1153万例文収録!

「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(427ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > pattern methodに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 23003



例文

By the residual electric charge measuring method, AC voltage electrification based upon a specific electrification pattern is repeated in steps and the degree of the water tree deterioration is diagnosed by using as an index the ratio of the maximum AC electrification electric field intensity when the residual electric charges are measured and the insulator thickness of the tested cable.例文帳に追加

残留電荷測定法において、所定の課電パターンからなる交流電圧課電をステップ状に複数回行い、残留電荷が測定される最高交流課電電界強度と供試ケーブルの絶縁体厚さとの比を指標として水トリー劣化の程度を診断する。 - 特許庁

To provide an ink jet recording medium, wherein a coating solution hardly foams even when polyvinyl alcohol of low saponification degree and high polymerization degree is contained in an ink acceptance layer, cracks in the ink acceptance layer are suppressed, a minute pattern on a coating surface is reduced and the operability is good and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

インク受理層中に低鹸化度で高重合度のポリビニルアルコールを含む場合であっても塗工液が発泡し難く、インク受理層のクラックを抑制すると共に、塗工面の微小な模様を低減し、操業性が良好なインクジェット記録媒体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new electronic component manufacturing method enabling reduction of the number of steps of overprinting, precise overprinting pattern position accuracy (alignment accuracy), and lamination without substantial level difference so as to improve the productivity and the size accuracy, and solve the problem of missing/defects.例文帳に追加

重ね印刷工数の低減、精密な重ねパターン位置精度(アラインメント精度)および、実質的に無段差の積層を可能とすることにより、生産性の向上、寸法精度の向上、欠損・欠陥解消を可能とする新規な電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide positive resist composition and a pattern forming method using it capable of preferably using super-micro lithographic processes or the other photo-fabrication process, such as manufacturing a VLSI or a micro chip of large capacity etc., with a wide latitude for exposure, and excellent in uniformity of line width.例文帳に追加

超LSIや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて、好適に使用することができ、露光ラチチュードが広く、線幅の面内均一性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

例文

To obtain a high density semiconductor device, and a method of fabrication, by forming plugs and an interconnection readily for a fine pattern when conductive plugs buried in contact holes and an interconnection are formed simultaneously.例文帳に追加

本発明は、コンタクトホールに埋め込んだ導電性プラグと溝を利用した配線を同時に形成する際に、微細なパターンに対して容易にプラグと配線を形成することが可能となり、その結果、高密度な半導体デバイスを作製することができる半導体装置および半導体装置製造方法を得る。 - 特許庁


例文

To provide a spread code generator and a spread code generating method by which interception of contents of transmission data can be prevented without identification of a pattern of frequency information even after interception of the frequency information being a random spread code.例文帳に追加

本発明は、ランダムな拡散符号である周波数情報を傍受された場合にも、その後の周波数情報のパターンが特定されることがなく、伝送データ内容の傍受を防止することができる拡散符号発生装置および拡散符号発生方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a release sheet used for manufacturing various synthetic leather products or wallpapers and capable of being adapted to the production of various synthetic leather products or the like having the same embossed pattern or gloss even if used repeatedly at a high temperature (about 200°C), and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

各種合成皮革製品や壁紙等の製造に使用される離型シートであって、高温(200℃付近)で繰り返して使用しても、同一のエンボス柄やツヤ等を有する合成皮革製品等を製造できる離型シート及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pitch pattern control method in a text voice transforming device which eliminates unnatural intonation resulting from an extremely high pitch near a word head when the last word is increased in intonation, and generates a natural and easy-to-hear synthesized voice.例文帳に追加

最終単語の抑揚を大きくした場合に単語先頭付近のピッチが極端に高くなり不自然なイントネーションになってしまうということを解消し、自然で聞きやすい合成音声を生成するテキスト音声変換装置におけるピッチパタン制御方法を提供する。 - 特許庁

On the surfaces of a mother ceramic substrate 10, break grooves 11 are formed in a grid pattern by a laser scribing method, and the mother substrate is primarily divided along the break grooves which extend in one direction, then dross which is produced in the break groove formation process is removed by barrel polishing or the like.例文帳に追加

