「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(419ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for manufacturing a color filter substrate includes steps of forming a light-shielding film pattern having voids in a predetermined period on a transparent substrate, ejecting spacer ink 7 containing at least spacer particles and a black pigment included in the light-shielding film to the voids by an inkjet method, and forming a color filter.例文帳に追加

透明基板上に、所定周期で空隙を有する遮光膜パターンを形成する工程と、少なくとも、スペーサ粒子と遮光膜に含まれる黒色顔料とを有するスペーサインクをインクジェット法により、前記空隙に吐出する工程と、カラーフィルタを形成する工程と、を有することを特徴とするスペーサ付カラーフィルタ基板の製造方法である。 - 特許庁

The method of forming conductive patterns includes: (1) a step of preparing a base material; (2) a step of forming patterns on the base material using a conductive pattern forming composition and a printing method; and (3) a step of positioning the base material formed with the patterns between two microwave-permeable panels, and baking the patterns using microwaves.例文帳に追加

本発明によると、１）基材を用意する段階と、２）導電性パターン形成用組成物及び印刷方法を利用し、上記基材上にパターンを形成する段階と、３）上記パターンが形成された基材をマイクロウェーブを透過させる２枚のパネルの間に位置させ、マイクロウェーブを利用して上記パターンを焼成する段階とを含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask, for reducing the mask price without significantly increasing a load of electron beam drawing on the mask, and ensuring dimensional uniformity of a device pattern under the same conditions of manufacturing a full-chip mask, in a method for manufacturing a mask in which the number of chips in an effective exposure area of the mask is reduced and a vacant area is formed.例文帳に追加

マスクの有効露光領域内のチップ数を削減し、空き領域が形成される場合のマスクの製造方法において、マスクの電子線描画負荷を著しく上げずにマスク価格の低減を図り、フルチップの時と同一の製造条件で、デバイスパターンの寸法均一性が保証されたマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminated body with high reliability on adhesion especially under high temperature and high humidity and the laminated body manufactured by the method and a multi-layer circuit board manufactured by forming a circuit pattern thereon in a film, especially not only substrates for semiconductor packages and the multi-layer circuit board but also the laminated bodies in electronic and electric industrial fields.例文帳に追加

フィルム、特に半導体パッケージ用サブストレートや多層回路基板を始めとする電子・電気工業分野での積層体において、特に高温高湿下における接着信頼性の高い積層体の製造方法、及びそのような方法で製造された積層体やそれに回路パターンを形成した多層回路基板を提供する。 - 特許庁

To provide a decorative material capable of removing easily and sufficiently a metal layer of a non-metallic glossy portion, even when molding partially the metal layer such as a radio wave transmitting metal layer by a method through etching treatment, and capable of decorating a molding with a desired pattern, a manufacturing method for the decorative material, and the molding using the decorative material.例文帳に追加

エッチング処理を経る方法で電波透過性金属層などの金属層を部分的に形成する場合でも、非金属光沢部分の金属層を容易かつ十分に除去でき、成形体を所望の図柄で装飾することが容易かつ十分にできる装飾材、その装飾材の製造方法、その装飾材を用いた成形品の提供。 - 特許庁

In this method, wiring and solder pad are formed without using solder masks, namely after a wiring pattern forming resist is formed, a buffer metal layer or wiring by electrolytic plating is formed in direct, moreover, a buffer metal layer by the electrolytic plating method, or wiring by electrolytic plating, further a buffer metal layer by the electrolytic plating and solder layer by the electrolytic plating are formed.例文帳に追加

配線、ソルダーパッドをソルダーマスクを用いないで形成する方法であって、配線パターン形成用レジストを形成した後、そのままバッファメタル層あるいは電解メッキによる配線さらに電解メッキ法によるバッファメタル層、あるいは電解メッキ法による配線、さらに電解メッキによるバッファメタル層、電解メッキ法によるソルダー層を形成する方法である。 - 特許庁

To provide an image recording system, an image recording method, a conversion apparatus and a conversion method by which a printed wiring pattern with a desired line width can be drawn on a substrate in an exposure apparatus without carrying out an electron variable magnification process on raster data rasterized with predetermined resolution, that is, without carrying out an electron variable magnification process on digital data.例文帳に追加

