| 例文 |
pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23003件
In this ion implantation method, ions emitted from an ion source are made to pass through a mask 2 having an opening figure similar to a desired ion implantation region to form a pattern ion beam 4, and the ion beam is projected to the desired region of a wafer 7 with no resist applied, to introduce the ions.例文帳に追加
イオン源から放出したイオンを所望のイオン注入領域と略相似形の開口を有するマスク2に通過させてパターンイオンビーム4を形成し、このイオンビームをレジストが塗布されてないウェハ7の所望の領域に投射して、イオンを導入するイオン注入方法。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for cleaning substrates capable of efficiently and uniformly cleaning the substrate of a semiconductor device or the like with a metallic surface using various metals and on which a circuit pattern is formed by ozone water independently of kinds of the metals in a sophisticated way.例文帳に追加
半導体デバイスのような、種々の金属を使用した回路パターンが形成された金属表面を有する基板をオゾン水で洗浄した場合に、金属の種類によらず、均一で高度な洗浄を行うことができる、効率のよい基板の洗浄方法及び洗浄装置の提供。 - 特許庁
To provide a composition for forming a resist underlayer film including an ionic polymer in which the composition is capable of forming the resist underlayer having antistatic function and solvent resistance and to provide a method for forming a resist pattern using the resist underlayer film formed from the composition.例文帳に追加
イオン性重合体を含むレジスト下層膜形成組成物であって、帯電防止機能及び溶剤耐性を有するレジスト下層膜を形成することができる該組成物及び該組成物から形成されるレジスト下層膜を用いたレジストパターンの形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a resist underlayer film forming material which is effective as an antireflection film material used in microfabrication in a production process of a semiconductor device or the like, and a resist pattern forming method using the same and suitable for immersion lithography with ArF excimer laser light (193 nm).例文帳に追加
半導体素子などの製造工程における微細加工に用いられる反射防止膜材料として有効なレジスト下層膜形成材料及びこれを用い、ArFエキシマレーザー光(193nm)を用いた液浸リソグラフィーに好適なレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
A method for manufacturing the tubular heating element includes: a first step of forming the metallic pattern 12d capable of generating heat by energization on a surface of a resin sheet 171 to obtain a heat generating sheet 17D; and a second step of sticking the heat generating sheet 17D obtained in the first step to the inner circumferential surface of the tubular member 172.例文帳に追加
この製造方法は、樹脂シート171面に通電発熱可能の金属パターン12dを形成して発熱シート17Dを得る第1工程と、第1工程で得た発熱シート17Dを筒状体172の内周面に貼着する第2工程とを含む。 - 特許庁
The display control method includes: an input reception process of receiving the input of the specification of the area in an image displayed at a display part; and a display control process of superimposing the area frame which indicates the area and has a regular first pattern on the image and displaying it at the display part.例文帳に追加
表示制御方法は、表示部に表示された画像における領域の指定の入力を受け付ける入力受付工程と、前記領域を示し、規則的な第一の模様を有する領域枠を、前記画像に重ねて前記表示部に表示させる表示制御工程とを備える。 - 特許庁
To provide an external light shielding film including a substrate made of transparent resin and an external light shielding pattern provided with a plurality of external light shielding patterns which are formed on one side surface of the substrate and are made of a light absorbing member, to provide a method of manufacturing the external light shielding film, and to provide a filter for display apparatus having the external light shielding film.例文帳に追加
本発明は、透明樹脂材質の基材と、基材の片面に形成され、光吸収体で成された複数の外光遮蔽部を備えた外光遮蔽パターンとを含む外光遮蔽フィルムおよびこの製造方法、これを含むディスプレイ装置用フィルタを提供する。 - 特許庁
To provide a reflective mask for EUV exposure, which has a light shielding band superior in cleaning resistance, by improving light shielding performance at an overlapping portion of fields of a transfer pattern in EUV exposure to suppress leakage of exposure light, resulting in reduced effect of shadowing of exposure light, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