セラミック製マザー基板10の表面にレーザスクライビング法によってブレーク溝11を格子状に形成し、該マザー基板を一方向に延在するブレーク溝に沿って1次分割し、ブレーク溝形成時に発生した溶融再凝固物(ドロス)をバレル研磨等で除去する。 - 特許庁

例文

The method for processing biological samples includes a process to provide a biological sample on a slide, a process to create images of the sample, a process to compare the above images with known information using pattern recognition technique, and a process to interpret these images.例文帳に追加

生物学的標本を処理するための方法であって、スライドに生物学的標本を提供する工程;該標本の画像を作成する工程;パターン認識技術を使用して、該画像を既知の情報と比較する工程;および該画像を解釈する工程、を包含する、方法。 - 特許庁

例文

To provide a method for patterning carbon nanotube able to pattern it with an optional size which is from submicron to a few mm for a large area or a curved face, furthermore being unnecessary for troublesome etching or a negative plate, superior in wear resistance with noncontacting type and being advantageous for industrial mass production.例文帳に追加

大面積や曲面などに対してもサブミクロから数ミリまでの任意の大きさのパターニングが可能であり、しかも面倒なエッチング処理や原版を必要とせず、非接触方式で耐摩耗性に優れ、大量生産に適した工業的に有利なカーボンナノチューブのパターニング方法を提供する - 特許庁

A heat-resistant protective layer 2 mainly comprising a polyamideimide resin with a Tg of 250°C and a diffraction lattice forming layer 3 mainly comprising a urethane resin are applied to a support 1 and a fine uneven pattern constituting a diffraction lattice is formed on the surface of the diffraction lattice forming layer 3 by a roll embossing method.例文帳に追加

支持体1に、Tg.250℃のポリアミドイミド樹脂を主成分とする耐熱保護層2、ウレタン樹脂を主成分とする回折構造形成層3を塗布し、次いで、ロールエンボス法により回折格子を構成する微小凹凸パターンを回折構造形成層3の表面に形成した。 - 特許庁

To provide a masking material raising the accuracy of a masking pattern by preventing a droop due to heating, increasing the transfer quantity of solder paste, and ensuring excellent detergency after heating curing, and also to provide a printing method of solder paste using the masking material.例文帳に追加

加熱ダレを防止してマスキングパターンの精度を向上させ、また、はんだペーストの転写量を多くすることができ、さらに、加熱硬化後の洗浄性に優れたマスキング材料及び該マスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an electronic watermark embedded image content creating method capable of reconstituting an image content with a combination pattern of many kinds of electronic watermark in a short time by preparing (n) sets of image contents having (m) pieces of areas where electronic watermarks are previously embedded.例文帳に追加

本発明は、予め電子透かしを埋め込んだm個の領域を有するnセットの画像コンテンツを用意しておくことで短時間で多くの種類の電子透かしの組み合わせパターンの画像コンテンツを再構成できる電子透かし埋込画像コンテンツ作成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a printing method and a printer that enable printing with high positional accuracy at a level usable for manufacturing TFT substrates or the like and facilitates alignment work both between a printing plate and a blanket and between a blanket and a substrate while enabling to obtain superior ink-pattern reproducibility.例文帳に追加

良好なインキパターン再現性が得られると共に、印刷版−ブランケット間とブランケット−基板間の双方のアライメント作業が容易で、TFT基板等の作製に使用できる程度の高い位置精度で印刷を行える印刷方法と印刷装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of securing high color reproducibility (images having similar hue can be printed in the case of forming the same image) while giving clearance to the number of dots constituting a specified pattern, and to provide a manufacturing method of the image forming apparatus.例文帳に追加

特定パターンを構成するドット数に幅を持たせた上で、高い色再現性(同一の画像を形成したときは、同じような色合いで印刷できる)を確保することが可能な画像形成装置、並びに画像形成装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a roll for rolling embosses and a method of manufacturing copper bars and copper foils for always forming a fine projecting solid pattern having desired dimensions are formed always accurately and uniformly on the surface of the copper bar and the copper foil without causing the degradation or production efficiency and manufacturing yield.例文帳に追加

生産能率や製造歩留まりの低下を引き起こすことなく、銅条材や銅箔材の表面に所望の寸法の微細な凸状の立体パターンを常に正確かつ均一に形成することが可能なエンボス圧延加工用ロール、銅条・銅箔の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a color filter by forming a pattern of a black matrix on a transparent substrate and depositing ink in the space in the black matrix, the critical surface tension of the space in the black matrix is equal to or lower than the surface tension of the ink.例文帳に追加