所定の解像度でラスタライズされたラスターデータに電子変倍処理、つまり、デジタルデータに電子変倍処理を実施することなく、露光装置において、基板上に所望の線幅を有するプリント配線パターンを描画することができる画像記録システム、画像記録方法、変換装置および変換方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a display device for which a more practical method for correcting a defect is easily and certainly applied and the method for correcting the defect by omitting a drawing process of an insulating film, preventing another short-circuitting in a wiring drawing process, making a drawn pattern a simple shape and preventing a wiring performance from lowering when correcting the defect.例文帳に追加

絶縁膜の描画工程を省略し、配線の描画工程で新たな短絡の発生を抑止し、描画パターンを単純な形状として欠陥修正による配線性能の低下を防止して、より実用的な欠陥修正を容易且つ確実に行うことを可能とする表示装置及び欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a scanning position detector of a scanning optical system with which linearity is measured in a short time and with high precision without requiring a special evaluation pattern and with which versatility is made high, a scanning position detecting method of the scanning optical system, the scanning optical system which is provided with the scanning position detector or the scanning position detecting method and an image forming apparatus.例文帳に追加

リニアリティを短時間に高い精度で測定でき、特別な評価用パターンを必要とせず汎用性の高い走査光学系の走査位置検出装置、走査光学系の走査位置検出方法を提供し、かかる走査位置検出装置あるいは走査位置検出方法を具備した走査光学系および画像形成装置を得る。 - 特許庁

To provide a decoration sheet which can be colored and form a pattern-like or a semitransparent hologram layer and is resultantly excellent in design effect and useful for forming cards or the like, wherein the decoration sheet may be insufficient in the heat-resistance of a base material to be transferred and further has a hologram layer which does not use a vapor deposition method, and its manufacturing method.例文帳に追加

被転写基材の耐熱性が不十分であってもよく、さらに蒸着方法を使用しないホログラム層を有する装飾シートであって、しかも、着色あるいはパターン状若しくは半透明のホログラム層も形成でき、従って意匠性に優れ、カードなどの形成に有用な装飾シートおよびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a transparent electrode capable of formation of a high-precision pattern, and capable of improving workability substantially compared with a conventional method by using a transfer film, in the formation of the transparent electrode composing each display cell of display material, such as PDP, LCD, organic EL material or the like, and obtain a transfer film.例文帳に追加

ＰＤＰ、ＬＣＤ、有機ＥＬ材料のようなディスプレイ材料の各表示セルを構成する透明電極の形成において、高精細パターンの形成が可能となり、また転写フィルムを使用することにより従来の方法に比べて実質的に作業性を向上させることができる透明電極の製造方法および転写フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a screen printing method which can form a printing material of a desired shape on a printing object at a low cost under a simple construction, in the screen printing method which prints the printing material such as a solder paste or a flux, in a specified pattern, on the whole surface of the printing object such as electronic components.例文帳に追加

本発明は、電子部品等の被印刷体の一面に、半田ペーストやフラックス等の印刷材料を所定のパターンで印刷するスクリーン印刷方法において、上記所望の形状の印刷材料を被印刷体上に単純な構成により低コストで形成することができるスクリーン印刷方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern of digital data on a work by using a two-dimensional display element while scanning the work relatively in one direction, the method being favorable in both of resolution and throughput when a plurality of pixels on the two-dimensional display element forms dots on one straight line parallel to the scanning direction of the work.例文帳に追加

デジタルデータを２次元表示素子を用いて、ワークを相対的に一方向にスキャンしながら、ワーク上にパターンを形成する方法であって、２次元表示素子上の複数の画素がワーク上のスキャン方向に平行な同一直線上にドットを形成する場合に、分解能、スループットともに良好なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a measurement method of a profile, an etching dispersion estimation method and a measurement device capable of previously estimating or reducing dimensional dispersion after etching by measuring resist pattern width with a plurality of threshold values to detect the difference of a resist profile in a length measurement SEM, and capable of improving the quality of a product and the manufacturing yield.例文帳に追加

測長ＳＥＭにおいて、複数の閾値でレジストパターン幅を測定し、レジストプロファイルの違いを検知し、エッチング後の寸法ばらつきを未然に予測または低減することができ、製品の品質向上および製造歩留まりを向上させることができるプロファイルの測定方法、エッチングばらつき予測方法および測定装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a photomask with a level difference to be used in forming a columnar spacer by subjecting a normal transparent resin photosensitive layer to pattern exposure by a proximity exposure method, to provide a color filter substrate having a columnar spacer formed with uniform height all over the region by using the photomask with a level difference, and to provide a method for manufacturing the color filter substrate.例文帳に追加

