「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(416ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and equipment for measurement using a charged particle beam by which connection deviation of a pattern having an optional shape can be measured without drawing step of patterns for measurement to measure the connection deviation and the measurement reproducibility is made high.例文帳に追加

接続ズレを測定するために測定用のパターンの描画工程を必要とせず、また、任意形状のパターンの接続ズレの測定も可能で、測定再現性にも優れた荷電粒子ビームを用いた測定方法および装置を実現する。 - 特許庁

To provide an image collating method, an image collating device and a program that can ensure accurate collating even when collating a linear pattern in an image according to a distance and an angle depending on reference coordinates and a reference axis.例文帳に追加

画像中の線形状パターンについて基準座標と基準軸に応じた距離および角度を基に照合する場合であっても、高精度に照合を行うことができる画像照合方法、画像照合装置、およびプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for discriminating chrysanthemum variety characterized by making a nucleic acid amplification of a chrysanthemum-derived genomic DNA using a primer set including a primer designed in a chrysanthemum retrotransposon sequence and discriminating white ringform chrysanthemum variety based on the resulting amplified product's pattern.例文帳に追加

キクレトロトランスポゾン配列内に設計されたプライマーを含むプライマーセットを用いてキク由来のゲノムDNAを核酸増幅し、得られる増幅産物のパターンに基づいて白系輪ギク品種を識別することを特徴とする、キク品種の識別方法。 - 特許庁

To provide a game machine with which a causal relation between an embodiment of arrangement of a pattern and psychology of a player is caught and the player can concentrates his attention on a game and does not get tired, a method for displaying an image on a screen of the game machine, a computer-readable storing medium and a server.例文帳に追加

図柄の配置態様と遊技者の心理状況との因果関係を捉えて、遊技者が遊技に集中して飽きのこない遊技機、遊技機の画面画像表示方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体及びサーバを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a recess gate of a semiconductor element, capable of preventing damage of an active region, even if a loss of a field oxide film below a path gate and overlay misalignment occur between the active region and a recess pattern in forming the recess gate.例文帳に追加

リセスゲート形成時にパスゲートの下のフィールド酸化膜の損失及び、活性領域とリセスパターンとのオーバーレイミスアライメントが発生しても、活性領域の損傷を防止できる半導体素子のリセスゲートの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate having excellent adhesion property, reducing deficiencies at rib tops and to be used as a mask material for sand blasting so as to process a fine pattern on a substrate to be processed with high yield, and to provide a surface process method by sand blasting by using the laminate.例文帳に追加

密着性に優れ、リブ頂部欠損を低減し、サンドブラスト用のマスク材として被加工基材に微細なパターンを歩留まりよく加工できる感光性樹脂積層体、及びそれを用いたサンドブラスト表面加工方法を提供する。 - 特許庁

A support layer 3 for reinforcement made from glass or ceramics is formed on one surface of a flexible film 1 by a thin film forming method, and on the other surface of the flexible film 1, a metal layer 4 with a circuit pattern is then formed to produce a circuit board 31a.例文帳に追加

可撓性フィルム１の一面に、薄膜形成法でガラスまたはセラミックスからなる補強用支持層３を形成し、次に可撓性フィルム１の他面に、回路パターンを有する金属層４を形成して、回路基板３１ａを形成する。 - 特許庁

To provide a method for directly making a cloth pattern with weaving machinery, in which its edge is surrounded by selvage weave.例文帳に追加

本発明は、衣服製作の基本である人体に合わせ立体的に作成され、修正された型紙に合わせて、布をカッティングし、その生地を縫製する今日採用されている方法に代わり、直接、製織機にて、縁を耳組織で囲った布パターンを作成し提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an ornament which can execute the fine decoration by a plated layer on a surface of a base material, facilitate the manufacture by variously changing the pattern of the decoration, and realize the manufacture at a low cost even the lot is small.例文帳に追加