透明基板上にブラックマトリックスのパターンを形成し、該ブラックマトリックスの間隙部にインクを付着させるカラーフィルターの作製方法において、前記ブラックマトリックスの間隙部の臨界表面張力が前記インクの表面張力以下であることを特徴とするカラーフィルターの作製方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a polymer for protective film, capable of producing the protective film having less content of a solvent having compatibility with a resist, without developing interaction with the resist on its application and enabling to obtain a good pattern profile of the resist.例文帳に追加

本発明の目的は、レジストとの親和性を有する溶媒の含有量が少なく、塗布時のレジストへの相互作用を起こさず、レジストの良好なパターンプロファイルを得ることを可能とする保護膜を形成できる保護膜形成用重合体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide: a novel polymeric compound useful as a base component of a positive resist composition; a compound useful as a monomer of the polymeric compound; a positive resist composition including the polymeric compound; and a method of forming a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物のモノマーとして有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide the control method of a game machine for avoiding or reducing the loss of a player's interest by the forced variation of the display patterns of a pattern display device in the case that a game ball does not enter a start port for prescribed time after starting a game or after the entry of previous time.例文帳に追加

遊技開始後または前回の入賞後に遊技球が所定時間始動口に入賞しない場合に、遊技者の興味が消失するのを図柄表示装置の表示図柄の強制変動により回避または低減する遊技機の制御方法を提供する。 - 特許庁

To enhance the interest of a player by a method wherein in a ball- guiding passage provided on the front of a pattern display device of a game board, a variable decoration is provided to displace a ball-guiding means such as character and the flow direction of balls can be changed by displacing the ball-guiding means.例文帳に追加

遊戯盤の図柄表示装置の前部に備えた球誘導路においてキャラクター等球誘導手段が変位するようにして変化のある装飾ができ、かつ、球誘導手段の変位動作により球の流れる方向を変え、遊戯者の興趣を増大できる。 - 特許庁

To provide a method for forming a barrier rib for a flat display, wherein the light exposure margin where problems such as meandering and/or peeling, pattern thickening and/or residual film formation do not occur can be enlarged when forming the barrier rib for the flat display with high definition and high aspect ratio, and wherein the increase of a required light exposure is small.例文帳に追加

高精細かつ高アスペクト比の平面ディスプレイ用隔壁を形成する際に、蛇行や剥がれ、パターン太りや残膜形成といった問題が発生しない露光量マージンを拡大でき、かつ必要露光量の増大が少ない平面ディスプレイ用隔壁の形成方法を提供する。 - 特許庁

The disclosed method includes steps of: acquiring image information; analyzing the image information; specifying a simulated search column area corresponding to a predetermined pattern simulating a search column; and extracting a search keyword from the simulated search column area, wherein the search keyword is used to perform search processing or the pre-processing of a search.例文帳に追加

画像情報を取得し、前記画像情報を解析し、検索欄を模した所定パターンに該当する擬似検索欄領域を特定し、前記擬似検索領域から検索キーワードを抽出するステップし、前記検索キーワードを用い、検索処理又は検索の前処理を行う。 - 特許庁

To provide a printed circuit board and a manufacturing method of the same such that drilling processes for forming via holes may be omitted to increase the degree of freedom in designing circuits, the circuits can be made to have greater densities and a substrate can be made thinner, and the attachment areas between a circuit pattern and an insulation layer can be increased to allow greater adhesion.例文帳に追加

層間接続用のビアホールの形成のためのドリリング工程の省略、回路設計の自由度向上、回路の高密度化、基板の厚さ薄形化、回路パターンと絶縁層との接触面積増加と接着力に優れた印刷回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The rear of an SOI substrate 1 is covered with a silicon nitride film 4, antimony is injected into the substrate 1 using a resist pattern as a mask through an ion implantation method, and the substrate 1 is thermally treated at 1,200°C in a diffusion oven, by which a collector embedded layer 5C is formed in an silicon layer 1c.例文帳に追加