EUV露光における転写パターンのフィールドの重なり部分の遮光性を高めて露光光の漏れを抑制し、露光光のシャドーイングの影響を低減し、かつ耐洗浄性に優れた遮光帯を有するEUV露光用の反射型マスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a film antenna with which improvement in pattern accuracy and antenna element invisibility of a film antenna to be pasted or held on a window glass pane of an automobile or the like, simplification in a manufacturing process and work facilitation, improvement in efficiency of residual material discarding and the like can be achieved totally.例文帳に追加
自動車等の窓ガラスに貼着又は挟装されるフィルムアンテナのパターン精度とアンテナエレメントの不可視性の向上、製造工程の簡素化と作業の容易化、及び残余材料処分の効率化等を総合的に可能にするフィルムアンテナの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a roll forming method which facilitates machining, can reduce machining cost, forms fine holes in a metal foil at a prescribed pattern and an aperture ratio, and removes dust, machining wastes, and fines resulting from an environment or a machining process itself during machining, and also to provide the metal foil formed by the same.例文帳に追加
加工が容易であり、加工コストの低減が図れ、金属箔に所定の配置・開口率で微細孔明け加工を行い、該加工での、環境または加工そのものにより発生する塵・加工屑・微粉を排除するロール成形方法及びその方法で製造された金属箔の提供。 - 特許庁
To provide a method for regenerating a silicon wafer from a regeneratable wafer with a multilayer film/pattern which is subjected to miscellaneous film deposition such as deposition of a metal film, a non-metal film, a Low-k film, an organic film and another film or a multilayer film aiming at conductivity, insulation, dielectric or resistance.例文帳に追加
導電性、絶縁性、誘電性、抵抗性等を目的としたメタル膜、ノンメタル膜や、Low−k膜、有機膜、その他の膜や多層膜等の、多種多用な成膜が施されており、これらの再生可能な多層膜・パターン付きウェーハからシリコンウェーハを再生するための方法を提供する。 - 特許庁
The method of constituting the metal material includes a step of preparing the substrate including a region formed from a first semiconductor material, and a second material containing germanium separated by a pattern formed from a dielectric material, a step of performing deposition (F2) of a metal layer, and a step of performing a first thermal process (F3).例文帳に追加
第1半導体材料から作られた領域と、誘電体材料から作られたパターンによって分離されたゲルマニウムを含む第2半導体材料から作られた領域と、を含む基板を準備し、金属層を堆積し(F2)、第1熱処理(F3)を行うことを含む。 - 特許庁
To prevent adverse effect on the product quality by preventing the line width of a conductive convex pattern layer formed by the "drawing primer system intaglio printing method" from becoming thicker when the print speed is increased in order to highly reconcile the electromagnetic wave shielding performance and the optical transparency of an electromagnetic wave shielding material.例文帳に追加
電磁波遮蔽材の電磁波遮蔽性能と光透過性を高度に両立させる為に、「引抜プラマイ方式凹版印刷法」で形成した導電性凸状パターン層の線幅が印刷速度を高速化した時に太るのを防いで製品品質への悪影響を防ぐ。 - 特許庁
To provide a multiwire board, wherein since there is no need for increasing the number of layers of a wiring layer, while coping with increase in the density of a power supply wiring pattern, is able to attain increased density as a whole, and reduce the man-hours and material cost, and to provide a method for manufacturing the multiwire board.例文帳に追加
電源配線パターンの高密度化に対応しつつも、布線層の層数を増加させる必要はないため、全体として高密度化を図ることが可能で、工数や材料コストを抑制することが可能なマルチワイヤ配線板及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an optical waveguide structure having an optical waveguide that enables a greater degree of freedom in pattern shape design, allows a core part (an optical path) to be formed with high dimensional precision by a simple method and is excellent in flexibility and durability, and an electronic equipment having the optical waveguide structure described above.例文帳に追加
パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部(光路)を簡単な方法で形成することができ、また、可撓性および耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体、およびかかる光導波路構造体を備えた電子機器を提供すること。 - 特許庁
In the pattern drawing method, the irradiation energy correction amount map of each development loading effect small section is prepared from a calculated dimension variation amount map in each development loading effect small section, and from the relational expression of the dimension variation amount and the irradiation energy correction amount, or the reference table.例文帳に追加