メッキ層による微細な装飾を基材表面に施すことができるとともに、その装飾のパターンを様々に変更して製造することが容易であり、少ロットでも安価に製造することができる装飾品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed wiring board capable of being exposed so as not to generate a displacement at a relative position of a wiring pattern and each wiring through hole by absorbing irregularity of positions and pitches of the wiring through holes, and to provide its manufacturing apparatus.例文帳に追加

配線用導通孔の位置やピッチのばらつきを吸収して、配線パターンと各配線用導通孔との相対位置にずれが生じないように露光することができるプリント配線板の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

This macromolecular optical waveguide is manufactured through a stamper making process for manufacturing a stamper, a transfer process for concavely installing the core pattern 12 by a heat embossing method using the stamper, and a waveguide forming process for providing the core 13 and the clad cover 14.例文帳に追加

この高分子光導波路は、スタンパを製造するスタンパ製造工程、スタンパを使用した加熱エンボス加工法によってコアパターン１２を凹設する転写工程、コア１３及びクラッド蓋部１４を設ける導波路形成工程を経て製造される。 - 特許庁

In this method for producing reverse stagger back-channel type TFT(thin-film transistor) 7, an island-like pattern to form a semiconductor film 26, low resistance semiconductor film 27, source electrode 23 and drain electrode 22 of the TFT 7 is formed at a time.例文帳に追加

逆スタガ・バックチャネル型のＴＦＴ７を形成する製造方法にあって、ＴＦＴ７の半導体膜２６、低抵抗半導体膜２７、ソース電極２３及びドレイン電極２２を形成するための島状のパターンを一括して形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of stably (reliably and rapidly) a tape carrier for a semiconductor device, such as a TAB tape for LCD, having an ultra-fine wiring pattern while reducing waste in material resources and in time.例文帳に追加

超微細配線パターンを有するＬＣＤ用ＴＡＢテープのような半導体装置用テープキャリアを、材料資源的および時間的な無駄を削減して、安定的に（確実かつ迅速に）製造することが可能な製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which assures higher reliability in the mechanical strength and moisture resistance as the semiconductor device and moreover can improve integration degree by forming a wiring pattern to the entire part of a multi-layer plate, and also to provide a method of manufacturing the same semiconductor device.例文帳に追加

機械的強度や耐湿性といった半導体装置としての信頼性が高く、しかも多層板表面全体に配線パターンを形成して集積度を向上させることのできる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a printed matter with a pattern having visual cubic effects by combining a specified printing technique with a low cost printing technique as a base such as an offset printing for producing a flat printing surface and a process printing.例文帳に追加

平坦な印刷面を作製するオフセット印刷やプロセス印刷等の安価な印刷技法をベースにし、これを特定の印刷技法と組み合わせることで、図柄に視覚的な立体感を有する印刷物の製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a package substrate with a fine circuit pattern by anodic oxidation by which a finer circuit can be provided by using an existing facility, and further a package substrate possible to prevent an interface peel-off phenomenon from occurring between layers can be provided.例文帳に追加

より微細な回路を既存の設備で実現することができるうえ、層間剥離現象の発生しないパッケージ基板を製作することができる、陽極酸化による微細回路パターン付きパッケージ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for measuring beam orientation direction of a multi-beam transmitting antenna capable of measuring highly accurately an actual beam orientation direction of each beam without pattern scanning, even when a plurality of beam orientation directions are displaced from each design value individually.例文帳に追加

複数のビーム指向方向がそれぞれ個別に設計値から変位した場合でも、パターン走査を行うことなく、各ビームの実際のビーム指向方向を高精度に測定可能なマルチビーム送信アンテナのビーム指向方向測定方法を得る。 - 特許庁

To provide a method for forming a design on the surface of an article having a curved surface by which a picture, a character, a design and a pattern or the like are easily applied on the surfaces of a portable telephone, a cup, a bottle and a can or the like and to provide a printed wrapping material.例文帳に追加

曲面を有する携帯電話やカップ、ビン、缶等の表面に、絵やキャラクター、図柄模様などを簡易に付けることができる曲面を有する物品表面への図柄形成方法及び印刷ラッピング材料を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the semiconductor device, first, in a state that a second insulating film 8 provided with a connection hole 12 and a first mask 9' and a second mask 10' having a connection hole pattern are provided on a first insulating film 7, an energy line E is irradiated on the first insulating film 7.例文帳に追加

