「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(423ページ目) - Weblio英語例文検索

In the pattern correcting method, when correction paste 7 is applied to an open defect portion 2a of an electrode 2 using a film 3 with a hole 3a as a mask, the thickness Ft of the film 3 and the short-axis length Sw of the hole 3a are so related that Ft>Sw.例文帳に追加

このパターン修正方法では、孔３ａの開いたフィルム３をマスクとして電極２のオープン欠陥部２ａに修正ペースト７を塗布する場合に、フィルム３の厚さＦｔと孔３ａの短軸長Ｓｗとの関係をＦｔ＞Ｓｗにする。 - 特許庁

To provide a driving method of a light emitting device and the light emitting device for reducing pattern noise when taking in the image of a subject and observing an image full of color reproducibility with little color tone unevenness, in the application to an endoscope or the like.例文帳に追加

内視鏡装置等の用途において、被写体の画像を取り込んだ際のパターンノイズを低減させることができ、色調バラツキの少ない色再現性に富む画像を観察することができる発光装置の駆動方法及び発光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method which enables to simply manufacture a conductive film by using a solution composed of only metal fine particles and solvent with few treatment process at low cost, and enables to manufacture a necessary conductive pattern film with low heat treatment temperature.例文帳に追加

処理工程数が少なく、簡便で安価、さらに金属微粒子と溶媒のみの溶液を用いることにより導電膜の形成が可能であり、且つ、低い熱処理温度で、必要な導電パターン膜を製造可能とした方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method wherein sufficient resist residual film is ensured on a shoulder part of a large area resist pattern when an interlayer dielectric is etched and dimension shift after etching is restrained, and a semiconductor device manufacturing system.例文帳に追加

本発明は、層間絶縁膜のエッチング時の大面積レジストパターン肩部においても十分なレジスト残膜を確保してエッチング後の寸法シフトを抑制する半導体装置製造方法および半導体装置製造システムを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device and an alignment method by which drawing can be carried out at an accurate position on a substrate even when a positional relation between a light irradiating unit and an alignment camera changes, without using a high-performance driving mechanism for the alignment camera.例文帳に追加

アライメントカメラに高性能な駆動機構を使用することなく、光照射部とアライメントカメラとの位置関係が変化した場合であっても、基板上の正確な位置に描画を行うことができるパターン描画装置およびアライメント方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preparing a mold for precision casting, having a cavity which has elaborate peripheral surface shape corresponding to the surface shape of a wax pattern containing a fine shape part, such as a letter part, therefore, having high non-defective ratio in the cast product.例文帳に追加

文字部のような形状細部も含め、ワックス模型の表面形状に対応する精巧な周面形状のキャビティーを有する精密鋳造用鋳型、したがって鋳造品の良品率が高い精密鋳造用鋳型を作製できる方法を提供する。 - 特許庁

The method for processing the semiconductor wafer is characterized by including the step of bonding a support wafer with a double-faced adhesive sheet on the surface of the semiconductor wafer having a pattern formed thereon, and the step of thinning the back of the semiconductor wafer while the support wafer is fixed.例文帳に追加

パターンが形成された半導体ウエハ表面に、両面粘着シートで支持ウエハを貼付ける工程と、前記支持ウエハを固定した状態の半導体ウエハの裏面に薄型加工を施す工程とを含むことを特徴とする半導体ウエハの加工方法。 - 特許庁

To provide a transfer mask and a transfer mask blank capable of reducing a compressive stress and a crucial defect of a BOX layer generated in the transfer mask and having an excellent transfer accuracy, and a pattern exposure method of a charged particle beam using the transfer mask.例文帳に追加

転写マスクで発生するＢＯＸ層の圧縮応力及び致命的欠陥を低減し、優れた転写精度を有する転写マスク及び転写マスクブランク並びに転写マスクを用いた荷電粒子線のパターン露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a mask capable of easily designing a mask utilized in production of a substrate by divided exposure without causing an increase in production costs, and to provide a storage medium in which a mask pattern layout program is stored and an apparatus for producing the mask.例文帳に追加

