「pattern on pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(479ページ目) - Weblio英語例文検索

The polarization direction of the illumination beam is aligned with a polarizing conversion optical system 20 in a direction parallel to an edge 1a of the mask pattern 1A, so that the slopes caused by the diffraction of the diffraction images formed on the exposure object substrate 2 are made sharper.例文帳に追加

また、偏光変換光学系２０により、照明光の偏光方向を、マスクパターン１Ａのエッジ１ａと平行な方向に揃えて、露光対象基板２上に形成される回折像の回折によるスロープを急峻化する構成としてある。 - 特許庁

In the holder 100 for the flexible flat harness, the flexible flat harness 200 having a base material 1 and a conductor layer 2 to form a circuit pattern on the base material 1 is held at a folding part of the flexible flat harness 200 in a folded state.例文帳に追加

可撓性フラットハーネス用保持具１００は、ベース材１、及びベース材１の上に回路パターンを形成する導体層２を有する可撓性フラットハーネス２００を、その可撓性フラットハーネス２００の折り返し部にて折り返した状態で保持する。 - 特許庁

The target substance detecting element for capturing the target substance in the detection of the target substance that uses surface plasmon resonance is constituted, by arranging a metal structure having a specific pattern on a spherical support.例文帳に追加

表面プラズモン共鳴を利用した標的物質の検出における標的物質を捕捉するための標的物質検出用素子として、球状の支持体上に特定のパターンをもった金属構造体が配置されている構成のものを用いる。 - 特許庁

A tire for a vehicle 50 includes a tire carcass 51, a side wall 53, a rubber layer (single or plural layers) forming a tire tread 56 provided on the carcass, a tread pattern comprising multiple blocks 11 divided by a groove 22.例文帳に追加

車両タイヤ（５０）が、タイヤ・カーカス（５１）およびサイドウォール（５３）と、カーカス上に設けられたタイヤ・トレッド（５６）を形成しているゴム層（単数または複数）と、溝（２２）によって分離されている複数のブロック（１１）を有するトレッド・パターンとを包含する。 - 特許庁

This coating is produced by dispersing in water the powder of composite photosemiconductor particles prepared by carrying an inert ceramic as a photocatalyst on the surfaces of photosemiconductor particles such as titania particles in an island-like and/or stripe-like pattern, and then mixing the dispersion with a colloid such as a fluoride emulsion.例文帳に追加

チタニア粒子等の光半導体粒子の表面に光触媒として不活性なセラミックスが島状及び／又は縞状に担持された複合光半導体粒子の粉体を水に分散した後に、フッ素エマルジョン等のコロイドを混入する。 - 特許庁

The etching method forms a resist layer on the substrate by using the photolithography method, uses the resist layer as a mask, removes at least part of the substrate in its thickness direction by the dry etching method and processes the substrate to have a prescribed pattern.例文帳に追加

本発明のエッチング方法は、基材上にフォトリソグラフィー法によりレジスト層を形成し、このレジスト層をマスクとして用いて、基材の厚さ方向の少なくとも一部をドライエッチング法により除去して、所定のパターンに加工する方法である。 - 特許庁

Thus, the sensitivity of the dye of the BCA is enhanced, and even a laser having a wavelength (wavelength within a range of 600 to 800 nm) other than the wavelength (for example, 405 nm) complying with information recording of the dye can record a bar code pattern on the BCA.例文帳に追加

これによりＢＣＡの色素の感度を上げて、色素の情報記録に対応する波長（例えば４０５ｎｍ）以外の波長（６００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内の波長）を持つレーザでもＢＣＡにバーコードパターンを記録できるようにする。 - 特許庁

This method comprises decomposing a source gas with a photochemical reaction, by irradiating the source gas with a near-field light having higher energy than dissociation energy of the source gas, and depositing the decomposed products on a substrate, to form a predetermined pattern.例文帳に追加

原料ガスに、原料ガスの解離エネルギーよりも大きいエネルギーの近接場光を照射することにより、当該原料ガスを光化学反応により分解させ、その分解生成物を基材上に堆積させて所定のパターンを形成する。 - 特許庁

By this color marking method, a complicated pattern can be automatically and effectively drawn on the rear surface or in the inside of a transparent or semitransparent material such as glass, plastic and ceramics at a low cost by irradiating the laser beam once or several times.例文帳に追加