算出した各現像ローディング効果小区画における寸法変動量マップと、寸法変動量と照射エネルギー補正量との関係式あるいは基準テーブルから、各現像ローディング効果小区画の照射エネルギー補正量マップを作成するパターン描画方法。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution and adhesion and can be developed with an alkaline aqueous solution, to provided a photosensitive resin laminate that uses photosensitive resin composition, and to provide a method for forming a resist pattern on a substrate using the photosensitive resin laminate.例文帳に追加
感度、解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像しうる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いた感光性樹脂積層体、該感光性樹脂積層体を用いて基板上にレジストパターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a resin stamper capable of enhancing workability without generating a defect in a pattern part of the stamper, to provide an imprint device which allows alignment with high accuracy using the stamper and to provide a method for manufacturing a magnetic recording medium of high quality using the imprint device.例文帳に追加
スタンパのパターン部に欠陥を生じることなく作業性を向上させる樹脂スタンパ、そのスタンパを用いて高精度な位置合わせを行うことのできるインプリント装置、およびそのインプリント装置を用いた高品質な磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an electromagnetic element which can form a fine pattern without increasing a leak current caused by a resist residue, and prevent a leak current from increasing with a reduction in the thickness of an insulating film on an electrode edge.例文帳に追加
レジスト残渣に起因するリーク電流の増大を生じさせることがなく、微細パターンの形成が可能であり、電極のエッジ部分の絶縁膜が薄くなることに起因するリーク電流の増大を抑制することが可能な電磁気素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The mask cleaning method includes a step of cleaning a surface of a mask film 32 by irradiating a mask film 32 having a mask pattern formed on a main surface 30a of a substrate 30 with energy beam from the mask film 32 and making the temperature of the mask 32 higher than that of the substrate 30.例文帳に追加
マスク洗浄方法は、基板30の主面30a上に形成されたマスクパターンを有するマスク膜32に、マスク膜32側からエネルギー線を照射して基板30よりもマスク膜32の温度を高温とすることによりマスク膜32の表面を洗浄する工程を含む。 - 特許庁
To provide: a resin film which compatibly achieves both prevention against a position shift of a conductor pattern during sticking and securing of adhesive strength of a resin film during lamination of layers and with which a multilayer circuit board is easily manufactured at low cost; the multilayer circuit board using the same; and a method of manufacturing the same.例文帳に追加
貼り合わせ時の導体パターンの位置ずれ防止と多層化時の樹脂フィルムの接着性確保を両立させることができ、多層回路基板を容易で安価に製造することのできる樹脂フィルムおよびそれを用いた多層回路基板とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To avoid an adverse influence on product quality even if the line width of a conductive convex pattern layer formed by a draw-out primer intaglio printing method becomes thick when its printing speed is made extremely high in order to make the electromagnetic wave shielding performance highly compatible with light permeability of an electromagnetic wave shielding material.例文帳に追加
電磁波遮蔽材の電磁波遮蔽性能と光透過性を高度に両立させる為に、「引抜プラマイ方式凹版印刷法」で形成した導電性凸状パターン層の線幅が印刷速度を高速化した時に太っても、製品品質への悪影響を防ぐ。 - 特許庁
The positive photosensitive resin composition is applied onto the interlayer insulating film 4 and the second conductor layer 7 by a spin coating method, dried, irradiated with light through a mask patterned to form windows 6c in predetermined parts, and developed with an aqueous alkali solution to form a pattern.例文帳に追加
本発明によるポジ型感光性樹脂組成物をスピンコート法にて層間絶縁膜4及び第2導体層7上に塗布、乾燥し、所定部分に窓6Cを形成するパターンを描いたマスク上から光を照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成する。 - 特許庁
To provide an inkjet printing method that selects a bordering liquid, a permeation liquid as required in response to a pattern of image recorded on a cloth, supplies a cloth with the liquids, thereby providing each part with recording ink to give a high-quality bordering part that is clear and suppresses occurrence of irritation.例文帳に追加
布帛に記録する画像の図柄に応じて、縁取り液、及び、浸透液とを随時選択して布帛に付与し、かつ各々の部位に記録インクを付与することにより、鮮明でいらつきの発生が抑制された高品位の縁取り部が得られるインクジェット捺染方法を提供する。 - 特許庁
To provide an excellent actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition suppressing development defect even in patterning by ordinary light exposure and immersion exposure, having a wide exposure latitude and suppressing line edge roughness, and a pattern-forming method to use the composition.例文帳に追加
