「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(420ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method of manufacturing the semiconductor device, a groove portion 41 is formed on the circuit surface S1 of the semiconductor wafer 1 along a dicing pattern, and then the semiconductor wafer 1 is ground from the side of an opposite surface S2 so that the groove portion 41 is exposed, thereby cutting the semiconductor wafer 1.例文帳に追加

この半導体装置の製造方法では、ダイシングパターンに沿って半導体ウエハ１の回路面Ｓ１に溝部４１を形成した後、溝部４１が露出するように半導体ウエハ１を反対面Ｓ２側から研削して半導体ウエハ１を切断する。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of performing projection exposure with fidelity and high accuracy by satisfactorily suppressing variations of the line width of a pattern formed on a photosensitive substrate, for example, even if aberration of a projection optical system using an EUV light is not sufficiently suppressed.例文帳に追加

たとえばＥＵＶ光を用いる投影光学系の収差が十分に抑えられていなくても、感光性基板上に形成されるパターンの線幅のばらつきを良好に抑えて、忠実で高精度な投影露光を行うことのできる露光方法。 - 特許庁

The present invention provides a color tone inspection method for inspecting a color tone of a surface by an image processor 4 using a spectroscopic camera 1 for detecting a spectroscopic spectral value in each point in the surface of the inspection object having the pattern of plural colors, and a system therefor.例文帳に追加

複数色の図柄を有する検査対象物の表面各点における分光スペクトル値を検出する分光カメラ１を用いて、画像処理装置４が、上記表面の色調検査をするための色調検査方法およびそのシステムを提供する。 - 特許庁

To actualize a method which decides a mark within a fixed time and makes the decision processing fast even under conditions of variations or the like of pattern, gray level, scraping, dirt reflection factor of the mark, and a mark detection sensor, as long as the mark has clasly partial features of a mark.例文帳に追加

マークのパターンや濃淡、擦れ、汚れ、反射率、マーク検出センサのバラツキなどの条件下においても、部分的に明らかにマークの特徴を有していれば一定の時間内に判定し、かつ判定処理の高速化を可能とする方法を実現すること。 - 特許庁

The exposure method comprises: making a beam from a light source scan an exposure object via an optical element LG; and exposing a pattern PA1 whose region is enlarged on the exposure object in a direction approximately perpendicular to the scanning direction X, via the optical element on the exposure object.例文帳に追加

この露光方法は、光源からの光を光学素子ＬＧを介して走査するとともに、光学素子を介することでその走査方向Ｘと略直交する方向に被露光物上で領域が拡大したパターンＰＡ１を被露光物上に露光する。 - 特許庁

To provide a molding method of a sand mold with a flask with which the developments of spill sand and cut sand are drastically reduced and the compression of molding sand is uniformly performed to the whole mold at a low cost and the precision of the drawing-out of a pattern is excellent, and its apparatus.例文帳に追加

スピルサンドや切削砂の発生を大幅に削減すると共に鋳物砂の圧縮が鋳型全体に均一に成され、かつ低コストにすることができ、さらに抜型の精度に優れた枠付砂鋳型の造型方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for cooling a glass substrate by which no crack of the glass substrate is generated in cooling even when a severe baking condition is applied thereto or the glass substrate is large-sized in the cooling after the baking in forming a pattern on the glass substrate 10.例文帳に追加

ガラス基板１０上にパターンを形成する際のベーク後の冷却において、ベークの条件く、或いは大型ガラス基板であっても冷却中のガラス基板に割れを発生させないガラス基板の冷却方法及び冷却装置を提供すること。 - 特許庁

In the method for forming a film pattern, drops are fed from a discharge head toward a predetermined position in a division formed on the substrate by banks, and the edge shape of the fed drop between the banks is made to sink in the drop wetting and extending direction.例文帳に追加

形成方法は、バンクによって基板上に形成された区画領域の所定位置に向けて吐出ヘッドより滴を供給し、供給後のバンクの間での滴のエッジの形状が、滴が濡れ拡がる方向に向かって凹むように設定される。 - 特許庁

In the pattern correcting method, two slits 24 of predetermined distance are formed, by having a laser beam irradiated to both sides of a rib lost defect 22 in a rib 21 formed on a glass substrate 20, to eliminate the defective section between the slits 24 with a scratch needle 51.例文帳に追加