通常の透明樹脂感光層を近接露光（プロキシミティー）法にてパターン露光して柱状スペーサーを形成する際に使用する段差付フォトマスク及び段差付フォトマスクを使って全領域にわたって柱状スペーサーの高さを均一に形成したカラーフィルタ基板及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask blank substrate and a method for manufacturing a mask blank, which are capable of recycling a mask blank substrate by, if a transfer mask is unavailable because of the existence of a defect or the like, removing traces of a transfer pattern remaining on a principal surface of the mask blank substrate which has been used in the transfer mask.例文帳に追加

転写用マスクに欠陥が存在するなどのために使用が不可能な場合、転写用マスクに使用されていたマスクブランク用基板の主表面に残る転写パターンの痕跡を除去することにより、マスクブランク用基板の再生を可能にする、マスクブランク用基板の製造方法及びマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the magnetic recording medium using the imprint method for pattern formation, as the preprocessing of an imprint process, an exposure process is performed for exposing a substrate having the resist film formed on the surface thereof to an atmosphere of a temperature higher than a temperature upon imprint and environmental pressure lower than environmental pressure upon imprint.例文帳に追加

パターン形成にインプリント法を用いる磁気記録媒体の製造方法において、インプリント工程の前処理として、表面にレジスト膜を形成した基板を、インプリント時の温度より高い温度、かつ、インプリント時の環境圧力より低い環境圧力の雰囲気に暴露させる暴露処理を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a hologram includes duplicating the original to obtain a master plate, further duplicating the master plate to obtain a mother plate, duplicating the mother plate to obtain a stamper and embossing a hologram pattern by using the stamper, wherein the original is a relief hologram original and the master plate is manufactured by the above method for manufacturing a mold.例文帳に追加

また，マスター版を複版によりマザー版を複版し，さらにマスター版からマザー版を複版し，該マザー版からスタンパーを複版し，該スタンパーによりホログラムパターンをエンボス形成するホログラムの製造方法において，前記原版がレリーフホログラム原版であって，上記金型の製造方法を用いてマスター版を製造することを特徴とするホログラム製造方法とする。 - 特許庁

To provide an electrically conductive paste capable of forming a good film by photolithography, capable of particularly forming a fine pattern of an electrode in an electronic circuit or an image display unit and containing electrically conductive fine particles uniformly dispersed in a binder resin and to provide a method for forming an electrode using the electrically conductive paste and an electrode obtained by the method.例文帳に追加

フォトリソ法により良好な塗膜を形成することができ、特に、電子回路や画像表示装置における電極の微細なパターンを形成できる、バインダー樹脂中に導電性微粒子が均一に分散している導電ペースト、該導電ペーストを用いた電極の形成方法、並びに該電極形成方法により得られた電極を提供する。 - 特許庁

To provide a green sheet and its manufacturing method in which a manufacturing process is simplified and a loss of a material used for an electrode is prevented and an electrode pattern can be formed without a drying process during a formation of the electrode, and provide a plasma display panel using the above green sheet and a manufacturing method of the plasma display panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル及びその製造工程において、製造工程を単純化し、電極に用いられる材料の損失を防止し、電極形成時、乾燥工程なしに電極パターンを形成できるグリーンシート及びその製造方法と製造装置、並びにこれを用いたプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a molding having good yield of a decoration laminating board without influence of an increase in the number of grooves provided on the board to a working time and, capable of molding not only a protruding corner but also a recess corner by bending in an uneven pattern at the decoration laminating board in the method for manufacturing the molding molded by bending the board.例文帳に追加

化粧貼りボードを屈曲して成形する成形体の製造方法で、化粧貼りボードに設ける凹溝の数が増えても加工時間に影響がなく、化粧貼りボードの歩留まりが良く、かつ、化粧貼りボードに凹凸模様及び屈曲による凸角のみならず凹角も成形できる成形体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for determining a single nucleotide polymorphism (SNP) pattern in the promoter region of nucleic acid encoding human melanocyte-stimulating hormone 1 receptor (MC1R) for selecting a cosmetic by providing a method for classifying the expressed forms of skin colors objectively by utilizing the SNP of MC1R so as to provide a means for selecting the cosmetic suitable for each of individual persons.例文帳に追加