通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a casting method which suppresses generation of burr of a casting product having a network cast wall, which enables casting with good appearance, and which facilitates assembling operation of a sand mold regardless of the arrangement of the network cast wall, and also to provide a network lost foam pattern.例文帳に追加
網状鋳物壁を有した鋳物製品のバリの発生を抑えかつ見映え良く鋳造することが可能であると共に、網状鋳物壁の配置に拘わらず、容易に砂型の組み付け作業を行うことが可能な鋳造方法及び網状消失模型を提供する。 - 特許庁
To provide a printed wiring board capable of totally confirming misalignment between via holes and wiring patterns immediately after wiring pattern formation of the printed wiring board, and taking corrective action by discovering failures in the early stage to feed back the failures to a process in the case of continuous defects; and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
プリント配線板の配線パターン形成直後に、バイアホールと配線パターン間の位置ズレを全数確認することが可能で、異常を早期発見して連続不良の場合には工程にフィードバックし、是正処置を取ることができるプリント配線板とその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a contaminant resistant coating deposition method and structure configured to control three-dimensional parameters of the pattern of the contaminant resistant materials in coating at multiple scales of dimension to optimize the contaminant resistant efficacy of two or more of the contaminant resistant materials in coating.例文帳に追加
被覆剤中の抗汚染性材料のパターンの三次元パラメータを複数の大きさの規模において制御して、被覆剤中の二以上の抗汚染性材料の抗汚染効果を最適化することができる、抗汚染性被覆剤の蒸着方法及び構造が必要である。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a multilayer printed wiring board that can prevent an adhesive of an outer layer portion adhesive layer of an outer layer portion from flowing out to the surface of an inner layer portion resin layer of a flexible portion, without requiring special processes of printing a belt-like dam print pattern, and the like.例文帳に追加
帯状のダム印刷パターンを印刷するなどの特別の工程を必要とせずに、外層部の外層部接着剤層の接着剤が可撓部の内層部樹脂層の表面に流出するのを阻止することが可能な多層プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a charged particle beam scanning method, along with a charged particle beam device, capable of striking a balance between the suppression of effect of electrostatic charge generated by scanning of a front frame and the suppression of an electrostatic charge phenomenon inherent in a scanning pattern generated when scanning is conducted in the same order.例文帳に追加
本発明は、前フレームの走査によって生じる帯電の影響の抑制と、同じ順番にて走査されることによって生じる走査パターン固有の帯電現象の抑制の両立を実現する荷電粒子線走査方法、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。 - 特許庁
In the printed wiring board having a wiring pattern including, on a surface of an insulation base material 10, a base layer 23 and a copper-plated layer 24 formed by a semi-additive method on top of the base layer, the copper-plated layer 24 has a multilayer structure, wherein a twin particle diameter is <5 μm.例文帳に追加
絶縁基材10の表面に、下地層23と、この上にセミアディティブ法により形成された銅めっき層24とを含む配線パターンを有するプリント配線基板であって、前記銅めっき層24が、多層構造を有し、双晶粒径が5μm未満である。 - 特許庁
The method includes steps of: forming an aluminum film on a nonmagnetic substrate; executing an anodizing process on the aluminum film to form an alumina layer including nano-holes in a self-organizing manner; forming a resist pattern exposing recording track regions; and depositing a magnetic material in the nano-holes in the recording track regions.例文帳に追加
非磁性基板上にアルミニウム膜を形成し、陽極酸化により自己組織的にナノホールを有するアルミナ層を形成し、記録トラック領域が露出したレジストパターンを形成し、記録トラック領域のナノホールに磁性材料を成膜する工程を備えたことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a method of producing a conductive film in which a fine pattern of a high permeability low resistance conductive film can be formed easily while improving insulation significantly, and to provide a touch panel in which durability against writing pressure and flexibility are improved, and an integrated solar cell in which conversion efficiency is improved.例文帳に追加
絶縁性が著しく改善でき、高透過性、低抵抗である導電膜及び簡易にファインなパターンを形成できる導電膜の製造方法、並びに筆圧耐久性及び可撓性が向上したタッチパネル、及び変換効率が向上した集積型太陽電池の提供。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition, obtaining a cured film having superior solvent resistance and heat resisting transparency, having high sensitivity and hardly causing a change in a pattern shape to a change in exposure quantity, and to provide a cured film, a method of manufacturing the same, an organic EL display device and a liquid crystal display device.例文帳に追加
