「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(418ページ目) - Weblio英語例文検索

This imprinting method has a transfer process to press the roughened section of a mold structure against the resist layer to transfer the asperity pattern to the resist layer, and a surface modifying process to modify the surface by radiating either an ionizing radiation ray or a far-ultraviolet ray to the resist layer after forming the above asperity pattern to increase the carbon-carbon bonding density at least on the outermost surface of the resist layer.例文帳に追加

モールド構造体の凹凸部をレジスト層に押し付けて該レジスト層に凹凸パターンを転写する転写工程と、前記凹凸パターン形成後のレジスト層に電離性放射線及び遠紫外光のいずれかを照射して、該レジスト層の少なくとも最表面部分の炭素−炭素結合密度を増加させて表面改質する表面改質工程とを含むインプリント方法である。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which has high photosensitivity in laser exposure by using a photopolymerization initiator of a specific structure, in which the weight of the photoinitiator can easily be increased to a desired concentration because solubility is sufficiently high owing to a low melting point of the photoinitiator, and which is excellent in suitability to production, a photosensitive film using the composition, a high definition permanent pattern and a method for efficiently forming the pattern.例文帳に追加

特定構造の光重合開始剤を用いることにより、レーザー露光での高い光感度を有すると共に、該光重合開始剤は融点が低いので溶解性に余裕があるので、所望の濃度にまで容易に増量することができる、製造適性に優れた感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法の提供。 - 特許庁

In the illumination method generating a proximity field light by projecting an irradiation light 210 to a mask 201 having a mask pattern of micro openings not larger than the wavelength size on a mask base material, i.e. a transparent substrate, an illumination means generating the proximity field light is arranged to illuminate the boundary surface of the transparent substrate and the mask pattern with the irradiation light obliquely from the transparent substrate side.例文帳に追加

マスク母材である透明基板上に波長サイズ以下の微小開口によるマスクパターンを有するマスク２０１に、照射光２１０を入射させ近接場光を発生させる照明方法であって、前記照射光により、前記透明基板と前記マスクパターンとの境界面を、該透明基板側から斜めに照明するようにして、近接場光を発生させる照明手段を構成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a copper particulate sintered body type micro profile conductive body showing excellent conductivity by applying a reduction treatment to the copper particulates or oxidized copper particulates provided with a surface oxidized film layer in a pattern under comparatively low temperature after a detailed pattern is drawn by using dispersion liquid of copper particulates provided with surface oxidized film layers and then sintering the formed copper particulates.例文帳に追加

表面酸化膜層を有する銅微粒子の分散液を利用して、微細なパターン描画後、比較的に低い温度下において、パターン中の表面酸化膜層を有する銅微粒子または酸化銅微粒子に還元処理を施し、生成する銅微粒子を焼成して、優れた導電性を示す銅微粒子焼結体型の微細形状導電体を形成する方法の提供。 - 特許庁

The cleaning liquid: cleans the droplet discharging device discharging the conductor pattern forming ink used for formation of a conductor pattern by a droplet discharging method, the ink being prepared by dispersing metal particles in an aqueous dispersion medium; and contains ceramic particles and an aqueous dispersion medium that the ceramic particles disperse, with pH at least 0.1 and not more than 3.0.例文帳に追加

本発明の洗浄液は、液滴吐出方式による導体パターンの形成に用いられ、金属粒子が水系分散媒に分散した導体パターン形成用インクを吐出する液滴吐出装置を洗浄するための洗浄液であって、セラミックス粒子と、前記セラミックス粒子が分散する水系分散媒とを含み、ｐＨが０．１以上３．０以下であることを特徴とすることを特徴とする。 - 特許庁

A dielectric film made of a barium-titanate-based ceramic material is formed on a metal foil with an aerosol deposition method; first via conductors and second via conductors connected to the metal foil are embedded in the dielectric film; a first electrode pattern connected to the first via conductors is formed on the dielectric film; and a second electrode pattern connected to the second via conductors is formed by patterning the metal foil.例文帳に追加