ＭＣ１ＲのＳＮＰを利用した、客観的に皮膚の色の発現形態を分類方法を提供し、以て、個々人に適した化粧料を選択する手段をも提供するべく、化粧料選択のための、ヒトメラノサイト刺激ホルモン１受容体をコードした核酸のプロモーター領域の一塩基置換のパターンの決定法を提供する。 - 特許庁

Then the insulating material layer is removed secondarily by a normal wet etching method or a dry etching method, to a prescribed protruded thickness from the surface of the semiconductor substrate, namely a thickness equal to the insulating material layer which is removed at intermediate treatment process, after removing the CMP cut-off pattern and before forming a gate oxide film is left.例文帳に追加

次に、半導体基板の表面から所定の突出した厚さ、すなわち、ＣＭＰ遮断パターンを除去してからゲート酸化膜を形成する前までの中間処理工程時に除去される絶縁物質層の厚さに該当する厚さが残るまで絶縁物質層を通常のウェットエッチング法またはドライエッチング法により２次的に除去する。 - 特許庁

To provide a method of producing a magnetic recording medium having excellent smoothness of the surface, which reduces the risk of contamination, by significantly simplifying the manufacturing process compared with conventional magnetic layer working type or ion injection type production methods, in the method of producing the magnetic recording medium by depositing a magnetic layer on a base substrate and subsequently forming a magnetic pattern.例文帳に追加

本基板上に磁性層を成膜したのちに磁気パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、従来の磁性層加工型やイオン注入型と比較して格段に製造工程を簡略化し、汚染リスクがすくなく、表面の平滑性に優れた磁気記録媒体が製造可能な方法を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the color filter by applying colored inks by an ink jet method on a transparent substrate to form pattern-like colored layers, the first ink of a pigment concentration 10 to 15% and the second ink of a pigment concentration 1 to 5% are used as the colored inks and the concentration of the colored layers is adjusted by the first ink after coloring with the first ink.例文帳に追加

透明基板上にインクジェット法により着色インクを付与してパターン状の着色層を形成するカラーフィルタの製造方法において、該着色インクとして顔料濃度１０〜１５％の第１のインクと顔料濃度１〜５％の第２のインクを使用し、第１のインクで着色した後、第２のインクで着色層の濃度の調整を行う。 - 特許庁

To provide a character string recognition method to read the character string where both a preprinted character and a printed character coexist, and also the character string recognition method to read the printed character by deleting the preprinted character from an overlaid character in a case where one pattern is formed with the preprinted character and the printed character overlaid by using information regarding a surrounding preprinted character.例文帳に追加

プレ印刷文字と印字文字とが共存する文字列を読取る文字列認識手法、更にプレ印刷文字と印字文字とが重なって１つのパタンとなったケースに対して、周囲のプレ印刷文字の情報を利用して重なり文字からプレ印刷文字を除去することにより印字文字を読取る文字列認識手法を提供する - 特許庁

When a nitride film using element isolation by the LOCOS method is to be eliminated in a method for manufacturing a semiconductor device for forming a gate oxide film with different film thickness on the same silicon substrate, first, only a nitride film at a part where the gate oxide film is provided thickly is eliminated selectively by a resist pattern, and the gate oxide film is formed at that part.例文帳に追加

同一シリコン基板上に異なる膜厚のゲート酸化膜を形成する半導体装置の製造方法において、ＬＯＣＯＳ法による素子分離に用いた窒化膜を除去する際に、先ずゲート酸化膜を厚く設ける部分の窒化膜のみをレジストパターンにより選択的に除去し、その部分にゲート酸化膜を形成する。 - 特許庁

The manufacturing method of the substrate with the spacers comprises a pattern forming step for forming ink-philic regions 3b exhibiting an ink-philic property and ink repellent regions 3a exhibiting an ink repellent property on a substrate 1 and an ejection step for ejecting a liquid material 11 containing a spacer forming material on the ink-philic regions 3b by a liquid drop ejection method.例文帳に追加