製造コストの増大を招くことなく分割露光によって基板を製造する際に利用されるマスクを容易に設計できるマスク製造方法、マスクパターンレイアウトプログラムを記憶した記憶媒体、及びマスク製造装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for arbitrating data transmission among devices having SMII standard in which a transfer error caused by data transfer delay is prevented by conquering the limit of a PCB pattern distance between an MAC chip to apply the SMII standard and a PHY chip.例文帳に追加

ＳＭＩＩ規格が適用されるＭＡＣチップとＰＨＹチップとのＰＣＢパターン距離制限を克服し、データ転送遅延による転送エラーを防止するＳＭＩＩ規格による装置間のデータ転送を中継する装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

This method for producing the micro-patterning culture substrate 2 includes coating the cell culture substrate 2 with the water-soluble photocurable polymer 3, and then irradiating the water-soluble photo-curable polymer 3 with light via a master pattern 4 and patterningthe water-soluble photo-curable polymer 3 on the cell culture substrate 2.例文帳に追加

細胞培養基材２上に水溶性光硬化性ポリマー３を塗布し、水溶性光硬化性ポリマー３へマスクパターン４を介して光照射して細胞培養基材２上に水溶性光硬化性ポリマー３をパターニングすることで作成される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a nonvolatile memory which can reduce a risk of pattern collapse after etching in a nonvolatile memory in which a resistance change type memory cell in which a diode member and a resistance change material are laminated is arranged in a matrix shape.例文帳に追加

ダイオード材と抵抗変化材料とが積層した抵抗変化型メモリセルがマトリックス状に配置された不揮発性記憶装置において、エッチング後のパターン倒壊の虞を低減させることの可能な不揮発性記憶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A correction method includes a stage P204 where a pattern is exposed on a plurality of fields of a substrate according to prespecified exposure information P204 and stages P206 and P208 where properties of fields are measured and deformations of fields induced by thermal effect of exposure processing are evaluated.例文帳に追加

事前指定の露光情報Ｐ２０４に従って基板の複数のフィールド上に１つのパターンを露光する段階Ｐ２０４と、フィールドの属性を測定し、露光処理の熱効果によって誘導されるフィールドの変形を評価する段階Ｐ２０６，Ｐ２０８とを含む。 - 特許庁

To provide a polishing liquid which is used for metals, can reduce the quantity of erosion in a metal wiring portion having a high wiring density in comparison with that by conventional technology, and can form a metal film-buried pattern having high reliability, and to provided a polishing method using the same.例文帳に追加

配線密度の高い金属配線部でのエロージョン量を従来技術よりも小さくすることを可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属用研磨液及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink recording method wherein color fading caused by oxidizing gas is little, and further occurrence of a spotted pattern is suppressed after color fading to form an image having an excellent discharge response, gloss and beading resistance and to provide its recorded matter.例文帳に追加

本発明の目的は、酸化性ガスに起因する褪色が少なく、更に褪色後にまだら模様の発生が抑制され、吐出応答性、光沢、ビーディング耐性に優れた画像を形成するインクジェット記録方法及びその記録物を提供することである。 - 特許庁

The manufacturing method of the stamper includes a process for forming a metal thin film on a stamper original plate provided with a rugged pattern on a surface layer thereof and a process for forming an electroplating layer by electroplating the stamper original plate in a plating liquid consisting essentially of nickel sulfamate.例文帳に追加

スタンパの製造方法は、凹凸パターンを表層に備えたスタンパ原版に金属薄膜を形成する工程と、このスタンパ原版を用いてスルファミン酸ニッケルを主成分とするメッキ液で電気メッキすることで電気メッキ層を形成する工程とを備える。 - 特許庁

To provide a nonlinear element manufacturing method which can perform a patterning finer than resolution of an exposure apparatus used in formation of a resist mask, and which is free from contaminating a film pattern obtained by patterning due to the resist; and to provide an electro-optical device.例文帳に追加

レジストマスクを形成する際に用いる露光装置の解像度によりも微細なパターニングを行うことができ、かつ、パターニングにより得た薄膜パターンがレジストによって汚染されることのない非線形素子の製造方法、および電気光学装置を提供すること。 - 特許庁

A pattern formation method according to an embodiment comprises the steps of: forming a heat-shrinkable first film 101 on a base material 100; patterning the first film 101; and heating and shrinking the patterned first film 101.例文帳に追加