金属箔上に、エアロゾルデポジション法により、チタン酸バリウム系セラミックス材料の誘電体膜を形成し、誘電体膜に、金属箔に接続された第１のビア導体及び第２のビア導体を埋め込み、誘電体膜上に、第１のビア導体に接続された第１の電極パターンを形成し、金属箔をパターニングし、第２のビア導体に接続された第２の電極パターンを形成する。 - 特許庁

In a method of manufacturing a semiconductor device, exposure is performed to form a resist pattern differing from a pattern in a chip region in an exposure range that includes a non-effective reference chip region adjacent to an effective reference chip region and does not include any effective chip regions and effective reference chip regions in a reference exposure process using a reduction projection type aligner in a photolithography process.例文帳に追加

本発明の実施形態に係る半導体装置の製造方法においては、フォトリソグラフィの工程において、縮小投影型露光装置を用いた基準露光工程において、有効基準チップ領域に隣接する無効基準チップ領域を含み、かつ有効チップ領域および有効基準チップ領域を含まない露光範囲で、チップ領域のパターンとは異なるレジストパターンを形成するように露光を行う。 - 特許庁

The inspection method for a photomask group for forming a drawing pattern by use of a plurality of photomasks includes: a photomask image obtaining step of obtaining photomask images of a plurality of photomasks; an image superimposing step of superimposing the photomask images to obtain a superimposed image; and an inspection step of inspecting influences of the superimposed image on the drawing pattern.例文帳に追加

複数のフォトマスクを使って描画パターンを形成するためのフォトマスク群の検査方法であって、複数のフォトマスクについてフォトマスク画像を取得するフォトマスク画像取得工程と、フォトマスク画像を重ね合わせ、重ね合わせ画像を取得する画像重ね合わせ工程と、重ね合わせ画像から描画パターンへの影響を検査する検査工程と、を備えることを特徴とするフォトマスク群の検査方法。 - 特許庁

To accurately detect an end point of plasma etching in a process of forming a pattern on an extreme ultraviolet absorption film, in a method of manufacturing a mask for extreme ultraviolet exposure including the process of forming a pattern on an extreme ultraviolet absorption film by performing plasma etching using a gas containing carbon (C) to the extreme ultraviolet absorption film using a substrate having the extreme ultraviolet absorption film formed of a material containing Ta and N.例文帳に追加

ＴａとＮを含有する材料からなる極端紫外線吸収膜を有する基板を用い、前記極端紫外線吸収膜に対して炭素（Ｃ）を含むガスを用いたプラズマエッチングを行うことにより、前記極端紫外線吸収膜にパターンを形成する工程を有する極端紫外線露光用マスクの製造方法において、前記工程でのプラズマエッチングの終点を高精度に検出する。 - 特許庁

The method of forming the fine flow channel 40 includes the processes of: forming a mask pattern 20 on a substrate 10; coating an exposed part 10a of the substrate 10 with noble metal particles 30; and forming the fine flow channel 40 on the surface of the substrate 10 by dipping the substrate 10 in an etching solution to etch the substrate 10 under the exposed part 10a of the substrate using the mask pattern 20 as a mask.例文帳に追加

基板１０上にマスクパターン２０を形成する工程と、貴金属微粒子３０を前記基板１０の露出部１０ａに塗布する工程と、前記基板１０をエッチング溶液に浸漬して前記マスクパターン２０をマスクとして前記基板の露出部１０ａ下部の基板１０をエッチングすることにより、前記基板１０表面に微細流路４０を形成する工程と、を含む微細流路４０の形成方法である。 - 特許庁

In this image forming method, a two-component developer consisting of toner and a carrier is used, a test pattern is developed after it is optically written on a photoreceptor, and the reflectance of the pattern is detected by a photosensor and then the toner replenishment of a developing device is performed based on the detected value.例文帳に追加