まず、第１絶縁膜７上に、接続孔１２が設けられた第２絶縁膜８および接続孔パターンを有する第１マスク９’および第２マスク１０’が設けられた状態で、第１絶縁膜７にエネルギー線Ｅを照射する。 - 特許庁

To provide a method and a device for examining appearance with which the appearance of an object to be examined having a repeat pattern such as ruggedness can be examined while using a one-dimensional(1D) image pickup means such as 1D CCD camera and high-speed processing is enabled in simple configuration.例文帳に追加

一次元ＣＣＤカメラ等の一次元の撮像手段を用いて凹凸等の繰返しパターンを有する被検査対象物の外観検査を実行可能で、簡素な構成で高速処理が可能な外観検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition (resist) which allows formation of a thin line pattern excellent in development property and adhesion to a substrate, so that a black matrix for a color filter having high light blocking effect and high reliability can be created, and to provide a method for producing the composition.例文帳に追加

現像特性及び基板密着性の優れた細線パターンの形成を可能とし、高遮光性で高信頼性を持つカラーフィルター用のブラックマトリックスの作成が可能となる感光性樹脂組成物（レジスト）及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a photo-alignment layer, by which pattern exposure with high accuracy can be easily carried out without depending on a conveying direction of a resin substrate even when an inexpensive and simple apparatus or non-parallel beams are used and a continuously conveyed long resin substrate is used.例文帳に追加

安価で簡便な装置や非平行光を用いて、連続搬送する長尺状の樹脂基材を用いても容易に、かつ、搬送方向に囚われずに高精度なパターン状の露光が可能な光配向膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the electronic metronome, the timing of the next downbeat becoming a head of count among a series of set beats can be visually and easily recognized as the analog quantity by using a pattern like a clockface as a display method.例文帳に追加

表示方法として時計の文字盤に似たパターンを用いることで、設定された一連の拍子の中で、次にくるカウントの頭となる強拍のタイミングをアナログ量として視覚的に容易に認識できることを特徴とする電子メトロノームである。 - 特許庁

To provide a device and a method for precisely correcting the rotation and position deviation, magnification difference and orthogonality difference of two patterns when exactly overlapping or linking both the patterns by a pattern generator for preparing a photomask or the like.例文帳に追加

フォトマスクを作成するようなパターン・ジェネレータで２つのパターンを正確に重ねまたは繋ぎ合せる場合に、両パターンの回転および位置ずれ、倍率差および直交性の差を精密に補正するための装置および方法を提供すること。 - 特許庁

A manufacturing method of a printed circuit board includes a step of forming an electroless plating layer on an insulating layer and a step of forming a circuit pattern by applying conductive ink on the electroless plating layer by making use of an ink jet system.例文帳に追加

本発明による印刷回路基板の製造方法は、絶縁層に無電解メッキ層を形成する工程と、無電解メッキ層にインクジェット方式で導電性インクを塗布して回路パターンを形成する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which shortens the manufacturing time of a photomask by shortening a calculation time for finding corrections of a layout for compensation of an influence of proximity exposure effect when a layout pattern is formed on the photomask.例文帳に追加

本発明は、フォトマスク上のレイアウトパターン形成する上で、近接露光効果の影響を補償ため、レイアウトの補正を求めるための計算時間を短縮して、フォトマスクの製造時間を短縮する製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a multilayer circuit interconnection board for reducing position deviation between laminated conductor layers or between insulating layers, and further improving the fining and high density structure in a circuit pattern, and to provide a method for manufacturing the multilayer circuit interconnection board.例文帳に追加

積層される導体層あるいは絶縁層の間において位置ずれが少なく、回路パターンの微細化および高密度化を、より一層、図ることのできる、多層回路配線板、および、その多層回路配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

When a pattern, corresponding to the openings is formed on an electrically conductive substrate using photopolymer by photolithographic method, exposure is performed by directly irradiating the photopolymer with a focused scanning ultraviolet laser light.例文帳に追加