耐溶剤性及び耐熱透明性に優れる硬化膜が得られ、高い感度を有するとともに、露光量の変化に対するパターン形状の変化が小さい感光性樹脂組成物、硬化膜及びその製造方法、有機EL表示装置、並びに、液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a squeegee which, even in wide screen printing, prevents dropping of paste from the squeegee during coating, and enables yield to be improved and manufacturing efficiency of a screen printing process to be increased since any pattern failure caused by paste dropping is eliminated, and to provide a method for manufacturing a plasma display.例文帳に追加
本発明は、広範囲のスクリーン印刷であっても、コート時のスキージからのペースト落下を防止し、ペースト落下起因のパターン不良なしによる歩留の向上、スクリーン印刷工程の製造効率をあげるスキージおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an optical imaging device making the light quantity of a measurement light constant independently of a modulation pattern by a compensation optical system using a spatial light modulation means, and improving the SN ratio of a tomographic image, and to provide a method for imaging an optical tomographic image.例文帳に追加
空間光変調手段を用いた補償光学系により、変調パターンに依らず、測定光の光量を一定とすることができ、断層画像のSN比を向上させることが可能となる光画像撮像装置および光断層画像の撮像方法を提供する。 - 特許庁
A method for inspecting the printed circuit board makes the printed circuit board for mounting the semiconductor integrated circuit coping with boundary scanning, pass through a thermal impact chamber 2 to give thermal impact so as to push a probe 37 for a wiring pattern in the printed circuit board connected to an input terminal and an output terminal of the semiconductor integrated circuit.例文帳に追加
バウンダリスキャン対応の半導体集積回路が実装されたプリント基板を熱衝撃室2を通過させて熱衝撃を与え、半導体集積回路の入力端子及び出力端子に接続されるプリント基板内配線パターンに対してプローブ37を押し当てる。 - 特許庁
The method comprises moving and gathering a plurality of film-forming particles through a migration phenomenon by heating a substrate to form thin film units in a process of forming a film on a substrate surface, and forming a thin film of a concavo-convex pattern with a high aspect ratio on the substrate surface from the plurality of thin film units.例文帳に追加
基板表面に成膜する過程で当該基板を加熱することでマイグレーション現象により複数の成膜粒子を移動集合させて薄膜単位を形成し、これら複数の薄膜単位により基板表面に高アスペクト比凹凸形状の薄膜パターンを形成する。 - 特許庁
To provide an alignment method for precisely aligning each one of shots S1 to S32 a substrate P with a pattern image of a mask M by obtaining an array of the shots S1 to S32 based on the condition of a temperature distribution on upper surface of a first holding section 26 of a substrate table PT.例文帳に追加
基板テーブルPTの第1保持部26上面の温度分布に基づいた条件で、ショットS1〜S32の配列を求めることで、基板PのショットS1〜S32の各ショットと、マスクMのパターン像とを高精度に位置合わせする位置合わせ方法を提供する。 - 特許庁
To provide a cogeneration system and its control method, including a learning control function for: setting a power generation start time and a power generation stop time to maximize target functions (primary energy reduction, heating and lighting cost reduction, CO_2 reduction, and the like); calculating an operation pattern; and taking design life into consideration.例文帳に追加
目的関数(一次エネルギー削減量、光熱費削減量、CO_2削減量等)が最大となる様に、発電開始時刻と発電停止時刻を設定し、運転パターンを計算し、設計寿命をも考慮した学習制御機能を具備するコージェネレーションシステム及びその制御方法の提供。 - 特許庁
The painting method includes, (1) a process of applying undercoat paint comprising at least one species of colored particles dispersed in a dispersion medium onto a substrate to form an undercoat face, and (2) a process of applying transparent color paint in a form of streaks onto the undercoat face to form a streak pattern face.例文帳に追加
基材に対し、(1)少なくとも1種以上の着色粒状物が分散媒中に分散した下塗材を塗付して、下塗面を形成する工程、(2)当該下塗面に対し、透明着色塗料を筋状に塗付して、筋状模様面を形成する工程、を行う。 - 特許庁
This method includes: a molding step of molding the cement composition with a groove portion with the joint-like pattern in a predetermined range of a surface; a painting step of painting at least an area except the groove portion in the predetermined range; and a filling step of filling the groove portion with a joint material.例文帳に追加