トナーとキャリアからなる２成分現像剤を用い、感光体上にテストパターンを光書き込みした後現像し、光センサによりパターンの反射率を検知し、その検知した値に基づいて現像器へのトナー補給を行う画像形成方法において、機器の再動作開始後、現像剤および感光体の電気特性が安定するまでの所定時間経過後、光センサによる検知を実行することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the structure having the uneven pattern includes a coating step of coating to a processing object a liquid (a) containing first particles and a matrix material composed of a material different from the first particles; a removal step of removing the first particles; and an etching step of forming the uneven pattern by etching a processing object with the matrix material as an etching mask.例文帳に追加

本発明の凹凸パターンを有する構造体の製造方法は、第一の粒子と、前記第一の粒子と異なる材料からなるマトリクス材とを含む液体（ａ）を被加工体上に塗布する塗布工程と、前記第一の粒子を除去する除去工程と、前記マトリクス材をエッチングマスクとして前記被加工体をエッチングして凹凸パターンを形成するエッチング工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To solve the following problem: disconnection or increase and unevenness in wiring resistance due to resist residue remaining in distribution holes, or impossibility of formation of a fine circuit pattern due to swelling by development, in forming a copper wiring circuit by a dual damascene method in which distribution holes are formed prior to formation of distribution grooves using ArF lithography capable of forming a fine pattern.例文帳に追加

微細パターン形成が可能なＡｒＦリソグラフィを用い、配線孔を配線溝に先だって形成するデュアルダマシン法で銅配線回路を作る場合、配線孔内に残るレジスト残渣の影響で断線や配線抵抗の増大およびバラツキが生じるという問題、あるいは現像膨潤によって微細回路パターン形成ができないという問題を解決することが本発明が解決する課題である。 - 特許庁

To provide a design support device and a design support method for multilayer substrate, capable of detecting and correcting a portion with high possibility of producing pattern failure from wiring design information of the multilayer substrate, without performing trial production of the multilayer substrate in a multilayer substrate formed by forming a laminate yielded, by laminating in layers a plurality of substrates having a wiring pattern and heating or pressurizing the laminate.例文帳に追加

配線パターンを備える複数の基板を層状に積層した積層体を形成し、その積層体を加熱又は加圧することによって形成される多層基板について、多層基板の試作を行うことなく、多層基板の配線設計情報からパターン不良を生じる可能性が高い部分の検出及び修正を行うことができる多層基板の設計支援装置及び設計支援方法を提供する。 - 特許庁

In this information recording, updating and storing method for synthesizing recognizable image information 15 having a specific meaning by overlapping an image sheet 3 having an image itself which does not have to have a specific meaning and another auxiliary sheet 6 having an optical pattern, at least either the image of the image sheet or the optical pattern of the auxiliary sheet can be updated.例文帳に追加

それ自体では特定の意味を持たなくてよい画像を有する画像シート３と、他の光学的パターンを有する補助シート６とを重ね合わせることにより、認識可能な特定の意味ある画像情報１５が合成される情報記録保存方法であって、該画像シートの画像と該補助シートの光学的パターンのうち、少なくともいずれかが更新可能であることを特徴とする情報記録更新保存方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the patterned medium includes a step for forming a pattern of a magnetic film having ruggedness corresponding to a track part, a servo part or a data part on the substrate having a shape having a hole at its center and a step for jetting a gas stream generated by diffusing a liquidized gas to the center hole of the substrate before or after the pattern of the magnetic film is formed.例文帳に追加

中心に孔を有する形状を持つ基板上に、トラックあるいはサーボ部あるいはデータ部に対応する凹凸をなす磁性膜のパターンを形成する工程と、 前記磁性膜のパターンの形成前または形成後に、液状化したガスを拡散させることで生じたガス流を前記基板の中心孔に対して噴射する工程とを含むことを特徴とするパターンド媒体の製造方法。 - 特許庁

