeated pattern that continuously change in pitch.例文帳に追加

連続的にピッチが変化する繰り返しパターンを持つ電極に対して、従来方法でも検出できていた欠陥はもとより、従来方法では見逃していたあらゆる形態の欠陥についても、安定して確実に検出することができる電極検査方法を提供する。 - 特許庁

To obtain an optical semiconductor device having an electrode pad surface, whose size makes improvement of light leading-out efficiency and high efficiency of a bonding process compatible with each other, without causing troubles in that a P-N junction is shorted by alignment deviation when an electrode pattern is formed, and a manufacturing method of the device.例文帳に追加

電極パターン形成時のアラインメントずれによりＰＮ接合間がショートされるといったトラブルを起こさず、光取出効率の向上とボンディング工程の効率化を両立させる大きさの電極パッド面を持つ光半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent defective plating due to an electrode set in the surface to be plated of a semiconductor substrate and, at the same time, to prevent insufficient continuity between the electrode and a current film, in a method for manufacturing semiconductor device including a step of forming a wiring pattern on the semiconductor substrate by a plating method.例文帳に追加

半導体基板上にメッキ法によって配線パターンを施す工程を含む半導体装置の製造方法において、半導体基板の被メッキ面に突き立てた電極によるメッキ不良を防止するとともに、電極とカレントフィルムとの間の導通不良を防止する。 - 特許庁

To provide a fringe field switching liquid crystal display in which alignment distortion of a liquid crystal is improved and a rubbing mark in the edge of a pixel electrode or generation of a boundary line can be prevented by changing a curved pattern of the edge of the pixel electrode into a straight line.例文帳に追加

画素電極のエッジ部を曲線形状から直線形状に変更することにより、液晶の配向歪みを改善し、画素電極のエッジ部に発生するラビングの跡、境界線の発生を防止することができるフリンジフィールドスイッチング液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescent element, and its manufacturing method, which can prevent short-circuiting between a positive electrode layer and a negative electrode layer and can aim at improvement of production efficiency and reduction of manufacturing cost by easily forming any luminescent pattern.例文帳に追加

発光効率が高く、陽電極層と陰電極層との間のショートを防止可能であり、しかも、任意の発光パターンを容易に形成して生産効率の向上や、製造コストの低減が可能な有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A hard mask layer pattern for demarcating a recess region is formed on a semiconductor substrate 310, a recess channel structure 340 is formed by selectively etching the semiconductor substrate with the hard mask layer pattern serving as an etching mask, the hard mask layer pattern is removed to expose the semiconductor substrate 310 including the recess channel structure 340, and a gate electrode 364 is formed so as to fill the recess channel structure.例文帳に追加

半導体基板３１０にリセス領域を画成するハードマスク層パターンを形成し、ハードマスク層パターンを食刻マスクに半導体基板を選択食刻してリセスチャンネル構造３４０を形成し、ハードマスク層パターンを除去してリセスチャンネル構造３４０を含む半導体基板３１０を露出し、リセスチャンネル構造を埋め込むゲート電極３６４を形成する。 - 特許庁

The planar electrode for an organic electronic device comprising, on a substrate, a conductive thin metal line pattern containing metal nanoparticles, and a conductive-polymer-containing layer on the thin metal line pattern is characterized in that the conductive-polymer-containing layer contains at least a conductive polymer and a corrosion inhibitor and is laminated on the thin metal line pattern.例文帳に追加

基材上に、金属ナノ粒子を含む導電性の金属細線パターンと該金属細線パターン上に導電性ポリマー含有層とを有する有機電子デバイス用面状電極において、該導電性ポリマー含有層は少なくとも導電性ポリマーと腐食防止剤とを含有し、かつ該金属細線パターン上に積層されていることを特徴とする有機電子デバイス用面状電極。 - 特許庁