本実施形態によるパターン形成方法は、基材１００上に熱収縮性のある第１膜１０１を形成する工程と、前記第１膜１０１をパターニングする工程と、パターニングした前記第１膜１０１を加熱して収縮させる工程とを備える。 - 特許庁

The method of manufacturing the printed circuit board includes: a step of adhering a film to the insulation base, wherein the film is for flattening the surface of the insulation base; a step of thermosetting the film; and a step of forming the circuit pattern on the film by way of ink-jetting.例文帳に追加

本発明による印刷回路基板の製造方法は、絶縁基材に絶縁基材の表面を平坦化させるフィルムを貼り付けるステップと、フィルムを熱硬化するステップと、フィルムにインクジェット方式で回路パターンを形成するステップと、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing formed goods for the casing of compact electronic equipment on the surface of which rugged pattern which is various, has high productivity and is excellent in decorative design property is formed when taking comparatively soft metal such as aluminum alloy, brass and others as a material.例文帳に追加

アルミ合金等，真鍮その他の比較的柔らかい金属を材質とする場合に、表面に多様で生産性よく意匠性に優れた凹凸模様を形成することができる小型電子機器筐体用成形品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a liquid crystal display panel by which air bleeding in liquid crystal injection space is smoothly performed in a stage where 1st and 2nd substrates are stuck together under a heating condition by a seal pattern for forming the liquid crystal injection space.例文帳に追加

第１の基板と第２の基板とを液晶注入空間を形成するシールパターンにより、加熱下で貼り合わせる工程において、液晶注入空間内のエア抜きをスムーズに行うことができる液晶表示パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

A mass pattern calibration result is corrected to be apparently same based on a mass spectrum of a mass spectrum-confirming standard substance or a mass-calibrating (tuning) standard substance, in an identification quantitative determination method of a chemical substance by the chromatograph/mass spectrometer.例文帳に追加

クロマトグラフ／質量分析装置による化学物質の同定・定量方法において、質量スペクトル確認用標準物質又は質量校正（チューニング）用標準物質の質量スペクトルから、マスパターン校正結果を見掛け上同一であるように補正する。 - 特許庁

While referring to the disassembling method described on a printed board, parts mounted on the printed board are simultaneously removed from a circuit pattern, the parts that are removed according to the design information of the circuit are classified by their characteristics, and they are reused as a part of new printed board.例文帳に追加

本発明はプリント基板に記載された分解方法を参照し、基板上に搭載された部品を回路パターン部分から一括して外し、回路の設計情報に基づき取外した部品をその特性毎に分類し、プリント基板の部品として再利用する。 - 特許庁

To provide a composition for resist lower-layer film formation that forms a resist lower-layer film which is suitably buried in a via or trench, easily formed based upon a desired pattern, and superior in etching resistance, and a method of forming a dual-damascene structure using the same.例文帳に追加

ビアもしくはトレンチへの埋め込みに好適であり、所望のパターンに基づいた形成が容易であり、エッチング耐性に優れるレジスト下層膜を与えるレジスト下層膜形成用組成物及びこの組成物を用いたデュアルダマシン構造の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative image forming method, using a negative type developer, which greatly reduces defects due to residue during formation of a negative image so as to stably form a high-precision fine pattern in order to manufacture an electronic device of high integration and high precision.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ネガ画像の形成において、残渣系の欠陥を著しく低減できる、ネガ型現像液を用いたネガ画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a recorder which can set a correction amount of the conveyance amount of a recording medium optimally by recording a test pattern used for setting a correction amount of the conveyance amount of a recording medium accurately, and to provide a method for correcting the conveyance amount of a recording medium.例文帳に追加

記録媒体の搬送量の補正量を設定するために用いるテストパターンを適確に記録して、記録媒体の搬送量の補正量を最適に設定することができる記録装置、および記録媒体の搬送量補正方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for sorting a defect distribution which can accurately sort defect distributions on substrates, even when the positional displacement or size of a defect on a substrate to be inspected is changed with respect to a known defect distribution pattern as a sorting reference.例文帳に追加