To provide a probe in which a wiring pattern and a contact terminal sufficiently resist a peeling force in an inspection, which sufficiently resists a cleaning operation using a solvent such as ethanol or the like or a proper detergent, which increases a strength of a bonding place of the contact terminal to the wiring pattern and which prevents the contact terminal from falling and to provide a method of manufacturing the probe.例文帳に追加

配線パターンや接触端子が検査に際しての引き剥がし力に対して十分に耐え得ると共にエタノール等の溶剤や適当な洗剤を用いるクリーニングに対しても十分に耐え得ることができ、しかも、接触端子と配線パターンとの接合箇所の強度を高めることができて接触端子の脱落防止化を図ることができるプローブ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the method of manufacturing the filter substrate for liquid display, the first layer composed of the non-photosensitive resin is formed on a substrate on which a colored layer of a plurality of colors is formed in a pattern, further a second layer containing the photosensitive resin is laminated on the first layer and a pattern processing is performed, and at least the following steps are performed in the described order.例文帳に追加

複数色の着色層がパターン形成された基板上に非感光性樹脂からなる第１の層を形成し、さらにその上に感光性樹脂を含有する第２の層を積層してパターン加工を行う液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法であって、少なくとも下記の工程をこの順に行うことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルタ基板の製造方法。 - 特許庁

In the manufacturing method of a thin-film transistor which uses an oxide semiconductor for an active layer, by having a precursor thin film 6' of the oxide semiconductor which is formed before the precursor thin film is heated into a pattern, as an active layer, with the oxide semiconductor 6 formed by removing the remaining precursor thin film 6', to have a pattern 6 of the oxide thin film formed.例文帳に追加

酸化物半導体を活性層に用いた薄膜トランジスタの製造方法において、酸化物半導体の前駆体薄膜６’を形成したのち、該前駆体薄膜をパターン状に加熱することで、酸化物薄膜のパターン６を形成し、残存した前駆体薄膜６’を除去し形成した、酸化物半導体６を活性層に用いたことを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁

The pattern formation method includes the steps of: laminating a self-assembled monolayer and a polymer film on a substrate; chemically bonding the polymer film to the self-assembled monolayer with an irradiation of an energy ray, thereby forming a polymer surface layer on the self-assembled monolayer; and forming a polymer alloy having a pattern of a phase-separated structure on the polymer surface layer.例文帳に追加

基板上に自己組織化単分子膜とポリマー膜を積層する工程と、エネルギー線を照射することにより前記ポリマー膜と前記自己組織化単分子膜を化学結合させ、ポリマー表面層を前記自己組織化単分子膜上に形成する工程と、相分離構造のパターンを有するポリマーアロイを前記ポリマー表面層上に形成する工程と、を含むパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The solvent or solvent composition for pattern printing of an organic electroluminescence device is a solvent composition which is used when an element pattern constituting the organic electroluminescence device is formed by a printing method, and contains a compound in which one of two terminal alkyl groups of a dipropylene glycol dialkyl ether is a methyl group and the other is a 4 or 5C straight chain or branched chain alkyl group.例文帳に追加

本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスのパターン印刷用溶剤又は溶剤組成物は、有機エレクトロルミネッセンスデバイスを構成する素子パターンを印刷法により形成する際に使用する溶剤組成物であって、プロピレングリコールジアルキルエーテルの２つの末端アルキル基の一方がメチル基であり、もう一方が炭素数４又は炭素数５の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基である化合物を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an electrode pattern forming method capable of more stably and easily separating an electrode pattern comparing with the case of using a thin wire-shaped metal mask, due to the electrode patterning depending on the shrinkage of resin, without using the metal mask of high precision or without applying a complicated lithography when forming an element like an organic EL element or a semiconductor element on a circuit board.例文帳に追加

本発明の目的は、有機ＥＬ素子、半導体素子等の基板回路上に形成する素子について、高精度なメタルマスクの使用や複雑なフォトリソグラフィを行なうことなく、樹脂の収縮に基づく電極パターニングにより細線状のメタルマスクを使用する場合よりも安定にしかも簡易に電極パターンの分離を行なうことができる電極パターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