表面の所定範囲に目地状模様の溝部を有したセメント組成体を成形する成形工程と、前記所定範囲の少なくとも前記溝部以外の領域を塗装する塗装工程と、前記溝部に目地材を充填する充填工程と、を有する。 - 特許庁
To provide such a radiation sensitive composition with a variable dielectric constant that the dielectric constant of the material can be varied by an easy method, the difference in the varied dielectric constant is sufficiently large, and a stable dielectric pattern or an optical material can be obtained without depending on the use conditions in the succeeding process.例文帳に追加
材料の誘電率変化を簡易な方法で行うとともに、その変化した誘電率差が十分大きな値となり、しかもその後の使用条件によらずに安定な誘電率パターンや光学材料を与えることができる感放射線性、誘電率変化性組成物を提供すること。 - 特許庁
The manufacturing method of the plasma display panel is provided, where the calcining treatment is carried out after a laminated layer of a non-photosensitive inorganic powder containing resin layer and of a photosensitive inorganic powder containing resin layer is formed on a substrate, and exposure/development processing of the photosensitive inorganic powder resin layer is carried out to form a pattern.例文帳に追加
基板上に非感光性の無機粉体含有樹脂層と感光性の無機粉体含有樹脂層との積層を形成し、感光性の無機粉体樹脂層を露光・現像処理して、パターンを形成したのち、焼成処理を行うプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an embroidery data generating apparatus, an embroidery data generating method, embroidery data generating program, and a computer-readable medium storing the embroidery data generating program that generate embroidery data used to sew an embroidery pattern that is suitable for forming an embroidered object.例文帳に追加
刺繍縫製物を形成するのに適した刺繍模様を縫製するための刺繍データを作成する刺繍データ作成装置、刺繍データ作成方法、刺繍データ作成プログラム及び刺繍データ作成プログラムを記録した読み取り可能な記録媒体を提供すること。 - 特許庁
In the method of manufacturing the color filter provided with a laminate photospacer including a color pixel of at least ≥3 layers and a color pattern of at least one or more layers on a glass substrate, the color pixel and the laminate spacer are formed using a small-sized mask continuous exposure system.例文帳に追加
ガラス基板上に、少なくとも3レイヤー以上の着色画素と、少なくとも1レイヤー以上の着色パターンを含む積層フォトスペーサを設けるカラーフィルタの製造方法において、前記着色画素と前記積層スペーサとを小型マスク連続露光方式を用いて形成する。 - 特許庁
To provide an electric inspection jig capable of performing an electric inspection of a wiring board at low cost and in a short time, and a wiring board manufacturing method that involves using the electric inspection jig to perform an electric inspection of a wiring pattern at low cost and in a short time.例文帳に追加
配線基板の電気検査を低コストかつ短時間で実施することが可能な電気検査用冶具を提供するとともに、この電気検査用冶具を用いることにより、低コストかつ短時間で配線パターンの電気検査を伴う配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an optical waveguide structure and an electronic device which have a high degree of freedom for designing a pattern shape, which enable the formation of a core portion (optical path) having high dimensional accuracy by a simple method, and which include an optical waveguide that is excellent in durability and allows high integration.例文帳に追加
パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部(光路)を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れるとともに高集積化が可能な光導波路を備えた光導波路構造体および電子機器を提供すること。 - 特許庁
To provide a substrate processing method that reduces variance in line widths of resist patterns between substrates without increasing a processing time when the resist pattern is formed on each substrate having a resist film formed by performing exposure a plurality of times and also carrying out heating processing and developing processing.例文帳に追加
レジスト膜が形成された各基板に、露光を複数回行い、加熱処理及び現像処理を行うことによってレジストパターンを形成する際に、処理時間を増大させず、基板間のレジストパターンの線幅のばらつきを低減できる基板処理方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method of the multilayer-structured board comprises a process of disposing the electronic component on the surface such that terminals of the electronic component are directed upward, and a first inkjet process of providing a first insulating pattern on the surface so as to embed any step caused by the thickness of the electronic component.例文帳に追加
多層構造基板の製造方法が、電子部品の端子が上側を向くように前記電子部品を表面上に配置する工程と、前記電子部品の厚さに起因する段差を埋めるように第1絶縁パターンを前記表面上に設ける第1インクジェット工程と、を包含している。 - 特許庁
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