メッキ法で製作したメタルマスクであって、フォトリソグラフ法で感光性樹脂により開口部に相当するパターンを導電性基板に形成する際、収束した紫外線レーザー光を感光性樹脂に直接走査しながら照射することにより露光を行う。 - 特許庁

Furthermore, it can make the drive method simple, while it simplifies the composition of the column drivers 12 and 13 as compared with the conventional mosaic pattern, since one of the 1st electrodes 1 corresponds to only the sub-pixel of the one color.例文帳に追加

更にまた、１個の第１の電極１は１色の副画素のみに対応しているので、従来のモザイクパターンと比較すると、カラムドライバ１２及び１３の構成を簡略化すると共に、その駆動方法を簡易なものとすることが可能である。 - 特許庁

The method comprises laminating a fluorinated polymer layer 103 on substrates 101, 102, patterning the fluorinated polymer to form a relief pattern, and laminating an organic semiconductor or conductive material layer on the substrates 105, 106 using solution.例文帳に追加

この方法は、基板１０１，１０２上のフッ素化ポリマー層１０３を積層し、リリーフパターンを形成するためにフッ素化ポリマーをパターン化し、溶液から基板１０５，１０６上に有機半導体又は導電性材料層を積層することを含む。 - 特許庁

This method of manufacturing a divided wavelength plate filter includes: a process of forming a material layer 12 serving as a divided wavelength plate 208 using photo polymerization monomer; and a process of exposing the photo polymerization monomer layer 12 to a predetermined division pattern with polarized light.例文帳に追加

分割波長板２０８となる材料層１２を光重合性モノマーによって形成する工程と、この光重合性モノマー層１２を所定の分割パターンに偏光露光する工程とを有する、分割波長板フィルターの製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method of the divided wavelength plate filter includes a process for printing a material layer 9 serving as a divided wavelength plate 208 with a predetermined division pattern with a double refraction liquid crystal polymer and a process for orientation-processing the double refraction liquid crystal polymer layer.例文帳に追加

分割波長板２０８となる材料層９を複屈折液晶ポリマーによって所定の分割パターンに印刷する工程と、この複屈折液晶ポリマー層を配向処理する工程とを有する、分割波長板フィルターの製造方法。 - 特許庁

To provide a lithography simulation device for deciding the quality of a circuit layout or a mask pattern created therefor from various aspects, and to provide a lithography simulation program and a method for designing and manufacturing a semiconductor device using the device.例文帳に追加

回路レイアウトや、これを得るために作成されたマスクパターンに対して、その良否を多面的に判断することが可能なリソグラフィシミュレーション装置、ならびにリソグラフィシミュレーションプログラムおよびそれを使用した半導体装置設計製造方法を提供する。 - 特許庁

In a method for inspecting reliability of distance data computed based on a stereo image, a pair of pickup images are obtained by photographing a test chart 21 disposed in an image pickup direction and having a luminance pattern drawn on it by a stereo camera.例文帳に追加

ステレオ画像に基づき算出された距離データの信頼性を検査する方法において、ステレオカメラの撮像方向に配置されていると共に輝度パターンが描かれたテストチャート２１を、ステレオカメラで撮影することによって一対の撮像画像を得る。 - 特許庁

This is a pattern forming method which uses sulfonium salt (A) having cation having -SO_2-coupling which is a compound generating acid by irradiation with active light or radioactive ray, a photosensitive composition containing sulfonium salt, and this photosensitive composition.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物である−ＳＯ_2−結合を有するカチオンを有するスルホニウム塩（Ａ）、当該スルホニウム塩を含有する感光性組成物、及び、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine pattern, exhibiting superior adhesion between an aromatic polyamide film and a metal layer, while facilitating etching in a two-layer substrate for flexible print circuit that employs an aromatic polyamide film.例文帳に追加

本発明の目的は、芳香族ポリアミドフィルムを用いた２層型フレキシプルプリント回路用基板において、該芳香族ポリアミドフィルムと金属層の密着性に優れ、かつエッチングが容易で微細パターンの形成を可能とする方法を提供することにある。 - 特許庁