分類の基準となる既知の欠陥分布パターンに対して検査対象となる基板上の欠陥の位置ズレや大きさの変化が発生する場合であっても、基板上の欠陥分布を精度良く分類できる欠陥分布分類方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an excellent in resolution such as a critical dimension with no bridge defects, LWR and DOF, and having favorable sensitivity and PED stability; and to provide a resist film using the composition, and a pattern forming method.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ＬＷＲ及びＤＯＦに優れると共に、感度及びＰＥＤ安定性も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method of forming a thick film pattern, on a substrate, having a good mold-releasing property after adhesion to a substrate, with less possibility of air bubbles entering, less possibility of transcription defects generqated, with good shape precision after transcription without size change, with a low cost, in better yield and with high precision.例文帳に追加

基板との密着後の離型性に優れ、気泡が入り難く、転写欠陥が発生し難く、寸法変化が無くて転写後の形状精度に優れた厚膜パターンを基板上に安価に歩留り良く高精度で形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink composition for a color filter in an inkjet method, forming the cross sectional shape of a colored pattern at the end part of an ink-applied surface neither as a shape of inclining to the outside of the applied surface nor a reverse-tapered shape but a flat shape.例文帳に追加

本発明はインクジェット方式においてインキ塗布面端部の着色パターンの断面形状が塗布面の外側に傾いた形状や逆テーパー形状ではなく平坦な形状となるカラーフィルタ用インキ組成物を提供することを課題とするものである。 - 特許庁

To provide a roll coating method and a roll coating apparatus, whereby: a thinner film of a coating solution can be produced although the properties of the solution are inhibited by effects such as the shear strength of rolls; and a coating solution can be transferred to create a stripe pattern on a running sheet-shaped or a continuum substrate.例文帳に追加

ロールのせん断力等の影響で特性が阻害される塗工液を薄膜化でき、また、走行するシート状もしくは連続体の基材上に塗工液をストライプパターンで転移することができるロールコート方法および装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a video signal processor for carrying out enlarged display of the partial that user is thinking as desiring to view and listen, with only easy operations by setting a quotient of segment, while the user selects a segment pattern from among previously prepared patterns in the segment method.例文帳に追加

ユーザが予め用意されている切り出し方法のパターンの中から切り出しパターンを選択すると共に、切り出す比率を設定させることにより、簡単な操作のみユーザが視聴したいと考える部分を拡大表示する映像信号処理装置を得る。 - 特許庁

The metal pattern formation method comprises a process (a) of forming a graft polymer directly bonding with the surface of a base material on the base material, a process (b) of forming a metal film by adhering a conductive material to the graft polymer, and a process (c) of etching the metal film.例文帳に追加

（ａ）基材上に、該基材表面に直接結合したグラフトポリマーを形成する工程と、（ｂ）該グラフトポリマーに導電性材料を付着させて金属膜を製膜する工程と、 （ｃ）該金属膜をエッチングする工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium, wherein foreign materials on the surface of the magnetic recording medium can be efficiently and surely removed, a mask layer left on the surface of the magnetic recording medium does not stay, and productivity of magnetic layer pattern formation is high.例文帳に追加

磁気記録媒体の表面の異物を効率良く確実に除去することができ、当該磁気記録媒体の表面に残存したマスク層が残留することがなく、磁性層のパターン形成の生産性が高い磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

A lifetime estimation method allows a computer system to obtain a time point at which the amount of copper used in a wiring pattern of a printed board to be corroded by a corrosive gas or a mixed gas reaches a predetermined threshold of the corrosion amount, so as to estimate the lifetime of the printed board.例文帳に追加

コンピュータシステムにより、プリント基板の配線パターンを構成する銅の腐食性ガスや混合ガスによる腐食量が予め設定された腐食量しきい値に達する時点を求めてプリント基板の寿命を推定する寿命推定方法に関する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which shows sufficient transmitting property when an exposure light source at ≤160 nm, specifically, F_2 excimer laser light (at 157 nm) is used and which is improved in surface roughness, development defect, scum and resolving power, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、具体的にはＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源使用時に十分な透過性を示し、表面ラフネス、現像欠陥、スカム、解像力が改善されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching simulation method and an etching simulation device where the flow velocity of an etching solution and the concentration of a waste solution on a substrate are predicted, and, additionally, the local flow in the vicinity of a pattern, the progression velocity of etching in a cavity, the shape change thereof or the like are predicted.例文帳に追加