このカラーマーキング方法によれば、レーザを１回乃至複数回照射することにより、自動で効率的に複雑な紋様を低コストで、透明又は半透明のガラス、又はプラスチック、又はセラミックスの裏面又は内部に描くことが出来る。 - 特許庁

Thus, electrical connection including lasers that can be launched into individual optical fibers by at least the electrodes connected by the electrode pattern is implemented, and an optical module wherein optical transmission based on the laser elements driven by the external circuit is obtained.例文帳に追加

これにより少なくとも電極パターンが接続した電極のうちに、個々の光ファイバに入射可能なレーザを含んだ電気的接続が可能となり、外部回路で駆動するレーザ素子による光電送が可能な光モジュールを実現できる。 - 特許庁

To carry out reliable preformat recording by uniformly adhering master information carriers and a magnetic recording medium when statically recording information on a magnetic recording medium by using the master information carriers having a rugged shape pattern corresponding to master information.例文帳に追加

マスター情報に対応する凹凸形状パターンを有するマスター情報担体を用いて磁気記録媒体に情報を静的に記録する際、マスター情報担体と磁気記録媒体とを均一に密着させ、信頼性の高いプリフォーマット記録を行う。 - 特許庁

This micro-opto-electromechanical apparatus comprises: a silicon wafer comprising a plurality of layers; the reflector formed in one of the plurality of layers; and a pattern on the reflector to focus or collimate an incident beam of radiation into a reflected beam.例文帳に追加

本出願は、複数の層を備えるシリコン・ウェハと、複数の層の１つの中に形成される反射器と、放射線の入射ビームを反射ビームに合焦またはコリメートするための反射器上のパターンとを備えるマイクロオプトエレクトロメカニカル装置を開示する。 - 特許庁

The pattern forming material has at least a photosensitive layer on a support, wherein the support has a haze value of ≤5.0% and the photosensitive layer contains at least a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator and a heat-crosslinking agent.例文帳に追加

支持体上に感光層を少なくとも有し、該支持体のヘイズ値が、５．０％以下であり、かつ、該感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤及び熱架橋剤を少なくとも含むことを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

A pattern layer comprising a polyurethane resin for adding 25-35 wt.% far infrared-radiating ceramic powder having ≤ about 5 μm average particle diameter, and an adhesive layer containing a thermoplastic polyurethane- based resin on a base sheet having a parting layer formed thereon.例文帳に追加

離型層を形成したベースシートの上に、平均粒径が約５μｍ以下の遠赤外線放射性のセラミックス粉末を２５〜３５重量％添加するポリウレタン系樹脂を含む図形層と、熱可塑性ポリウレタン系樹脂を含む接着層とを設ける。 - 特許庁

The inkjet layer 3 is formed with an aqueous ink according to an inkjet coating based on data of a color pattern and the clear layer 4 is formed with a hydrophobic clear coating material before the aqueous ink which is applied according to the inkjet coating is dried.例文帳に追加

前記インクジェット層３は色柄パターンのデータに基づくインクジェット塗装により水性インクで形成され、前記クリア層４はインクジェット塗装により塗布された水性インクが乾燥する前に疎水性のクリア塗料で形成されたものである。 - 特許庁

The process for fabricating an electronic device comprises a step for forming a recess along a circuit pattern to be formed on a substrate, and a step for forming a high polymer film having anisotropy in the conducting direction by using high molecular ink.例文帳に追加

本発明に係る電子装置の製造方法は、基板の上に、形成すべき回路パターンに沿って、凹部を形成する工程と、前記凹部の上に、高分子インクを用いて電導方向の異方性を有する高分子膜を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

In a groove pattern forming process, a photoresist film 42 is formed so as to have an opening 42a in a groove forming area on a wafer mask 40 and to be larger than an external shape of the piezoelectric vibration element (mask 40 for wafer).例文帳に追加

溝パターン形成工程において、ウエハ用マスク４０上に溝部の形成領域に開口部４２を有するとともに、圧電振動片（ウエハ用マスク４０）の外形形状よりも大きいフォトレジスト膜４２を形成することを特徴とする。 - 特許庁

The magnetostrictive film 4 is disposed on the outer peripheral surface section of the torque sensor shaft body, and then a plurality of substantially circular holes 13 are arranged and formed in the magnetostrictive film 4 diagonally to the axial direction, thereby forming the magnetostrictive film removing pattern 5.例文帳に追加