本発明のスペーサー付き基板の製造方法は、基板１上に親インク性を示す親インク領域３ｂと、撥インク性を示す撥インク領域３ａとを形成するパターン形成工程と、前記親インク領域３ｂ上に、液滴吐出法によりスペーサー形成材料を含む液状体１１を吐出する吐出工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a design support system, a design method, a design support program and a manufacturing method of a semiconductor integrated circuit, with which occurrence of a design pattern that is a main cause of a circuit defect and is difficult to be lithography-processed can be suppressed, dispersion due to manufacture fluctuation is suppressed and yield can be improved.例文帳に追加

回路不良要因であるリソグラフィー処理困難な設計パターンの発生を抑制でき、製造変動によるばらつきを抑制して歩留まりの向上を図ることが可能な半導体集積回路の設計支援システム、半導体集積回路の設計方法、半導体集積回路の設計支援プログラム、半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

The organic electroluminescence element and its manufacturing method are such that by thin forming an inorganic pixel defining film layer having an opening exposing at least a part of the upper part of a first electrode by a vapor deposition method, breakage of the formed organic film layer pattern caused by the step between the first electrode and the inorganic pixel defining film can be prevented.例文帳に追加

前記有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法は、第１の電極の上部の少なくとも一部を露出させる開口部を具備する無機画素定義膜を蒸着法を用いて薄く形成することにより、形成される有機膜層パターンが第１の電極と無機画素定義膜との段差によって切れることを防ぐといった効果がある。 - 特許庁

To provide a method for producing a metal transfer sheet, in which a specified pattern can be formed easily at a fine pitch, a metal transfer sheet produced by the producing method, and wiring circuit board in which currently requested fine pitch can be dealt with, using the metal transfer sheet, and high density wiring can be realized.例文帳に追加

所定のパターンをファインピッチで容易に形成することのできる金属転写シートの製造方法、および、その製造方法によって得られる金属転写シート、さらには、その金属転写シートが用いられ、近年要求されているファインピッチ化に対応することができ、高密度配線を図ることのできる配線回路基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a mask blank for charged particle beam exposure which improves the yield of mask manufacture, by removing selectively the eaves of a curvature adjustment layer generated when forming an opening by the wet etching method, in the manufacture of the mask for charged particle beam exposure using an SOI substrate with a curvature adjustment layer, and to provide a mask for charged particle beam exposure and a pattern exposure method.例文帳に追加

反り調整層を有したＳＯＩ基板を用いた荷電粒子線露光用マスクの製造にて、ウェットエッチング法により開口部形成を行った際に発生する反り調整層のひさしを選択的に除去し、マスク製造の歩留まりを向上させる荷電粒子線露光用マスクブランク、荷電粒子線露光用マスク、パターン露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an FRP molded product which can transfer the texture pattern of a fabric precisely and reproduce the natural feel to give the molded product having decorative excellence in fabricating an FRP mold or an FRP molded product by using a liquid resin, and to provide the FRP molded product fabricated by this manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、液状樹脂を使用してＦＲＰ型、及びＦＲＰ成形品を作製する場合に、織物の織り目模様が精密に転写され自然な風合が再現でき、装飾性に優れるＦＲＰ成形品の製造方法及びこの製造方法により作製したＦＲＰ成形品を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist material which suppresses the occurrence of a mixed layer of a resist film and a protective film when forming the protective film, can suppress the occurrence of blob defects after exposure and development, and excels in long-term stability and exposure stability, and a pattern forming method using the resist material.例文帳に追加

本発明は、保護膜を形成したときのミキシング層の発生を抑え、露光現像後のブロッブ欠陥の発生を抑えることができる、長期安定性と露光安定性に優れたレジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a system for fabricating a semiconductor device in which scattering of particles to an etching object can be suppressed when an insulating film and an antireflection film on a metal film are etched in the same reaction chamber and generation of pattern defect can be suppressed.例文帳に追加

金属膜上の絶縁膜と反射防止膜とを同一の反応室内でエッチングする際におけるエッチング対象物へのパーティクルの散布を抑制でき、パターン欠陥の発生を抑制し得る半導体装置の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

The method forms the film pattern by arranging a functional liquid on a substrate, and includes a step of forming a bank B on the substrate P and a step of arranging the functional liquid L in the area demarcated by the bank B.例文帳に追加

本発明の膜パターンの形成方法は、基体上に機能液を配置することにより膜パターンを形成する方法であって、基体Ｐ上にバンクＢを形成する工程と、バンクＢによって区画された領域に機能液Ｌを配置する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a device and a method for scratching a surface of an optical fiber substrate by forming a specific illuminating pattern by applying a sand blast to one or more side surfaces of the board while moving the optical fiber substrate by passing through one or more sand blast nozzles.例文帳に追加