基板上のエッチング液の流速や廃液濃度を予測するのに加えて、パターン近傍の局所的な流れやキャビティのエッチング進行速度と形状変化等を予測するエッチング・シミュレーション方法及びエッチング・シミュレーション装置を提供する。 - 特許庁

To provide a control device and control method for a printer, whereby even if there is an error in a positional relation between image data contained in print data, such as plate-making data, and an actual printing pattern, degradation in the quality of a print and increase in damaged paper can be prevented.例文帳に追加

製版データ等の印刷データに含まれる画像データと実際の印刷絵柄との位置関係に誤差がある場合であっても、印刷物の品質の低下や損紙の増大を防止できるようにした、印刷機の制御装置及び制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide an operation history information collecting method and an operation history information collecting apparatus the capacity of a storage device of which can be configured small in order to collect operation history information by calculating the similarity from pattern information of a television program group receptible at a point of time when a user carries out operations.例文帳に追加

ユーザが操作している時点の受信可能なテレビジョン番組群のパターン情報から類似度を算出して、記憶装置の容量が小容量で構成可能な操作履歴情報収集方法及び操作履歴情報収集装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light-emitting device capable of reducing manufacturing cost, and improving accuracy of pattern formation of EL layers of respective colors, in the case where a full-color flat panel display using emission colors such as red, green and blue is manufactured, and to provide a substrate for vapor deposition.例文帳に追加

赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、製造コストを削減し、各色のＥＬ層のパターン形成の精度を向上させることが可能な発光装置の作製方法及び蒸着用基板を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus having less amplification of a quantization noise without using a special table to obtain an output image in which the generation of a unique pattern is suppressed; and to provide an image processing method, an image processing program, and a recording medium recording the program.例文帳に追加

特異パターンの発生を抑えた出力画像を得るため、特別なテーブルを用いず量子化ノイズの増幅が少ない画像処理装置、画像処理方法、画像処理プログラム、またはそのプログラムを記録した記録媒体を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the method of deflecting the collimating mirror in the illumination optical system of the exposure device, the luminous flux of exposure light rays from an illumination light source is made into parallel luminous flux by the deflected collimating mirror, and a pattern of a mask is transferred to an object to be transferred by the exposure light rays.例文帳に追加

露光装置の照明光学系におけるコリメートミラーの撓ませ方法において、照明光源からの露光光の光束を撓ませたコリメートミラーにより平行光束とし、該露光光によってマスクのパターンを被転写物体に転写する。 - 特許庁

To provide a system and a method for photolithography process, in which whether particles exist or not on the surface of a wafer charged to form a mask pattern is detected, and the process of the wafer is determined in accordance with the presence or non-presence of the particles.例文帳に追加

パターンマスクを形成するために投入されるウェーハの表面上にパーチクルが存在するか否かを検査し、そのパーチクルの存在有無に従いそのウェーハの過程を決定するフォトリソグラフィー工程システム及びフォトリソグラフィー工程方法を提供する。 - 特許庁

It is desirable that the linear patterns are formed after the bulge-inducing patterns are formed, and therefore, the method may further involve the step for forming bulge-confirming patterns for confirming the bulge generation positions by previously applying droplets of the composition to regions other than the pattern formation regions.例文帳に追加

バルジ誘導用パターンを形成した後、線状パターンを形成することが望ましく、予めパターン形成領域外に組成物の液滴を付与してバルジ発生位置を確認するためのバルジ確認用パターンを形成する工程をさらに含んでもよい。 - 特許庁

In the screen printing method, in which ink is adhered to a base material to be printed with a squeegee through a cylindrical screen plate in a pattern, printing is performed with the printing ink, the solvent evaporation speed of which is set to be 34 or less as compared with that of n-butyl acetate as 100.例文帳に追加

インクをスキージにより円筒状スクリーン版を通して被印刷基材にパターンとして付着させるスクリーン印刷方法において、該印刷インクの溶媒蒸発速度を酢酸正ブチルを１００としたときに３４以下の印刷インクを用いて印刷する。 - 特許庁