このパターン修正方法では、ガラス基板２０上に形成されたリブ２１のリブ欠け欠陥２２の両側にレーザ光を照射して所定間隔の２つのスリット２４を形成し、スクラッチ針５１によって２つのスリット２４間の欠陥部を除去する。 - 特許庁

To provide a method for forming a protective film of dense film quality at a low temperature of ≤200°C on an upper part of a pixel controlling element and a wiring pattern for preventing mixing of impurities into a liquid crystal cell layer when the pixel controlling element is selectively transferred to a liquid crystal display substrate.例文帳に追加

液晶ディスプレイ基板に画素制御素子を選択的に転写するにあたり、液晶セル層への不純物混入を防止するため、画素制御素子及び配線パターンの上部に、緻密な膜質の保護膜を２００℃以下の低温で形成する。 - 特許庁

To provide a method for producing a fluoride single crystal which is useful for obtaining a lens material for a photolithography device (stepper) used for pattern exposing at the time of the production of a semiconductor or a vacuum ultra-violet transmissive material used as a window material or the like for various excimer laser systems.例文帳に追加

半導体製造時のパターン露光に使用する光リソグラフィー装置（ステッパー）用のレンズ材料や、各種エキシマレーザー装置用窓材などに使用する真空紫外光透過材料を得るためのフッ化物単結晶の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method for exactly and highly accurately measuring and evaluating a form and a recording medium recording form measuring and evaluating program by quantitatively measuring the pattern form of a photo-mask containing fine patterns.例文帳に追加

微細なパターンを含むフォトマスクのパターン形状の定量的な計測を可能にすることにより、正確かつ高精度な形状計測評価装置及び形状計測評価方法並びに形状計測評価プログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a stripping method for a vulcanized tire capable of easily performing stripping operation without requiring an addition device such as an operation device of divided segments or the like or the alteration of the design of a tire pattern, and an inexpensive tire vulcanizing and molding machine.例文帳に追加

分割したセグメントの稼動装置等の付加装置やタイヤパターンの設計変更を必要とせずに、型抜きを容易に行うことができる加硫済みタイヤの型抜き方法およびこの方法に用いることができる安価なタイヤ用加硫成型機を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a wiring board for COF by which fine wiring can be formed as well as to provide a photosensitive resin laminate in which inclusion of air in a laminating step is suppressed, little abnormality in a resist and a conductor pattern occurs, and an edge fusion is reduced.例文帳に追加

本発明は、ラミエアーを抑制し、レジスト・導体パターン異常の発生が少なく、エッジフューズが低減さる感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、微細配線形成可能なＣＯＦ用配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To prevent color unevenness due to fluctuation of the surface area of a part to be colored, in a manufacturing method for a color filter wherein a colored part is formed by applying ink to the part to be colored which is formed by pattern-exposing a photosensitive ink reception layer to color the part to be colored.例文帳に追加

感光性のインク受容層をパターン露光して形成した被着色部にインクを付与して着色し、着色部を形成するカラーフィルタの製造方法において、上記被着色部の面積のバラツキによる着色ムラの発生を防止する。 - 特許庁

A method for manufacturing a mineral plate comprises the steps of drying the rear surface of a mineral crude plate (1) before press molding when the plate (1) is press molded by a press molding machine (2) to shape a rugged pattern (3) to manufacture the mineral plate to form a rigid front layer (9), and press molding the plate.例文帳に追加

無機質系生板（１）をプレス成形機（２）によりプレス成形して凹凸模様（３）を賦型して無機質板を製造するに際して、プレス成形前の無機質系生板（１）の裏面を乾燥して剛質表層（９）を形成した後、プレス成形する。 - 特許庁

Data are read from a traffic information data storing device 11, and a cyclic fluctuation pattern included in the data is removed by a cyclic component removing device 12, and prediction functions are learnt by a method to optimize an information quantity standard by a prediction function estimating device 13.例文帳に追加

交通情報データ蓄積装置１１からデータを読出し、周期成分除去装置１２によりデータに含まれる周期的変動パターンを除き、予測関数推定装置１３により情報量規準を最適化する方法で予測関数を学習する。 - 特許庁