The method of manufacturing a metal film pattern forming body includes: forming a desired metal film pattern on one surface of a stamp by using a catalyst for activating a surface of a plastic base; activating the surface of the plastic base by transferring the catalyst formed on the surface of the stamp onto the surface of the plastic base; and plating the surface of the activated plastic base.例文帳に追加

本発明は、スタンプの一面にプラスチック表面を活性化するための触媒体を用いて所望の金属膜パターンを形成する段階と、上記スタンプの一面に形成された触媒体をプラスチックベースの表面に転写させ上記プラスチックベースの表面を活性化させる段階と、上記活性化されたプラスチックベースの表面にメッキする段階とを含む金属膜パターン形成体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a cotton fabric having an excellent design, showing a shrunk wrinkle pattern corresponding to an embroidery pattern using an unshrinkable yarn.例文帳に追加

本製造法では、シルケット加工されていない綿布に、上糸と下糸とから構成される刺繍柄（エンブロイダリー機によるもの、ミシン刺繍機によるものを含む）を、該上糸と下糸にそれぞれ、非収縮性の糸を用いて刺繍柄を設け（工程Ａ）、この綿布を非緊張状態にて苛性ソーダ溶液に浸漬し、綿布上に刺繍柄の形状に対応する収縮シワ柄を発現させ（工程Ｂ）、水洗し、酸溶液で中和処理する（工程Ｃ）。 - 特許庁

A method includes forming an imprint on a medium to be imprinted, having a pattern feature and a decreased thickness area, making a template contact the medium to be imprinted on a substrate, separating the template from an imprinted medium, and after the template has been separated from the imprinted medium, providing a layer of an etching resistance material in a pattern feature.例文帳に追加

インプリント方法が開示され、一実施例において、パターン・フィーチャと低減された厚みのエリアとを備えるンプリント可能な媒体にインプリントを形成するために、基板上のインプリント可能な媒体にテンプレートを接触させることと、テンプレートをインプリントされた媒体から分離することと、テンプレートをインプリントされた媒体から分離した後に、パターン・フィーチャにエッチ抵抗材料の層を備えることとを含む。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern of a good shape by having an excellent resolution, sensitivity and LER, and an excellent scum suppressing property by containing a specific guanidine compound while suppressing a PEB temperature dependence, and provide a resist film formed using the composition and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

特定のグアニジン化合物を含有することにより、スカム低減性に優れ、解像性が優れることにより良好な形状のパターンを形成することができ、感度、ＬＥＲにも優れ、更にＰＥＢ温度依存性の抑制された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いて形成されたレジスト膜、並びに、この組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is improved in line edge roughness, pattern profile, EUV light exposing sensitivity, and dissolution contrast, and is used in manufacturing processes of semiconductors such as ICs, circuit boards for such as liquid crystals and thermal heads, and in other photofabrication processes, and also provide a pattern forming method using this composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルが改善され、且つＥＵＶ光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The etching method includes a process to form a layer of Al or Al alloy on a surface of a substrate, a process to treat the surface of the layer of Al or Al alloy with TMAH, a process to form a resist pattern on the surface of the Al or Al alloy layer treated with TMAH, and a process to wet-etch the Al or Al alloy layer with the resist pattern as an etching mask.例文帳に追加

下地表面上にＡｌまたはＡｌ合金の層を形成する工程と、前記ＡｌまたはＡｌ合金の層の表面をＴＭＡＨで処理する工程と、前記ＴＭＡＨで処理したＡｌまたはＡｌ合金の層の表面上にレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンをエッチングマスクとして用い、前記ＡｌまたはＡｌ合金の層をウエットエッチングする工程とを含む。 - 特許庁

In the method of manufacturing the organic electroluminescent panel having a luminescent layer containing an organic material 102 between a pair of counter electrodes at least either one of which is transparent or translucent, a latent image having a desired pattern is formed by electrostatic force, and powder obtained by mixing the particulate of an organic material 102 and an insulating particulate 101 is brought into contact with it by making the powder charged to form a desired image pattern.例文帳に追加