SOI基板1の裏面を窒化シリコン膜4で保護した後、レジストパターンをマスクとしてイオン注入法によりアンチモンを注入し、次いで拡散炉を用いて1200℃で熱処理をSOI基板1に施すことによって、シリコン層1cにコレクタ埋め込み層5Cを形成する。 - 特許庁

The manufacturing method of the solid decorative article 11a has the printing process for printing a wood grain pattern planarly modelled after a wood surface on the film 13a and the molding process wherein the film 13a printed in the printing process is inserted into the mold 41 and subjected to in-mold molding.例文帳に追加

立体加飾品11aの製造方法は、木材の表面を平面的に象った杢目柄をフィルム13aに印刷する印刷工程と、該印刷工程で印刷されたフィルム13aを金型41内にインサートしてインモールド成形する成形工程とを備える。 - 特許庁

The method for producing the imprinting member comprises the steps of: depositing an amorphous DLC (diamond-like carbon) film containing 12-30 atomic% hydrogen and the balance of carbon on the surface of a base material; and irradiating the surface of the DLC film directly with a laser beam to form the engraved groove consisting of a geometrical pattern or the like.例文帳に追加

基材の表面に、水素を12〜30原子%含み、残部が炭素からなるアモルファス状DLC膜を被覆形成し、その後、該DLC膜の表面に直接、レーザビームを照射して、幾何学模様などからなる彫刻溝を彫刻することによってインプリント部材を製造する。 - 特許庁

In the application method of the underfill: the underfill material is filled in between different substrates, the relative permittivity or the relative magnetic permeability of the underfill material is adjusted, and the gain of frequency band of the noise generated in a joining terminal and a metal conductive pattern of the above board is attenuated.例文帳に追加

異なる基板間にアンダーフィル材料を注入して、前記アンダーフィル材料の比誘電率または比透磁率を調整して、前記基板の有する接続端子と金属導体パターンに発生するノイズの周波数帯域の利得を減衰することを特徴とするアンダーフィルの塗布方法である。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor realizing high image quality recording whose resolution is ≥1,200 dpi and eliminating an image defect such as an interference fringe pattern (moire) by setting the surface roughness of a conductive supporting body to a specified range, and an image forming method using the same.例文帳に追加

この発明は、導電性支持体の表面粗さを特定の範囲に設定することにより、解像度1200dpi以上の高画質記録で、干渉縞模様(モアレ)等の画像不良を解消した電子写真感光体及びそれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer which is high in sensitivity, resolution and light transmittance, when used for resist compositions for DUV excimer laser lithography or the like, is little in defects, when developed, and is excellent in copolymerizability with other monomers, to provide a resist composition, and to provide a method for producing a substrate on which a resist pattern is formed.例文帳に追加

DUVエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、現像時のディフェクトが少なく、他の単量体との共重合性に優れた重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a formation method of a circuit material which is excellent in workability and enables a bus bar to be readily and surely stuck to a portion of a copper foil pattern of a printed substrate, requiring increase of an allowable current amount and furthermore does not require special resist treatment for the bus bar.例文帳に追加

プリント基板の銅箔パターンのうち許容電流量を増加する必要がある部分に、バスバーを容易にかつ確実に貼り付けることができ、さらに、前記バスバーに別途レジスト処理を施す必要もない作業性に優れた回路材の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photopolymerization type photosensitive phosphor paste composition using pure water as a developing solution, ensuring a low baking temperature after the formation of a fluorescent membrane and capable of easily regulating the line width and sharpness of a fluorescent membrane pattern and to provide a method for forming a fluorescent membrane using the composition.例文帳に追加

純水を現像液として使用し、蛍光膜の形成後、焼成温度が低く、且つ蛍光膜パターンの線幅及びシャープネスを容易に調節することのできる光重合型の感光性蛍光体ペースト組成物及びこれを用いた蛍光膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the insulated gate-type semiconductor device has steps of: forming a gate insulating film on a semiconductor substrate; carrying out the film formation of the tantalum carbide film on the gate insulating film; and performing hydrogen plasma treatment after forming a mask pattern having an aperture for exposing a part of the tantalum carbide film.例文帳に追加