トルクセンサシャフト本体の外周面部に磁歪膜４を設け、その後に、その磁歪膜４にほゞ円形の孔１３を軸方向に対し傾斜状に並べて複数個穿つことにより磁歪膜削除パターン５を形成するようにした。 - 特許庁

A protective film 1 having the width and the length not less than the diameter of a wheel W and an adhesive 12 on a back side thereof can be obtained by feeding a roll 10, and being irradiated with laser beams B in a predetermined pattern by a laser beam irradiation machine 2, and cut.例文帳に追加

ホイールＷの直径以上の幅と長さを持ち裏面に粘着剤１２を有する保護フィルム１は、ロール１０が送り出されてレーザー照射機２によりレーザービームＢが所定のパターンで照射されて切断されることで得られる。 - 特許庁

While a wafer W with a developed resist pattern is turned at 300-1000 rpm, preferably at 500 rpm, an organic solvent 43 containing fluorine is discharged to substitute a rinsing liquid 42 left on the wafer W for the organic solvent 43.例文帳に追加

レジストパターンが現像されたウェハＷを３００ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍ、より好ましくは５００ｒｐｍで回転させながらフッ素を含む有機溶剤４３を吐出し、ウェハＷ上に残存していたリンス液４２を有機溶剤４３に置換する。 - 特許庁

A predetermined pattern is formed on a substrate (1) by exposing the surface of the substrate (1) consisting of at least a part of the surface comprising a material showing IR absorption and altering or removing a part of the material.例文帳に追加

本発明によって少なくとも表面の一部が赤外吸収を示す材料から成る基板（１）の表面を露光し、該材料の一部を変質又は除去することによって該基板（１）上に所定のパターンを形成する方法が提供される。 - 特許庁

To provide an original printing plate for lithographic printing capable of forming a hydrophilic/water-repellent pattern by an action of a photo-catalyst, having a sufficient contrast between a hydrophilic part and a water-repellent part, and obtaining a good result on printing density.例文帳に追加

光触媒の作用により親水・撥水パターンを形成可能な平版印刷原版であって、親水性部分と撥水性部分とが十分なコントラストを有し、印刷濃度が良好な結果を得ることができる平版印刷原版を提供する。 - 特許庁

The pattern forming method includes a second resin film forming step of forming the second resin film as the acid transfer film on a first resin film which contains a resin including acid dissociation groups but does not contain a radiation-sensitive acid generator.例文帳に追加

酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第１樹脂膜上に、前記酸転写用膜としての第２樹脂膜を形成する第２樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 - 特許庁

(b) When a photoresist film 20 is formed on the reflection metal film 11 and is subjected to resist development using a specified pattern, the exposed part of the photoresist 20 is removed with TMAH and the reflection metal film 11 under the removed part is simultaneously etched off.例文帳に追加

（ｂ）反射金属膜１１の上にフォトレジスト２０を形成し、所定のパターンでレジストの現像を行う際に、ＴＭＡＨによりフォトレジスト２０の露光部分を除去するとともに、その除去部分の下側の反射金属膜１１をエッチングする。 - 特許庁

To provide a tape carrier type semiconductor device in which an efficient structure of I/O wiring pattern can be provided on a conventional flexible film and the mounting area of a display can be reduced.例文帳に追加

従来用いられている可撓性フィルム基板上に入出力配線パターンの効率的な構造を備えることができると共に、表示装置における実装面積を縮小させることができるテープキャリア型半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image reader capable of reading images using a plurality of background plates differing in density and pattern and performing high-precision shading correction not affected by dust such as paper powder stuck on the background plates nor a scratch etc.例文帳に追加

濃度やパターンの異なる複数の背景板を用いて画像を読み取ることができるとともに、背景板への紙粉等のゴミの付着や擦り傷等に影響されない高精度のシェーディング補正を行うことができる画像読取装置を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the forming die 10 includes steps of: forming a pattern having a concave portion and a convex portion on a substrate 11; and etching the patterned substrate 11 to form a circular arc at the corner of the convex portion.例文帳に追加

この成形型１０の製造方法としては、基材１１に凹部と凸部とを有するパターンを形成する工程と、パターンが形成された基材１１に対してエッチングを施し凸部の角に円弧を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The second circuit substrate 11 of the carrier 10 fitted with an ink cartridge 20 is constituted of a single circuit substrate formed of a hard material, and an anisotropic conductive member 16 is pasted on the second circuit pattern 12 of the second circuit substrate 11.例文帳に追加