少なくとも一方が透明または半透明の一対の対向電極間に有機材料１０２を含む発光層を有する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、静電気力によって所望のパターンの潜像を形成し、有機材料１０２の微粒子と絶縁性微粒子１０１とが混合された粉体を帯電させて接触して、所望の画像パターンを形成する。 - 特許庁

This method is provided with an operation registering stage for successively registering pattern data forming operation, a schedule stage S13 for setting operation order by adjusting the schedule of plural kinds of pattern data forming operation registered in the operation registering stage, an operation order registering stage S14 for registering the operation order according to the schedule, and a data processing stage S15 for performing data processing according to the operation order.例文帳に追加

パターンデータ作成作業を順次登録する作業登録工程と、この作業登録工程で登録された複数のパターンデータ作成作業のスケジュールを調整して作業順序を設定するスケジュール工程Ｓ１３と、スケジュールにしたがって作業順序を登録する作業順序登録工程Ｓ１４と、作業順序にしたがってデータ処理を行うデータ処理工程Ｓ１５とを設ける。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern of a semiconductor device in which a smaller photomask pattern stage can be achieved by performing an etching stage for photomask patterns using photosensitive film patterns as an etch-stop layer after forming the photosensitive film patterns between the photomask patterns by using a self-alignment system using negative photoresist and then performing a heat treatment stage for expanding the photoresist film patterns.例文帳に追加

本発明は、ネガ型フォトレジスト(Negative Type Photo Resist)を用いた自己整列方式を利用してフォトマスクパターンの間に感光膜パターンを形成し、感光膜パターンを拡大するための熱処理工程を行った後、感光膜パターンをエッチング防止膜として用いてフォトマスクパターンに対してエッチング工程を行うことにより、さらに微細なフォトマスクパターン工程が可能な半導体素子のパターン形成方法を提供するものである。 - 特許庁

This is a manufacturing method for a blank of a double-sided masks which manufactures a bank of a double-sided mask of a structure having a pattern made of a light shielding metal film on both sides of a transparent base plate, and characterized in forming a light shielding metal film layer on a rear glass plate of a mask having a pattern already formed on its one side.例文帳に追加

透明基板の両面に遮光用金属膜により形成されたパターンをもつ構造の両面マスクのブランクを製造する両面マスク用ブランクの製造方法において、一方の面にパターンがすでに形成されたマスクの裏面のガラス上に遮光用金属膜の層を形成して、両面マスク用ブランクを製造することを特徴とする両面マスク用ブランク及び両面マスクの製造方法。 - 特許庁

In the method for manufacturing a decorative sheet comprising the steps of supplying two polyolefin resin films one of which has a design pattern layer between a heating drum and a nip roll from a continuous roll so as to sandwich the pattern layer therebetween and heating to press bond them, the two films immediately before supplying between the drum and the roll are heated.例文帳に追加

一方のフイルムに絵柄模様層が設けられた２枚のポリオレフィン系樹脂フイルムを前記絵柄模様層が挟み込まれるように、それぞれの連続ロールから加熱ドラムとニップロールとの間に供給され加熱圧着する化粧シートの製造方法において、前記加熱ドラムとニップロール間に供給される直前の前記２枚のポリオレフィン系樹脂フイルムに加熱を施し作製する化粧シートの製造方法とすることである。 - 特許庁

The method for forming the porous pattern comprises coating a base material with the photopolymerizable composition to form a film, irradiating the formed film with electromagnetic waves according to a desired pattern, soaking the irradiated film in the poor solvent to the binder resin, and vaporizing the poor solvent penetrated into the film, so that any one of an irradiated part or a not-irradiated part is made to be porous.例文帳に追加