光ファイバ基板が１つ以上のサンドブラストノズルを過ぎて動く間に基板の１つ以上の側面にサンドブラストをかけて特定の照明パターンを生成することにより光ファイバ基板の表面を擦傷するための装置および方法を提供する。 - 特許庁

The method for correcting the pattern comprises the steps of: applying correction ink 8 to the central part of a white defect 7; and jetting air from just above the white defect 7 through an injection plate 23 formed from a porous material to uniformize the thickness of the applied correction ink 8 in the white defect 7.例文帳に追加

このパターン修正方法では、白欠陥７の中央部に修正インク８を塗布した後、多孔質材料で形成された噴射板２３を介して白欠陥７の真上からエアーを噴射し、白欠陥７における修正インク８の厚みを均一化する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device substrate, suppressing contraction of a substrate generated in a production process of a semiconductor device substrate, reducing faults generated by one cause of displacement of pattern portions or the like to be formed, and suppressing increasing of manufacturing costs and lowering of productivity.例文帳に追加

例えば、半導体装置用基板の製造プロセス中に生じ得る基板の収縮を抑制し、形成されるべきパターン部等の位置ずれを一因として生じる不具合を低減でき、且つ製造コストの増大及び生産性の低下を抑制する。 - 特許庁

To provide a molding method for inexpensively molding a foamed sheet free from not only a spider mark but also the uneven pattern due to the density variation of a molten resin even if the foamed sheet is molded from a high pressure molten resin under a low temperature condition and having an excellent surface shape.例文帳に追加

高圧の溶融樹脂を低温条件で発泡シートを成形しても、スパイダーマークは勿論のこと溶融樹脂の密度の濃淡による凹凸模様もない、表面形状に優れた面状発泡シートを安価に成形する成形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a flexible wiring circuit board in which a support substrate is reusable while precise arrangement of a conductor pattern is achieved, the wiring circuit board can be easily obtained in a short time, and the manufacturing cost is reducible.例文帳に追加

導体パターンの精密な配置を実現できながら、支持基板を再利用することができ、また、簡便かつ短時間で配線回路基板を得ることができ、さらには、製造コストを低減することのできる、配線回路基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a designing powder coating composition for precoat materials which can form the same textured pattern as in using a true fabric and, in addition, excels in processability, a method for forming a designing coating film, and a precoat material with designing coating.例文帳に追加

本物の織布を使用したのと同様のテクスチャー意匠を形成することができ、しかも加工性にも優れた、プレコート材用意匠性粉体塗料組成物、意匠性塗膜の形成方法および意匠性を有する塗装プレコート材を提供すること。 - 特許庁

To provide a full body cleaving method capable of a high speed cleaving, generating no stripe pattern on the cleaved surface, realizing a thermal stress cleaving high in speed and quality and having high smoothness, also capable of freely controlling the position of cleaving line and the cleaving speed.例文帳に追加

高速割断が可能であり、しかも割断面に縞模様がなく、高い平滑性を有する高速で高品質の熱応力割断を実現するとともに、割断線の位置および割断速度を自由に制御することができるフルボディ割断方法を提供する。 - 特許庁

To provide a picture processor and a picture processing method which obtain pictures of high quality independently of patterns of various original pictures by suppressing the occurrence of color irregularity or a moire pattern which is made conspicuous by patterns of original pictures.例文帳に追加

記録材上に単色画像をかさねることによってカラー画像を形成する場合に、画像の記録位置が各色ごとに僅かにずれることは不可避であり、そのままでは各色の混色状態が変化することによる色むらやモアレパターンが生じてしまう。 - 特許庁

To provide a thinner-filmed highly accurate antenna pattern, a conductive sheet for a non-contact communication medium, and its forming method wherein using durability such as adhesive strength and aging resistance is superior, and surface resistance value is low, and electric wave efficiency is superior.例文帳に追加

より薄膜化した高精度のアンテナパターンと、接着強度および耐経時変化などの使用耐久性が優れ、かつ、表面抵抗値が低く、電波効率性が優れた非接触通信媒体用の導電性シートおよびその形成方法を提供すること。 - 特許庁