インクカートリッジ２０が装着されるキャリア１０の第２回路基板１１を、硬質材料で形成された単一の回路基板で構成し、その第２回路基板１１第２回路パターン１２上に異方性導電部材１６を貼付する。 - 特許庁

The occurrence of short circuits between contacts 25 for bit lines and contacts 35 for storage electrodes can be prevented through a simple process by simultaneously self-aligning the contacts with bit lines 27 and spacers formed on the side walls of a gate electrode pattern 17.例文帳に追加

ストレージ電極用コンタクト３５をビットライン２７とゲート電極パターン１７の側壁に形成されたスぺーサに同時に自己整合することによって、単純な工程でビットライン用コンタクト２５とストレージ電極用コンタクトとの短絡を防止できる。 - 特許庁

After forming a resist pattern covering only the tops of cell regions, it is etched down to the TiN film (etching stop layer) 8 to remove the TiN film 10 and the aluminum alloy film (second conductive film) 9 on peripheral circuit regions.例文帳に追加

セル領域の上のみを覆うレジストパターンを形成した後、ＴｉＮ膜（エッチングストップ層）８に至るまでエッチングを行うことにより、周辺回路領域上のＴｉＮ膜１０とアルミニウム合金膜（第２の導電性膜）９を除去する。 - 特許庁

The method is furthermore comprised of removing a residual layer through etching, after forming the resist pattern over the whole substrate, patterning the polymer thin film (S116), removing the resist coated on the polymer thin film, and completing the second large area stamp (S117).例文帳に追加

さらに、基板全体にレジストパターンが形成した後、エッチングを介して残留レイヤーを取り除いて、高分子薄膜をパターニング(S116)し、高分子薄膜にコーティングされたレジストを取り除いて大面積の第２スタンプを完成(S117)する、各段階を含む。 - 特許庁

One embodiment is related to a method of forming a pattern formation feature section which has more reduced pitches in two dimensions on the substrate, as compared with pitches realized using a standard photolithography processing technique which uses a single high resolution photomask.例文帳に追加

本発明の実施形態は、単一の高解像度フォトマスクを使用する標準のフォトリソグラフィ処理技法を使用して可能なものに比較して、２次元において減少ピッチを有するパターン形成特徴部を基板上に形成する方法に関する。 - 特許庁

The record timing in recording the best test pattern chosen from the two or more test patterns is stored, Based on the record timing, the registration adjustment at the reciprocating record corresponding to the recording medium curvature is made, and then the recording of image is performed.例文帳に追加

複数の前記テストパターンから選択された最良のテストパターンを記録した際の記録タイミングを格納し、この記録タイミングに基づいて、前記記録媒体の湾曲に対応した往復記録でのレジストレーション調整をして画像の記録を行わせる。 - 特許庁

To provide a production method capable of applying a pattern on a grip member in a single mold without requiring a complicated mold used for two-color molding and without increasing the production process and provide a molding.例文帳に追加

二色成形に使用されるような複雑な成形型を必要とすることなく単一の成形型で製造することができ、しかも、製造工程の増加を招くことなく、グリップ部材に図柄を施すことができる製造方法および成形品を提供する。 - 特許庁

Subsequently, the dummy pattern having the ferroelectric film 80B for forming the ferroelectric layer 8B and the metal film 80C for forming the upper electrode layer 8C formed on the upper surface thereof is removed at least partially thus forming ferroelectric capacitors C1 and C2.例文帳に追加

そして、上面に強誘電体層８Ｂ形成用強誘電体膜８０Ｂ及び上部電極層８Ｃ形成用金属膜８０Ｃが形成されたダミーパターンの少なくとも一部を除去し、強誘電体キャパシタＣ１、Ｃ２を形成する。 - 特許庁

The lateral wind control judging part 33 judges the chief lateral wind receiving region on the basis of the lateral wind receiving condition of each region shown by the fed lateral wind information Ssw and specifies the deflection pattern Psw corresponding to the applicable lateral wind receiving region.例文帳に追加

横風制御判定部３３は、入力された横風情報Ｓswに示される各領域の横風受風状態に基づいて主たる横風受風領域を判定し、その横風受風領域に対応する偏向パターンＰswを特定する。 - 特許庁