本多孔質パターンの形成方法は、かかる多孔質パターン形成用光重合性組成物を、基材上に塗設して塗膜を形成した後、該塗膜に所望のパターンに応じた電磁波照射を行い、次いで、バインダー樹脂に対する貧溶媒に浸漬した後、該塗膜内部に浸透した該貧溶媒を揮発させることにより、照射または未照射のいずれかの部位を多孔質化することを特徴とするものである。 - 特許庁

In the method of manufacturing a diffraction optical device having at least two optical materials 1, 3 which are substantially transparent in the wavelength region to be used and having a relief pattern 2 on at least one interface of the two different optical materials, the second material 3 having ≤5,000 mPa.s viscosity is laminated on the first optical material 1 having the relief pattern 2 on at least one surface.例文帳に追加

使用する波長帯域で実質的に透明である少なくとも２つの光学材料１，３と、その少なくとも１つの互いに異なる光学材料１，３の境界面にレリーフパターン３を有する回折光学素子の製造方法において、少なくとも一方の面の上記レリーフパターン２を有した第１の光学材料１の上に、粘度が５０００ｍＰａ・ｓ以下の第２の光学材料３を積層する。 - 特許庁

The method of evaluating the SOI wafer having an insulating layer and an active layer in this order on a support substrate comprises forming a pattern on the insulating layer after removing part of the active layer from the insulating layer by wet or dry etching; and evaluating the bonding interface between the active layer and insulating layer by observing whether the pattern peels and/or whether a bonding defect is caused.例文帳に追加

支持基板上に絶縁層と活性層をこの順に有するＳＯＩウェーハの評価方法であって、前記活性層の一部を前記絶縁層上からウェットまたはドライエッチングを施すことによって除去した後、前記絶縁層上にパターンを形成し、前記パターンの剥離および／または接着不良の有無を観察することにより前記活性層と前記絶縁層との貼り合わせ界面を評価する。 - 特許庁

The system stores a model pattern introduced by analyzing the requirement specifications according to the predetermined method (step S11), generates program modules specifying the respective functions following the user instructions (step S12, S13), converts the generated program modules and the functions specified for them into the information that conforms with the model pattern (step S14), and generates software codes based on the information converted.例文帳に追加

所定の手法に従って要求仕様を分析して導かれるモデルパターンを記憶し（ステップＳ１１）、ユーザの指示により、プログラム構成要素を生成し、その機能を指定し（ステップＳ１２、Ｓ１３）、生成されたプログラム構成要素と、これに対して指示された機能とを、前記モデルパターンに則った情報へ変換し（ステップＳ１４）、変換された情報に基づいてソフトウエアコードを生成する（ステップＳ１６）。 - 特許庁

The method of measuring volume of the ink droplet is composed of following steps: a step for repeatedly forming a printing pattern composed of a plurality of droplets by the ink jet head; a step for image taking only the ink droplets having mutually corresponding jetting order among the ink droplets composing the printing pattern repeatedly formed; and a step for measuring the volume of the ink droplets whose images are taken.例文帳に追加

インクジェットヘッドにより複数個のインク液滴で構成されたプリンティングパターンを反復的に形成するステップと、反復的に形成されたプリンティングパターンを構成するインク液滴のうち、互いに対応する吐出順序を有するインク液滴のみを写真撮影するステップと、写真撮影されたインク液滴の体積を測定するステップと、を含むインク液滴の体積測定方法である。 - 特許庁

A method includes the steps of: preparing a substrate; sequentially forming a lower semiconductor layer, an active layer, and an upper semiconductor layer on the substrate; forming a photoresist pattern on the upper semiconductor layer so that its side wall is inclined to an upper surface of the substrate; and sequentially etching the upper semiconductor layer, the active layer, and the lower semiconductor layer by using the photoresist pattern as an etching mask.例文帳に追加

基板を用意する段階と、前記基板上に、下部半導体層、活性層及び上部半導体層を順次形成する段階と、前記上部半導体層上に、その側壁が前記基板の上部面に対して傾斜するように、フォトレジストパターンを形成する段階と、前記フォトレジストパターンをエッチングマスクとして使用し、前記上部半導体層、活性層及び下部半導体層を順次にエッチングする段階とを有する。 - 特許庁