The method for manufacturing the artificial marble comprises the steps of forming the resin layer 1 with the pattern for representing a marble design on an inner surface in a casing mold 3, then casting the casting resin composition 8 in the mold 3, molding and curing the composition to manufacture the artificial marble 4.例文帳に追加

注型用金型３内の内面に大理石柄を表現する模様付き樹脂層１を形成した後、注型用金型３内に注型用樹脂組成物８を注入し、成形硬化させて人造大理石４を製造する方法に関する。 - 特許庁

To provide a method and a device for forming a thin film pattern, in which the performance in removal of residues after laser beam machining or depositions on a substrate is enhanced, a poor thin film is prevented from being generated by preventing the removed materials from being stuck again on the substrate and a step to manufacture the thin film is simplified.例文帳に追加

レーザ加工残渣または基板付着物の除去性能の向上と、除去物の基板への再付着を防止して薄膜の不良発生の防止を図り、さらに製造工程の簡素化を図った薄膜パターン形成方法とその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which prevents a remainder of a vacant wiring groove pattern with a conductive layer left when removing the conductive layer on an outer edge of a substrate with a edge rinse processing, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

基板の周縁部上の導電層をエッジリンス処理により除去する際に生じる導電層の除去された空の配線溝パターンが空の状態で残存することを防止する半導体装置の製造方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition having a broad process window in contact hole formation in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, and capable of suppressing pit formation in flow baking, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ションに於いて、コンタクトホール形成において広いプロセスウインドウをもち、かつフローベーク時のピット形成を抑制出来るレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist composition excellent in photo speed, critical demension (CD) uniformity, dissolution rate in negative tone developer (NTD) and pattern fidelity; a coated substrate comprising a layer of the photoresist composition; and a method of forming photolithographic patterns.例文帳に追加

フォトスピード、限界寸法（ｃｒｉｔｉｃａｌ ｄｅｍｅｎｓｉｏｎ；ＣＤ）均一性、ネガティブトーン現像剤（ＮＴＤ）中での溶解速度、及び、パターン忠実度に優れた、フォトレジスト組成物、フォトレジスト組成物の層を含むコーティングされた基体及びフォトリソグラフィパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

The grid electrode 11 can be welded on a welding member 12 made of a welding material formed beforehand and the grid electrode 11 of a mesh shape can be fixed by a welding method without impairing a fixing reliability, a pattern designing flexibility, a performance and a cost.例文帳に追加

グリッド電極１１をあらかじめ形成した溶接材料からなる溶着材１２上に溶接できるので、固定信頼性やパターン設計自由度、性能、コストを損ねることなくメッシュ状のグリッド電極１１を溶接法で固定することができる。 - 特許庁

To provide a device and method for supporting generation of an English sentence which assists generation of an English sentence of high quality passable to a native by making a verb sentence pattern utilization simplified chart in which sentence patterns adaptable for every verb are listed into a database, and utilizing it.例文帳に追加

動詞ごとに採りうる文型を表にした動詞文型活用早見表をデータベース化して、これを活用することで、ネイティブにも通用する良質な英文作成の手助けとなる英文作成支援装置およびその支援方法を提供する。 - 特許庁

In the fabrication method of the planar lightwave circuit having an optical waveguide, an initial optical waveguide having a predetermined pattern is formed on a substrate 910 and reflowing is conducted for the optical waveguide by applying heat to obtain a deformed optical wavegiude 1030.例文帳に追加

本発明に従う光導波路を有する平面光波回路の製造方法は、基板９１０の上に予め定められたパターンの初期光導波路を形成し、この初期光導波路に熱を加えてリフローすることにより、変形光同波路１０３０を得る。 - 特許庁

To provide an information terminal, a control method for the information terminal, and a control program for the information terminal that, when a user carries out electronic settlement using the information terminal having an electronic settlement function, are capable of concretely grasping a behavior pattern of the user.例文帳に追加

電子決済機能を有する情報端末を用いてユーザが電子決済を行ったときに、当該ユーザの行動様式を具体的に把握することができる情報端末、情報端末の制御方法、及び情報端末の制御プログラムを提供する。 - 特許庁