半導体基板上にゲート絶縁膜を形成する工程と、前記ゲート絶縁膜上に炭化タンタル膜を成膜する工程と、前記炭化タンタル膜の一部を露出する開口を有するマスクパターンを形成したのち、水素プラズマ処理を行う工程とを設ける。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a decorative panel capable of laminating a decorative sheet on a substrate so that a position of a border pattern is not shifted even for that wherein the decorative sheet is laminated on the substrate by continuously feeding the decorative sheet and successively feeding leaf substrate, and capable of manufacturing a good quality decorative panel in good productivity.例文帳に追加

化粧シートを連続的に送り且つ枚葉の基材を順次送って基材に化粧シートをラミネートするものでもボーダ柄の位置がずれないように基材に化粧シートをラミネートでき、生産性よく品質のよい化粧パネルを製造できる化粧パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for printing wherein a screen printing film, in which a printing film of an overlapped portion of a two-color printing pattern is not peeled off, can be formed, and a good printing film free from omissions in printing can be obtained.例文帳に追加

2色の印刷パターンの重ね部の印刷膜が剥がれ落ちない形状のスクリーン印刷膜を形成することができ、また、かかる印刷膜が剥がれ落ちない形状でかつ印刷抜けの無い良好な印刷膜を得ることができるスクリーン印刷方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for determining biospecies reducing as possible the possibility of wrong determination according to biological feature of the biospecies when the unknown sample contains organism whose biospices not corresponds to any one of the previously determined categories in determining biospecies using pattern recognition.例文帳に追加

パターン認識を利用した生物種の判定において、あらかじめ定められたどのカテゴリーにも対応しない生物が未知サンプルに含まれている場合に、生物種の生物学的特長に応じて、誤った判定する可能性を低減することができる判定方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a recording sheet carrying speed adjusting pattern and a register roller carrying speed adjusting method for a color image forming device capable of adjusting speed of a register roller for feeding a recording sheet to a conveyor belt to the speed eliminating occurrence of color shear with simple and inexpensive structure in a tandem type color image forming device.例文帳に追加

タンデム型カラー画像形成装置において、簡単、安価な構成で、搬送ベルトに記録紙を送るレジストローラの速度を色ズレを生じない速度に調整できる、カラー画像形成装置における記録紙搬送速度調節用パターンとレジストローラの搬送速度調節方法を提供する。 - 特許庁

A pattern forming method is characterized by including a step (a) of exposing a resist film on a substrate through an immersion liquid, a step (b) of removing immersion liquid components infiltrated to the resist film, a step (c) of heating the resist film, and a step (d) of performing development in this order.例文帳に追加

基板上のレジスト膜に液浸液を介して露光する工程(a)、該レジスト膜に浸入した液浸液成分を除去する工程(b)、該レジスト膜を加熱する工程(c)、及び、現像を行う工程(d)を、この順に、有することを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a channel constituting member of an inkjet head in which highly accurate channels having a low stress and a chemical resistance are formed by pattern forming through application of ultraviolet rays or the like, an inkjet recording head having the channel constituting member, and a manufacturing method for an inkjet recording head.例文帳に追加

低応力、耐薬品性を有し、紫外線照射などによるパターン成形により高精度の流路が形成されたインクジェット記録ヘッドの流路構成部材及び該流路構成部材を有するインクジェット記録ヘッド、インクジェット記録ヘッドの製造方法を提供すること。 - 特許庁

This resistance welding control method is conducted such that the total thickness of the materials to be welded at each welding spot is automatically set by calculation based on the measurement of the moving distance of both electrodes and that the target pattern Tp of the temperature change is automatically set in accordance with this calculation value Bc of the total thickness.例文帳に追加

本発明は、各打点における総板厚を両電極の移動距離の計測値に基づく演算によって自動設定し、かつ、温度変化目標パターンTpをこの総板厚の演算値Bcに応じて自動設定する抵抗溶接制御方法である。 - 特許庁

To provide a manufacturing device of a display device capable of positioning with high precision between a substrate with a pattern formed to form a display part and the positioning member, and also, provide a manufacturing method capable of highly precisely positioning between the substrate and the positioning member used for the display device without having complicated processes.例文帳に追加

表示部を形成するためのパターンが形成された基板と、被位置合わせ部材とを高精度に位置合わせ可能な表示装置の製造装置を提供すること、煩雑な工程を行うことなく高精度に位置合わせ可能な製造方法を提供すること等。 - 特許庁