A manufacturing method of semiconductor device comprises a process of forming the transfer pattern including a line in which width or angle varies by performing multiplex exposure using a plurality of masks including patterns 1A, 1B on a different mask substrate.例文帳に追加

半導体装置の製造方法を、異なるマスク基板上に異なるパターン１Ａ，１Ｂを有する複数のマスクを用いて多重露光を行なって、幅又は角度が変化するラインを含む転写パターンを形成する工程を含むものとする。 - 特許庁

To provide a laser irradiation device for preventing or reducing the formation of a concentric circle pattern, in a laser annealing method employing the laser irradiation device having a low running cost for large-sized substrates.例文帳に追加

大型の基板に対応するためにランニングコストの低いレーザー照射装置を用いたレーザーアニール法において、同心円模様が形成されない、もしくは同心円模様の形成を低減するためのレーザ照射装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Diffraction lines attributed to metallic Si and Si compound cannot be detected in the texture structure by the pattern analysis by X-ray diffraction method and granular texture is unrecognizable by the observation with a transmission electron microscope(TEM).例文帳に追加

また、その組織構造は、Ｘ線回折法によるパターン解析により金属Ｓｉ及びＳｉ化合物に帰属する回折線が検出されず、透過型電子顕微鏡(TEM)の観察によって粒状組織が識別できない組織性状を備えている。 - 特許庁

To provide an antireflective antidazzle film with high display quality having an antidazzle layer having a surface rugged pattern and an antireflection layer thereon and in which the antireflection layer can be easily manufactured by an easy method.例文帳に追加

表面凹凸形状を有する防眩層、さらにその上に反射防止層を有する表示品位の高い反射防止防眩フィルムであって、当該反射防止層を簡易な方法によっても製造できる反射防止防眩フィルムを提供すること。 - 特許庁

To provide an upper antireflection film for extending the depth of a focus, a composition for forming an upper antireflection film, and a pattern forming method using the upper antireflection film.例文帳に追加

本発明は、焦点深度を広げることが可能な上層反射防止膜、該上層反射防止膜を形成するための上層反射防止膜形成用組成物および該上層反射防止膜を用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an original plate for manufacturing by adopting a pattern plotting means which can improve the manufacturing productivity of a printed wiring board, relating to the original plate for manufacturing the printed wiring board and a plotting method for the original plate of the printed wiring board.例文帳に追加

本発明は、プリント配線板の製造用原版およびプリント配線板の製造用原版の作画方法に関わり、プリント配線板の製造生産性を向上できるパターン作画手段を採用した製造用原版を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a FinFET which can prevent loss of an element isolation film and improve current driving capability without causing deterioration of off-leakage characteristic, even if three faces working as a channel of a fin active region pattern are released.例文帳に追加

素子分離膜の損失を防止し、フィンアクティブ領域パターンのチャネルとして機能する３つの面が開放されても、オフ漏れ特性が低下することなく電流駆動能力を向上させることができるＦｉｎＦＥＴの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for printing comprises the steps of forming many fine patterns with a thicker emulsion than a relatively thin screen mesh on a solid pattern printed part of the mesh, using the patterns as spacers between a squeegee and a base plate at the time of printing, and printing by utilizing leveling properties of a paste after printing.例文帳に追加

比較的薄いスクリーンメッシュのべたパターン印刷部にメッシュより厚い乳剤で細いパターンを多数形成し、これを印刷時のスキージと基板とのスペーサとし、印刷後のペーストのレベリング性を利用して印刷する事を特徴とする。 - 特許庁

Then, about each tetrahedron, a triangle is assumed at every other dot parallel to a surface with no Bk point as a vertex and toward the Bk point, and the contents are interpolated by a method that corresponds to a path original pattern of an ink color at each side (S7).例文帳に追加

そののち、各４面体について、Ｂｋ点を頂点として有さない面に平行かつＢｋ点に向かって１格子点おきに三角形を想定し、各辺におけるインク色の道元パターンに応じた方法でその内容を補間する（Ｓ７）。 - 特許庁