Thus, the imaging apparatus can employ a photographing method whereby the imaging apparatus ordinarily carries out color photographing using R, G, B colors and executes monochromatic photographing with high resolution using only the green wavelength region in the case of reading a fine image pattern with a high density such as the QR code.例文帳に追加

これにより、通常はＲ，Ｇ，Ｂの各色によるカラー撮影を行い、ＱＲコードのような細かく密度の高い画像パターンを読み取る場合には、緑色波長域のみを用いた解像度の高いモノクロ撮影を行うような撮影方法が可能となる。 - 特許庁

To cause the scattering quantity of sand grains to moderately vary and control the quantity not to cause an extreme unbalance in the variation in a manufacturing method of a decorative wallboard with a surface pattern applied by sand grain scattering.例文帳に追加

砂粒撒布により表面模様を付すようにした化粧壁板の製造方法において砂粒の撒布量を適度にばらつかせ、しかも、そのばらつきの量に極端な偏析が生じないように撒布量の管理をしながら撒布することを課題とする。 - 特許庁

In this manufacturing method, a photosensitive silazane film 52 is exposed and developed, and a hard mask 52A which is formed of the photosensitive silazane film 52 and regulates positions of a wiring pattern and a contact hole 60 of a wiring layer 66A is formed on an interlayer insulating film 50.例文帳に追加

本製造方法では、感光性シラザン膜５２を露光及び現像することにより、層間絶縁膜５０上に、配線層６６Ａの配線パターン及び接続孔６０の位置を規定する、感光性シラザン膜５２からなるハードマスク５２Ａを形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a fine semiconductor integrated circuit having a thin film resistor in which a wiring pattern is formed by dry etching without an additional formation process for a protective film and without needing particular conditions for etching conditions for forming a contact hole.例文帳に追加

保護膜の形成工程を追加したり、コンタクト孔を形成するためのエッチング条件を特別な条件にすることなく、ドライエッチングにより配線パターンを形成しながら、薄膜抵抗体を有する微細な半導体集積回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method for making a sample comprises thinning a sample piece 2 that becomes the transmission electron microscopic sample, forming a pattern by a photo resist 3 followed by etching, and polishing a formed etched part 4 by an ion milling device to form an observation part 5.例文帳に追加

透過型電子顕微鏡観察用の試料となる試料片２を薄片化した後、フォトレジスト３でパターンを形成して、エッチングを行い、形成されたエッチング部４にイオンミリング装置による研磨を行って観察部５を形成する試料作製方法である。 - 特許庁

In these device and method, prediction of the future channel condition from a common pilot channel signal transmitted from a transceiver 12 is performed in a mobile user apparatus 14, and the future transmission pattern of the transceiver 12 at the designated time can be controlled.例文帳に追加

トランシーバ１２から送信された共通パイロットチャネル信号からの将来のチャネル状態の予測が移動ユーザ機器１４で形成され、指定された時間におけるトランシーバ１２の将来の送信パターンをコントロールすることができる装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use in an ultramicro-lithographic process for manufacturing VLSI or a high capacity microchip and in another photofabrication process, and having improved PEB temperature dependency, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップ製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ＰＥＢ温度依存性が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist underlayer film comprising an ionic liquid which can form a resist underlayer film having an antistatic function and solvent resistance, and to provide a method for forming a resist pattern using the resist underlayer film formed from the composition.例文帳に追加

イオン液体を含むレジスト下層膜形成組成物であって、帯電防止機能及び溶剤耐性を有するレジスト下層膜を形成することができる該組成物及び該組成物から形成されるレジスト下層膜を用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

In the present manufacturing method of the artificial marble, a resin composition for molding the artificial marble is obtained by compounding additives such as a filler, a pattern material and a curing agent in a thermosetting resin and the artificial marble is manufactured by molding and curing the resin composition.例文帳に追加

熱硬化性樹脂に充填剤、柄材、硬化剤などの添加物を配合した人造大理石成形用樹脂組成物を得て、この人造大理石成形用樹脂組成物を成形硬化させて人造大理石を製造する人造大理石の製造方法である。 - 特許庁

To secure a full reliability even when a wiring pattern is formed of a wiring material having electromigration resistant properties reinforced by applying a printer head, a printer and a method for manufacturing a printer head particularly to a printer by a thermal head.例文帳に追加