The electronic parts are manufactured by a method wherein the image recognition of the normal blocks 5 or the fractional blocks 6 are effected based on the pattern 7 for image recognition while bump bonding of the blocks are effected on respective bonding pads 4 of the tip areas 2 constituting the normal blocks 5 and the fractional blocks 6.例文帳に追加

本発明に係る電子部品の製造方法は、正規ブロック5または端数ブロック6を画像認識用パターン7に基づいて画像認識し、正規ブロック5及び端数ブロック6を構成しているチップ領域2それぞれのボンディングパッド4上にバンプボンディングすることを特徴としている。 - 特許庁

The method for successively writing the positioning patterns onto a disk surface by using the servo patterns written to its own disk is so constituted that a plurality of servo patterns strings on the same disk surface are read (a step 1) and that the positioning patterns are alternately written by using the read servo pattern strings (a step 2).例文帳に追加

自己のディスクに書き込まれたサーボパターンを用いて位置決めパターンをディスク面に順次書き込んでいく方法において、同一ディスク面上の複数のサーボパターン列を読み込み(ステップ1)、読み込んだサーボパターン列を用いて交互に位置決めパターンを書き込む(ステップ2)ように構成する。 - 特許庁

By using this inorganic powder recovering method, the photosensitive paste which has excellent developing ability and good pattern accuracy after development, where the residue of organic substance after calcination is little, and which has excellent adhesion is provided even in the case of using the inorganic powder recovered from the waste developer.例文帳に追加

本発明の無機粉体の回収方法を用いると、現像廃液中から回収した無機粉体を使用しても、現像性に優れ、現像後のパターン精度が良好で、焼成後の有機物の残存が少なく、密着性に優れる感光性ペーストを提供することができる。 - 特許庁

In the method for forming a pattern to forming a thick film resist layer 21 by laminating a plurality of photosensitive films 20, each photosensitive film 20 is exposed at each time of lamination, and after all the photosensitive films 20 are laminated, they are developed.例文帳に追加

複数の感光性フィルム20を積層することによって厚膜レジスト層21を形成するパターン形成方法において、1枚の感光性フィルム20を積層する毎に露光を行い、複数の感光性フィルム20の全部を積層した後に現像を行うようにした。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition which exhibits sufficient transmissivity when an exposure light source for F_2 excimer laser light (157 nm) is used, has a fast etching speed, and improves roughness of a sample surface after dry etching, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

160nm以下、具体的にはF_2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源使用時に十分な透過性を示し、エッチング速度が速く、かつドライエッチングを実施した後のサンプル表面の荒れが改善された化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method, in which dopant is diffused with respect to a silicon single-crystal substrate 1, in a position selective manner via the pattern opening 2a formed in the oxide film 2 on the primary surface of the silicon single-crystal substrate 1 in a position selective manner, and the silicon wafer W for semiconductor device is thus manufactured.例文帳に追加

シリコン単結晶基板1の主表面上の酸化膜2に位置選択的に形成したパターン開口部2aを介して、シリコン単結晶基板1に対しドーパントを位置選択的に拡散させて、半導体素子用のシリコンウェーハWを製造する方法である。 - 特許庁

By this manufacturing method, a silicon nitride film 7 of about 4 nm or smaller in thickness is formed on a silicon oxide film 6 formed on the top surface of a semiconductor substrate 1 and then the silicon nitride film 7 and silicon oxide film 6 in an region B where a thin gate insulating film is formed are removed in the order, by using a resist pattern 8 as a mask.例文帳に追加

半導体基板1の表面に形成された酸化シリコン膜6の上層に約4nm以下の窒化シリコン膜7を形成し、次いでレジストパターン8をマスクとして、薄いゲート絶縁膜を形成する領域Bの窒化シリコン膜7および酸化シリコン膜6を順次除去する。 - 特許庁

例文

The surface-shaping method comprises pressing the shaping layer side of the sheet or the laminate by using a mold, and separating the mold (at a mold-separating temperature: T3 which satisfies the relation of 20°CT3Ts) to afford a shaped product to the surface of which the mold pattern is transferred.例文帳に追加

表面賦形方法は、シートまたは積層体の賦形層側を、金型を用いて加圧し、次いで金型を離型する(離型温度:T3)ことにより、表面に金型形状が転写された成形品を形成する方法であって、離型温度T3が20℃≦T3≦Tsである。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS