「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(422ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming a thin film by spin coating in which a thin film having a uniform film thickness can be obtained by suppressing uneven coating even if a pattern having a large level difference and large area possibly causing uneven coating exists on a substrate.例文帳に追加

基板上に塗布ムラを発生させる虞のある大きな高低差、大きな面積を有するパターンが存在していても、薄膜形成における塗布ムラを抑制し、膜厚が均一な薄膜が得られる回転塗布による薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal polishing fluid which can realize a high polishing speed ratio between a foundation barrier layer and an insulating layer, can realize high surface uniformity and high flatness, and can form the flush pattern of a metal film with high reliability, and to provide a polishing method using the fluid.例文帳に追加

下地のバリア層及び絶縁膜層との高い研磨速度比を発現し、高い面内均一性及び高平坦化を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属研磨液及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which exhibits excellent temporal stability while having adequate quenching function, and in particular, which can prevent occurrence of sensitivity abnormality due to temporal change in storage, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

クエンチング機能を十分に有しつつ、組成物の経時安定性が良好であり、とりわけ、保管中の経時変化による感度異常を防止することのできる感光性樹脂組成物及び当該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor device that can improve the planarity of an interlayer insulating film, without causing increase in the number of manufacturing steps, by forming an interlayer insulating film having the optimum film thickness, according to the height and interval of a pattern.例文帳に追加

パターンの高さおよび間隔に応じた最適な膜厚で層間絶縁膜を形成することにより、製造工程数を増加させることなく層間絶縁膜の平坦度を向上させることができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition for liquid immersion lithography excellent in solubility of resist materials, a resist pattern forming method using the resist composition for liquid immersion lithography, and a fluorine-containing resin useful as an additive for use in the resist composition for liquid immersion lithography.例文帳に追加

レジスト材料の溶解性に優れた液浸露光用レジスト組成物、該液浸露光用レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法および当該液浸露光用レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素化合物を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical waveguide structure which has broad design flexibility of a pattern shape in each of an electric circuit and an optical circuit, is capable of forming an optical path having high dimensional accuracy by a simple method and has an optical waveguide excellent in durability.例文帳に追加

電気回路と光回路のそれぞれにおいてパターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高い光路を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing PDP by which components of PDP excellent in pattern profile (such as a dielectric layer, barrier ribs, electrodes, a resistive element, a phosphor, color filters and a black matrix) can be suitably formed with excellent workability, and to provide a transfer film.例文帳に追加

作業性に優れ、かつパターン形状に優れたＰＤＰの構成要素（例えば、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス）を好適に形成することができるＰＤＰの製造方法および転写フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which a protective film pattern for suppressing a transparent electrode film and a reflective electrode film from disappearing by an electric corrosion reaction to cause a defective display is formed in a transflective liquid crystal display device, and to provide a manufacturing method of the semiconductor device.例文帳に追加

半透過型液晶表示装置において、透明電極膜と反射電極膜とが電食反応により消失し、表示不良となることを抑制するための保護膜パターンが形成された半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition mask capable of reducing deviations of a test pattern by reducing changes in precision of a width of an opening to be possibly generated, by supporting the mask in a manner of applying tensile force thereto, and to provide a manufacturing method of the organic EL element and the organic EL element.例文帳に追加

マスクに引張力を加えるように支持することによって発生する恐れがある開口部幅の精度変化を減らしてパターンの偏差を減らしうる蒸着マスク、これを利用した有機ＥＬ素子の製造方法及び有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

To provide a production method that allows processing steps of photo-resist (PR) coating, exposure and development to be cut down so that the production process can be simplified as a whole, and also allows a circuit pattern of a printed circuit board to be formed finely and precisely through fewer steps and in a shorter time.例文帳に追加

フォトレジスト(ＰＲ)塗布、露光、現像工程を減らすことができ、全体的に工程が単純化されるとともに、より少ない工程と時間で印刷回路基板の回路パターンを微細で正確に形成することができる製造方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern correction method, a projecting part 3a of a shape meeting the defective part 2a is formed in a film 3 and a correction paste 4 is applied to the projecting part 3a and the projecting part 3a is brought into contact with the defective part 2a to transfer the correction paste 4 to the defective part 2a.例文帳に追加

このパターン修正方法では、欠陥部２ａに応じた形状の突起部３ａをフィルム３に形成し、突起部３ａに修正ペースト４を塗布し、突起部３ａを欠陥部２ａに接触させて修正ペースト４を欠陥部２ａに転写させる。 - 特許庁

To provide a nano-imprint method by which can fill resin in accordance with the shape of a fine uneven pattern formed on a mold without requiring high pressing force or obstructing the filling of resin.例文帳に追加

本発明は、高い押圧を要することなく、樹脂の充填を阻害することなく、モールドに形成された微小な凹凸パターンに、その形状に忠実に追従して樹脂を充填させることを可能とするナノインプリント方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method with which the manufacturing man-hour can be reduced by reducing the numbers of ion implantation times and resist pattern formation times at manufacturing of a plurality of kinds (for example, two power supplying systems) of CMOS transistors additionally having ROM functions.例文帳に追加

ＲＯＭ機能を付加した複数種類（例えば２電源系）のＣＭＯＳトランジスタを製造するに際し、イオン注入の回数及びレジストパターン形成の回数を減らし、製造工数を削減することができる半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printing mask and a device for forming a pattern of an opening which enable reduction of impairment of an edge and deformation of an inner wall occurring in a perforated opening part of a mask material on the occasion when a perforating member such as a drill or a punch is extracted from the mask material.例文帳に追加

ドリル又はポンチなどの貫通加工用部材をマスク材から引き抜く際に、該マスク材の貫通開口部に生ずる縁の傷付きや内壁の変形を軽減することができる印刷用マスク製造方法及び開口パターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To obtain an optical unit for optical fusion, a unit capable of forming three or more optical spots in a desired array pattern and that facilitates displacement of optical spots and adjustment of optical energy distribution to each optical spot, and also to obtain an optical fusing apparatus and method.例文帳に追加

３以上の光スポットを所望の配列パターンに形成でき、光スポットの変位や、各光スポットへの光エネルギの配分の調整が容易である光溶着用光学ユニットの実現及びこれを用いた光溶着装置・光溶着方法を実現する。 - 特許庁

A method for forming the wiring pattern includes a step (A) of dropping a droplet having a diameter smaller than the first width and larger than second width onto the first area to form the conductive material layer covering both first and second areas.例文帳に追加

そして、配線パターン形成方法は、前記第１の幅以下かつ前記第２の幅以上の直径の液滴を前記第１領域に向けて吐出して、前記第１領域と前記第２領域とを覆う前記導電性材料層を形成するステップ（Ａ）を含む。 - 特許庁

The method for operating the computer input device with the context-awareness function includes steps for detecting sound source data from a sound source control module 104 of a computer system and driving an input device 114 based on the sound source data to generate a corresponding light emission pattern.例文帳に追加

コンテキストアウェアネス機能を備えるコンピュータ入力装置の操作方法は、コンピュータシステムの音源制御モジュール１０４からの音源データを検出するステップと、音源データを基に、入力装置１１４を駆動し、対応した発光パターンを生成するステップと、を含む。 - 特許庁

To provide a touch panel 100 having a protective plate 6 and a manufacturing method thereof, to bond the protective plate 6 by applying a liquid adhesive resin and easily and reliably prevent a transparent electrode pattern of a touch panel body 5 from being seen.例文帳に追加

保護板6を備えたタッチパネル100及びその製造方法において、接着剤樹脂液の塗布によって保護板6の貼り付けを実現するとともに、タッチパネル本体5の透明電極パターンが見えてしまうのを簡便かつ確実に防止することのできるものを提供する。 - 特許庁

To provide a field emission display element using a diamond type material that can form displaying pattern by enhancing the efficiency of electron emission from particular spots by forming no projection on the surface of substrate of silicon or the like, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

シリコン等の基板の表面に突起を形成することなしに、特定の個所からの電子放出効率を高めることによって、表示パターンを形成することができるダイヤモンド系材料を用いた電界放出表示素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a metallic wiring of a semiconductor element using a titanium aluminum nitride anti-reflection film for preventing reflection effectively and forming a minute metallic wiring pattern more accurately in an exposing step with short-wavelength light like DUV.例文帳に追加

ＤＵＶのような短い波長の光で実施する露光工程で效果的に反射を防止して微細金属配線パターンをより正確に形成できる、チタニウムアルミニウムナイトライド反射防止膜を利用した半導体素子の金属配線の形成方法を提供。 - 特許庁

In this method, a single crystal of diamond film 13 is formed along a specified pattern on a diamond growth substrate having a surface capable of epitaxial growth of diamond, for example, a diamond growth substrate which is a magnesium oxide substrate 10 on which an iridium layer 11 is formed.例文帳に追加

ダイヤモンドのエピタキシャル成長が可能な表面を有するダイヤモンド成長基板、例えば酸化マグネシウム基板１０上にイリジウム層１１が形成されたダイヤモンド成長基板に、所定のパターンに沿って単結晶のダイヤモンド膜１３が形成された構成とする。 - 特許庁

To stabilize an uneven pattern equal to or smaller than a diffraction limit by specifying conditions for stably patterning a photoresist layer when utilizing a hyper-resolution for an exposure beam in a method for forming fine patterns with contrast enhancement photolithography.例文帳に追加

コントラスト増強フォトリソグラフィ法で微細パターンを形成する方法において、露光ビームに超解像を利用する際に、フォトレジスト層に安定したパターン形成を行なうための条件を規定することにより、回析限界以下の凹凸パターン形状を安定させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an embossed sheet by which an embossed irregularity pattern can be imparted on the surface of a sheet stock with high precision and reliable reproducibility and an embossed product with outstanding design property can be manufactured at a high speed.例文帳に追加

シート状原反の表面に、エンボス凹凸模様を高い精度と良好な再現性とをもって付与することができ、意匠性に優れたエンボス製品を、高速度で製造することが可能なエンボスシートの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This method for manufacturing the antenna and antenna array having the desired beam width is applied to a polarization antenna for both single and double polarization and the radiation pattern of the radiation elements of the antenna is controlled and varied by arranging an adequately designed parasitic element nearby them.例文帳に追加

望ましいビーム幅でアンテナとアンテナ・アレイを製造する方法が、単一と二重の両方の偏波アンテナに適用されて、アンテナの放射素子の放射パターンを、それらの近くに適切に設計したパラスティック素子を配置することにより制御し変更する。 - 特許庁

The pattern matching method and apparatus for matching patterns between design data and an image acquired by a scanning electronic microscope, perform matching in each direction between an edge of the design data and that of an image acquired by the scanning electronic microscope.例文帳に追加

本発明は、設計データと走査型電子顕微鏡にて取得される画像との間でパターンマッチングを行うパターンマッチング方法及び装置であって、設計データのエッジと、走査型電子顕微鏡によって取得される画像のエッジ間で、方向別のマッチング処理を行う。 - 特許庁

To provide an image processing method for performing quantizing processing that avoids a pattern and sweeping characteristic to error diffusion or irregularity in density of dots in multipath recording in a relatively simple configuration without causing an increase in memory capacity and an increase in image processing load.例文帳に追加

メモリ容量の増大化や画像処理の負担を増大させることなく、比較的単純な構成で、誤差拡散特有の模様やはきよせ、あるいはマルチパス記録時のドットの粗密が回避されるような量子化処理を行う画像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for etching a multilayer electrically conductive film capable of uniformly etching the whole body of a multilayer electrically conductive film coposed of a silver series thin film and a transparent oxide thin film essentially consisting of indium oxide, suppressing residues and side etches and improving the pattern precision thereof.例文帳に追加

銀系薄膜３と酸化インジウムを主成分とする透明酸化物薄膜２とで構成される多層導電膜５の全体を均等にエッチングでき、残渣とサイドエツチが抑制され、そのパターン精度を向上させる多層導電膜のエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a printed circuit board capable of simplifying a manufacturing step and achieving a fine circuit pattern by simultaneously forming circuit patterns on both sides of a base substrate by adopting trenches to the both sides of the base substrate.例文帳に追加

ベース基板の両面にトレンチを形成することにより、両面に回路パターンを同時に形成することができるため、製造工程を単純化することができるとともに、微細回路パターンを実現することができるプリント基板の製造方法の提供。 - 特許庁

A focus adjustment method of arranging a beam scanning position for obtaining signals for focus adjustment differently from a beam scanning position for obtaining signals for pattern measurement in the same visual field region, as well as the charged particle beam device are proposed.例文帳に追加

上記目的を達成するために、同一視野領域内にて、フォーカス調整用信号を得るためのビーム走査位置と、パターン測定用信号を得るためのビーム走査位置とを違えて配置する焦点調整方法、及び荷電粒子線装置を提案する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the semiconductor device, a resist mask having an opening pattern whose aspect ratio is one or more is formed on one substrate of a first substrate constituting a semiconductor element, and a second substrate having a circuit wiring by using a dry film resist.例文帳に追加

半導体装置の製造方法において、半導体素子を構成する第１基板または回路配線を有する第２基板のいずれか一方の基板上に、ドライフィルムレジストを用いて、アスペクト比が１以上の開口パターンを有するレジストマスクを形成する。 - 特許庁

To provide a dicing apparatus and a dicing method for a semiconduc tor wafer which can cut a semiconductor wafer from the side opposite to the circuit pattern side, can simplify a manufacturing process of a semiconductor device, and can improve the productivity.例文帳に追加

半導体ウェハを回路パターン形成面の反対側からの切断を可能とし、半導体装置の製造工程を簡略化して生産性を向上させることができる半導体ウェハのダイシング装置およびダイシング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method and a device capable of confirming right or wrong of input from an operation confirmation sound pattern, in a case requiring a user to input a password or a number, for example password input to a terminal device of ATM and making it impossible to estimate the password from the operation confirmation sound.例文帳に追加

ユーザがパスワードや番号入力を要する場面、例えばＡＴＭの端末装置へのパスワード入力時に、操作確認音のパターンで入力の正誤を確認できるとともに、操作確認音からパスワードを推測不能な方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus that has a light emission section for increasing visibility at a subject person side and enabling expression rich in design and a plurality of light emission patterns and can select a different light emission pattern according to purposes, and to provide a light emitting method and a light emission program.例文帳に追加

被写体人物側での視認性を高めると共に意匠性に富んだ表現を可能とする発光部と複数の発光パターンを備え、目的により異なる発光パターンを選択可能な撮像装置、発光方法、及び発光プログラムの提供。 - 特許庁

To provide a printed wiring board and an inspecting method for printed wiring board such that matching precision of all layers including an internal-layer conductive pattern can be confirmed through single-time inspection after multilayering, and a deviation amount of an arbitrary layer can be digitized at the same time.例文帳に追加

多層化後に１度の検査によって内層導電パターン部を含む全層の合致精度を確認することができ、同時に任意の層のズレ量を数値化することが可能なプリント配線板とプリント配線板の検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an optical printer head which facilitates the mounting of a light emitting element array chip and a head substrate and can easily achieve the electrical connection between a connecting terminal electrode of the light emitting element array chip and a wiring pattern of the head substrate, and a method of manufacturing the optical printer head and an optical printer.例文帳に追加

本発明は、発光素子アレイチップとヘッド基板との搭載が容易となり、発光素子アレイチップの接続端子電極とヘッド基板の配線パターンとの電気的な接続が非常に容易に達成できる光プリンタヘッドおよびプリンタを提供することにある。 - 特許庁

The method for manufacturing the chip component with a number of chip bodies arrayed on a work plate 10 including a ceramic material comprising the steps of arraying holes 30 in the work plate 10 in a lattice pattern, and forming a cutting groove to the array for segmentalizing the holes 30.例文帳に追加

セラミック材料によるワーク板１０に多数のチップ体を配列状態に作り込むチップ部品の製造において、ワーク板１０には孔部３０を格子状に配列させて設け、当該孔部３０を分断する配列に切り込み溝を形成する。 - 特許庁

To provide a method for selecting a design and fabric corresponding to the taste of a customer, and for confirming a finish image based on this, and for manufacturing clothing by correcting a dress pattern based on the physique of the customer, and for quickly selling clothing with which the customer is satisfied.例文帳に追加