To provide a patterning method of an organic semiconductor layer which can be applied to general organic semiconductor layers or photoresist without using a special protective material such as parylene and can minimize deterioration in performance of the organic semiconductor layer due to patterning, and further to provide a method of manufacturing an organic semiconductor device, an organic semiconductor pattern formed based on that method and an organic semiconductor device, and a display device.例文帳に追加

パリレンなどの特殊な保護材料を用いず、一般的な有機半導体層やフォトレジストに適用でき、パターニングによる有機半導体層の性能低下を抑制できる、有機半導体層のパターニング方法及び有機半導体装置の製造方法を提供し、更にこの方法に基づいて作製された有機半導体パターン及び有機半導体装置、並びに表示装置を提供すること。 - 特許庁

In this polling method in the digital radio communication system, a frame format of a polling response signal transmitted to a base station from each terminal station is a frame format composed of one frame, wherein a periodical bit pattern is arranged at the head of the frame format in the polling method in the digital radio communication system by a method for collecting the information of a plurality of respective terminal stations by polling.例文帳に追加

デジタル無線通信システムにおけるポーリング方法は、複数の各端末局の情報をポーリングにより収集する方式のデジタル無線通信システムにおけるポーリング方法において、上記各端末局から基地局に送信すべきポーリング応答信号のフレームフォーマットを該フレームフォーマットの先頭部に周期的なビットパターンが配置された１フレーム構成のフレームフォーマットとするものである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element capable of forming an organic layer having the excellent linearity of the end of a pattern on a substrate without causing a transfer defect that a part of an ink layer to be transferred and removed is left on a blanket, in a manufacturing method of an organic EL element using letterpress reversing offset printing.例文帳に追加

凸版反転オフセット印刷法を用いた有機ＥＬ素子の製造方法において、基板上のパターンの端部の直線性に優れ、また、転写除去されるべきインク層の部分がブランケット上に残留してしまうといった転写欠陥のない有機層を形成することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a two-dimensional image reader and a sensitivity correction method capable of improving the production yield by accurately reading the image pattern of a body to be detected without complicating a drive control method even in the case that a sensitivity curved inclination is present in a photosensor array due to the dispersion of the sensitivity characteristics of photosensors.例文帳に追加

フォトセンサ相互に感度特性のバラツキによりフォトセンサアレイに感度傾斜が存在する場合であっても、駆動制御方法を複雑化することなく、被検出体の画像パターンを正確に読み取ることができるようにして、生産歩留まりの向上を図ることができる２次元画像読取装置及びその感度補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thickness measuring device of a colored film and a thickness measuring method capable of measuring the film thickness precisely without being influenced by absorption of a pigment included in the colored film and by high order light, and measuring the film thickness of a photoresist before pattern exposure, when measuring the colored film of a color filter for a liquid crystal display device by a spectral interference method.例文帳に追加

液晶表示装置用カラーフィルタの着色膜を分光干渉式で測定する際に、着色膜に含まれる顔料の吸収の影響、高次光の影響を受けず、精度よく膜厚測定が可能な、また、パターン露光前のフォトレジストの膜厚測定が可能な着色膜の膜厚測定装置、及び膜厚測定方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a luminous material compounded molding in which occupied time or working time of a molding die in molding is short, in which formation of a local luminous pattern is easy while generation of pinhole defects hardly occurs, and in which durability against wear is superior, and to provide a method of manufacturing a luminous material compounded resin sheet and a luminous material compounded molding.例文帳に追加

成形における成形型の占有時間や作業時間が短く、局所的な蓄光模様の形成が容易で、ピンホール不良が発生し難い、摩耗への耐久性に優れた蓄光材配合成形品を製造できる方法、及び蓄光材配合樹脂シートの製造方法、並びに蓄光材配合成形品の提供を目的とする。 - 特許庁