A CCD camera 4 picks up a measurement pattern 3 displayed on a color cathode-ray tube 2 to detect luminance data and substitutes luminance data to positions other than the position of an imaging device and the accurate position of the image can be detected from the luminance data.例文帳に追加

カラーブラウン管２に表示された計測用パターン３をＣＣＤカメラ４で撮像して、輝度データを検出するとともに、撮像素子の位置以外の位置についても輝度データをあてはめて、これらの輝度データから画像の正確な位置検出を行う。 - 特許庁

To provide a patterned building material with design having a pattern of diatom earth on its surface for allowing a customer to realize that the building material is matched to health consciousness, and capable of being used as an interior material without hanging wallpaper.例文帳に追加

顧客が健康志向にマッチした建材であることを実感できるように、表面に珪藻土によって形成された模様を有し、壁紙を貼ることなく内装材として使用可能な、意匠性を備えた模様付き建材を提供する。 - 特許庁

In the semiconductor circuit pattern formation device, the upper portions of a plurality of holding sections 302 for holding the substrate 101 are connected, and the connection members 303 are fixed on a base (movable stage) for supporting the entire substrate holding section.例文帳に追加

本発明は、基板１０１を保持する複数の保持部３０２の上部が連結され、且つ、その連結部材３０３が、基板保持部全体を支持するベース（可動ステージ上）に固定されていることを特徴とする半導体回路パターン形成装置である。 - 特許庁

The display filter includes the conductive layer consisting of a conductive mesh formed so as to have a specific pattern, consists of the laminate in which the resin layer is laid on the conductive layer and has recesses in the resin layer, at portions where the conductive mesh does not exist.例文帳に追加

特定のパターンに形成された導電メッシュからなる導電層を有し、該導電層上に樹脂層が積層された積層体で構成され、かつ、該導電性メッシュの存在しない部分に該樹脂層の凹みを有するディスプレイ用フィルター。 - 特許庁

A replacement period or cleaning period of the EUV mask is determined in accordance with the difference in growth amount of the foreign bodies growing through EUV exposure on the sunny side and shade side of the pattern of the EUV mask (multilayer reflective mask) for EUV lithography.例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィ用のＥＵＶマスク（多層膜反射マスク）のパターンにおける日向面側と日陰面側とにＥＵＶ露光に伴いそれぞれ成長する異物の成長量の差に応じて、ＥＵＶマスクの交換時期又はクリーニング時期を決定する。 - 特許庁

The droplet ejection apparatus 3 includes a droplet ejection member 65 comprising a droplet ejection head for drawing a prescribed pattern on a substrate by ejecting droplets thereonto, and a post treatment section 70 for carrying out the post treatment of the substrate onto which droplets have been ejected.例文帳に追加

液滴吐出装置３は、サブストレート基板に液滴を吐出して所定のパターンを描画する液滴吐出ヘッドを含む液滴吐出部６５と、液滴が吐出されたサブストレート基板に後処理を施す後処理部７０と、を備えている。 - 特許庁

To provide a lithographic device comprising an illumination system that supplies radiation beams, an array of individually controllable elements that pattern the beams and a projection system that guides the patterned beams to a substrate supported on a substrate table from underneath, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

放射線のビームを供給する照明系、ビームをパターン化する個別に制御可能な要素のアレイ、及びパターン化されたビームを基板テーブル上に支持された基板に導く投影系を備えたリソグラフィ装置及び方法を提供すること - 特許庁

To provide a liquid crystal display device having a specific pattern which can prevent ink from flowing to positions except an intended position when forming a light-shielding layer on a peripheral part of a display area by ink jetting after formation of a coloring layer.例文帳に追加

基板上に着色層を形成後、インクジェット工法を用いて表示領域周縁に遮光層を形成する際、インクが所望の場所以外に流れないように堰き止め可能な所定のパターンを有する液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The lifetime estimation method finds a time when the corrosion quantity of copper for composing a wiring pattern on a printed board reaches a preset corrosion quantity threshold value due to a corrosive gas, and estimates the lifetime of the printed board by a computer system.例文帳に追加

コンピュータシステムにより、プリント基板の配線パターンを構成する銅の腐食性ガスによる腐食量が予め設定された腐食量しきい値に達する時点を求めてプリント基板の寿命を推定する寿命推定方法に関する。 - 特許庁