本発明は、プリンタヘッド、プリンタ及びプリンタヘッドの製造方法に関し、特にサーマルヘッドによるプリンタに適用して、エレクトロマイグレーション耐性を強化した配線材料により配線パターンを作成する場合でも、十分な信頼性を確保することができるようにする。 - 特許庁

The method comprises a step of forming a ceramic pattern 5 by depositing ceramic paste which includes a solvent and a caking additive formed of at least a mixture of ceramic powder, a polymer of low polymerization and a polymer of high polymerization, between conductor patterns 3 on a ceramic green sheet 1.例文帳に追加

セラミックグリーンシート１上の導体パターン３間に、少なくともセラミック粉末、低重合度の高分子と高重合度の高分子との混合物からなる粘結剤および溶剤とを含有するセラミックペーストを塗布して形成されたセラミックパターン５を形成する。 - 特許庁

The semiconductor film uses a semiconductor film, having a crystal structure containing silicon as a main component where among lattice planes detected by the reflected electron diffraction pattern method, the plane {101} occupying proportion is 10% or more, and the plane {111} occupying proportion is less than 10%.例文帳に追加

珪素を主成分とし結晶構造を有する半導体膜であって、反射電子回折パターン法で検出される格子面の内、｛１０１｝面が占める割合が１０％以上であり、｛１１１｝面が占める割合が１０％未満である半導体膜を用いる。 - 特許庁

The method includes a step of forming the alignment film on a substrate having an electrode pad at a position corresponding to a transfer electrode for applying a voltage to a common electrode, and a step of locally etching the alignment film to expose the electrode pad without using a mask pattern.例文帳に追加

共通電極に電圧を印加するトランスファ電極に対応する電極パッドを備える基板上に配向膜を形成する段階と、前記電極パッドを露出させるようにマスクパターンを用いずに前記配向膜をエッチングする段階とを有する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed circuit board which can accurately form a circuit pattern without being influenced by a dimensional change, etc. of a constituting material, and which can accurately connect a plurality of circuit patterns formed in multilayer in respective via holes.例文帳に追加

構成材料の寸法変化等に影響されることなく回路パターンを高精度に形成することができ、また多層に形成された複数の回路パターンを各々のビアホールで精度よく接続することができるプリント基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the liquid crystal display device and the method for fabricating the liquid crystal display device, the number of mask further can be reduced by forming an active pattern and a storage electrode with a single mask process and also by patterning a pixel electrode, too simultaneously upon the patterning of a gate line.例文帳に追加

アクティブパターンとストレージ電極を１回のマスク工程で形成することによって、また、ゲート配線のパターニング時に画素電極をも同時にパターニングすることによって、マスク数をさらに減少させた液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a screen printing device which can improve conversion efficiency by increasing the film thickness and forming a circuit pattern with a large aspect ratio in the sectional shape, and also, of efficiently removing the residual paste, as well as a screen printing method.例文帳に追加

膜厚を厚くして断面形状のアスペクト比が大きな回路パターンを形成して変換効率の向上を図ることができるとともに残留ペーストを効率よく除去することができるスクリーン印刷装置およびスクリーン印刷方法を提供する。 - 特許庁

To provide new high molecular compound useful as a base material component of positive resist composition, compound useful as a monomer of this high molecular compound, positive resist composition containing the high molecular compound, and a resist pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an optical waveguide structure which has a high degree of freedom for designing a pattern shape in an electric circuit and an optical circuit, which enables the formation of an optical path having high dimensional accuracy by a simple method, and which includes an optical waveguide excellent in durability.例文帳に追加

電気回路と光回路のそれぞれにおいてパターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高い光路を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁

The method of forming the solder resist includes the steps of: forming a solder resist film on the surface of a circuit board; thinning approximately uniformly the whole surface of the solder resist film by alkali aqueous solution treatment; executing pattern exposure and development; and further executing post-cure.例文帳に追加

回路基板の表面にソルダーレジストの膜を形成し、次に、アルカリ水溶液処理によって、ソルダーレジストの膜全面を略均一に薄膜化し、次いで、パターン露光、現像を実施し、さらに、ポストキュアを実施することを特徴とするソルダーレジストの形成方法。 - 特許庁