衣服の製造、販売において、顧客の好みのデザイン、生地を選択し、これによる仕上がりイメージを確認後、型紙を顧客の体型に基づき修正、衣服を製造し、クイックリーに客の満足する衣服を販売する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide printing quality controlling method and device in multiple type page imposed printing in which the ink supply or printing pressure in the multiple type page imposed printing can be automatically adjusted in response to the result of measurement obtained by measuring the thickness of an ink film and the amount of embossing of a picture pattern having embossing parts.例文帳に追加

エンボス部を有する図柄のインキ皮膜厚さやエンボス量を測定し、測定結果に応じて多面付け印刷でのインキ供給量や印圧を自動調整し得るようにした多面付け印刷の印刷品質管理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

An organic high-molecular film is formed as an insulating base (1) on one of the surfaces of a conductive sheet or a foil by a vapor deposition polymerization method, and a prescribed circuit pattern (3) is formed on the insulating base (1) by subjecting the conductive sheet or the foil to processing to form the printed board.例文帳に追加

導電性薄板又は箔の一方の面上に蒸着重合法により有機高分子膜を絶縁基体（1）として形成し、前記導電性薄板又は箔を加工して前記絶縁基体上に所定の回路パタ−ン（3）を形成したプリント基板。 - 特許庁

After first-layer wiring L1 having a conductor film 16d using aluminum as a main constituent is subjected to patterning by a dry etching method, a sidewall protection film 18 of the machining sidewall and a photoresist pattern 17a used as an etching mask are removed by plasma ashing treatment.例文帳に追加

アルミニウムを主成分とする導体膜１６ｄを有する第１層配線Ｌ１をドライエッチング法によってパターニングした後、その加工側壁の側壁保護膜１８およびエッチングマスクとして使用したフォトレジストパターン１７ａをプラズマアッシング処理によって除去する。 - 特許庁

To provide a print mask manufacturing method capable of suppressing significant disruption in a print pattern due to low removal performance of a print material from a through hole while avoiding the disruption in the shape of a through hole due to irradiation of laser for half-etching processes.例文帳に追加

ハーフエッチング加工用のレーザーを照射してしまうことによる貫通孔の形状の乱れを回避しつつ、貫通孔からの印刷材抜け性の悪さによる印刷パターンの著しい乱れを抑えることが可能な印刷マスク製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the stamper includes a process for forming a metal thin film on a stamper original plate provided with a rugged pattern on the surface layer thereof and a process for forming a nickel layer by electroplating the stamper original plate in a plating liquid consisting essentially of nickel sulfamate.例文帳に追加

スタンパの製造方法は、凹凸パターンを表層に備えたスタンパ原版に金属薄膜を形成する工程と、このスタンパ原版を用いてスルファミン酸ニッケルを主成分とするメッキ液中で電気メッキすることでニッケル層を形成する工程とを備える。 - 特許庁

In the method for manufacturing a semiconductor device having the DRAM region provided with a stacked capacitor and the logic region on a semiconductor substrate, etching is performed when a cell plate pattern is formed in such a manner that an upper capacitor electrode layer 124 is left at least partly in the logic region.例文帳に追加

半導体基板上にスタックキャパシタを有するＤＲＡＭ領域と、ロジック領域とを有する半導体装置の製造方法において、セルプレートパターン形成時に、ロジック領域にも少なくとも部分的に上部キャパシタ電極層１２４を残してエッチングする。 - 特許庁

The CPU 101 of the video camera 100 determines to which one of a plurality of predetermined patterns an action detected by the acceleration sensor 116 is applicable, and performs control so as to perform data communication by the method preliminary set in response to the determined pattern.例文帳に追加

ビデオカメラ１００のＣＰＵ１０１は、加速度センサ１１６により検出された挙動が予め定められた複数のパターンのいずれに該当するかを判別し、判別されたパターンに対応して予め設定された方法でデータ通信を行うよう制御する。 - 特許庁

To realize a method for calibrating the irradiation time of an electron beam in a variable area electron beam lithography system in which irradiation time error of the electron beam for a material being written can be corrected in the blanking operation of electron beam and a pattern can be written more accurately.例文帳に追加

電子ビームのブランキング動作における電子ビームを被描画材料に照射する時間の誤差を補正することが可能で、より正確なパターンを描画できる可変面積型電子ビーム描画装置における電子ビームの照射時間校正方法を実現する。 - 特許庁