「pattern on pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(499ページ目) - Weblio英語例文検索

A method of manufacturing a semiconductor device includes a step of forming a (first) mask material film 13 on the film 12 to be worked, a step of making a tapered opening pattern 18 on the film 13, and a step of etching the film 12 by using the film 13 as a mask.例文帳に追加

被加工膜１２上に（第１の）マスク材料膜１３を形成する工程と、前記（第１の）マスク材料膜１３にテーパ形状の開口パターン１８を形成する工程と、前記（第１の）マスク材料膜１３をマスクに用いて前記被加工膜１２をエッチング加工する工程とを備えた半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

To obtain a convenient patterning method employing a metal mask and a method for forming a pattern connected with a large number of circuit units on the surface and rear of a substrate with high connection reliability, in which different patterning can be realized at the electrode part and the wiring part on the circuit board by physical deposition without changing a metal mask set once.例文帳に追加

金属マスクを用いる簡易なパターニング方法で、基板の表裏両面に多数個の回路ユニットが連結されたパターンを接続信頼性のある方法で、且つ、回路基板上の電極部位と、配線部位とでそれぞれ異なるパターニングを、一度セットした金属マスクを交換することなく、物理蒸着にて実現する。 - 特許庁

An information area 15 on which a cross pattern having positional information on an X axis and a Y axis for positioning the pinhole 11 is marked by etching, printing or the like is provided in a pinhole plate 10, and a reflection type photodetector 16 which emits light and detects return light is provided in the information area 15.例文帳に追加

ピンホールプレート１０には、ピンホール１１の位置決めのためのＸ軸及びＹ軸の位置情報を有した交差パターンがエッチングまたは印刷等により刻印された情報領域１５が設けられており、この情報領域１５に光を照射し戻り光を検出する反射型光検出器１６を備えている。 - 特許庁

In this system 100, the positional deviations Ux and Uy of condensing spots on photodetectors 136 and 144 are calculated, and lenses 108 and 110 are simultaneously moved by simultaneously driving adjusting mechanisnls 122 and 124 based on a result thereof, so that the interference pattern is positioned within the pupil surface of a condensing lens 112 by a controller 138.例文帳に追加

システム１００では、制御装置１３８が受光素子１３６、１４４上における集光スポットの位置ずれ量Ｕｘ、Ｕｙを演算、その結果に基づいて調整機構１２２，１２４を同時に駆動してレンズ１０８，１１０を同時に移動し、干渉パターンを集光レンズ１１２の瞳面内に位置させる。 - 特許庁

A semiconductor fabrication apparatus comprises an exposure unit 30, provided within a chamber 10 for exposing a design pattern on a resist film applied on a wafer 20; and a liquid recycle unit 40 for supplying a liquid 23 for use in immersion lithography that raises the numerical aperture of exposure light during exposure to the wafer 20, while recycling the liquid 23.例文帳に追加

半導体製造装置は、チャンバ１０内に設けられ、ウェハ２０上に塗布されたレジスト膜に設計パターンを露光する露光部３０と、露光時にウェハ２０の上に露光光の開口数値を上げる液浸リソグラフィ用の液体２３を再利用しながら供給する液体リサイクル部４０とから構成されている。 - 特許庁

To provide a color filter manufacturing method in which a letterpress reverse offset printing method is used to produce a color filter, linearity at the tip part of a pattern on a substrate is made superior and a color filter is formed without a transfer defect such as a portion of an ink layer, that is to be transfer eliminated, is made residual on a blanket.例文帳に追加

凸版反転オフセット印刷法を用いたカラーフィルタの製造方法において、基板上のパターンの端部の直線性に優れ、また、転写除去されるべきインク層の部分がブランケット上に残留してしまうといった転写欠陥のないカラーフィルタを形成することが可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

A microcomputer 26 provided for a rear ECU 24 controls LED drivers (a scan driver 27 and a data driver 28) so as to turn on and display the LED plate 23 with a lamp pattern read from a data storage part 29 based on a lamp command signal inputted from a lamp system multiplex communication line or the like.例文帳に追加

そして、リアＥＣＵ２４に備えられるマイコン２６が、灯火系多重通信線などから入力される灯火指令信号に基づき、データ記憶部２９から読み出した灯火パターンでＬＥＤ板２３を灯火表示するように、ＬＥＤドライバ（走査ドライバ２７およびデータドライバ２８）を制御する。 - 特許庁

After a conductor layer 3 composed of a wiring circuit pattern is formed on a base insulating layer 2, a cover insulating layer 4 is formed on the insulating layer 2 to cover the conductor layer 3 and to form an opening 5 for terminal, and the exposed portion of the conductor layer 3 exposed from the opening 5 is used as the terminal 6.例文帳に追加

ベース絶縁層２の上に、配線回路パターンからなる導体層３を形成し、ベース絶縁層２の上に、その導体層３を被覆し、かつ、端子用開口部５が形成されるように、カバー絶縁層４を形成して、端子用開口部５から露出する導体層３の露出部分を端子部６とする。 - 特許庁

The stored code can be displayed on the panel display device 12 by the specified 1st operation, and also by a CPU 46, when the input operation for operating the faulty unit is performed on a control panel 10, or the like, the specific pattern for notifying the fault is displayed anew by referring to this code.例文帳に追加

また、記憶されたコードは、所定の第１操作によってパネル表示装置１２に表示可能であると共に、ＣＰＵ４６は、当該コードを参照することにより、故障したユニットを操作するための入力操作が操作パネル１０にて行われたとき等に、その故障を報知するための所定のパターンを改めて表示させる。 - 特許庁

The pattern formation method includes a step of providing affinity for liquid by means 102 for selectively generating plasma on a liquid-repellent thin film, for example, a semiconductor film, on a substrate having insulating property, for example, a glass substrate, and discharging a drop composition onto the surface having affinity for liquid by drop discharge means 103.例文帳に追加

絶縁性を有する基板、例えばガラス基板上に撥液性の薄膜、例えば半導体膜に選択的にプラズマを発生する手段１０２によって親液性にし、前記親液性表面に、液滴吐出手段１０３により液滴組成物を吐出して、パターンを作製する工程を含む。 - 特許庁

A vapor deposition mask 12 is positioned between a vapor source 16 and a plastic substrate 10 and a vaporizing material from the vapor source 16 is selectively passed through an opening matching the pattern of a vapor deposition layer of an EL element formed on the mask 12, to form the vapor deposition layer on the plastic substrate 10.例文帳に追加

蒸着マスク１２を蒸発源１６とプラスチック基板１０との間に配置し、蒸着マスク１２に形成されているＥＬ素子の蒸着層のパターンに応じた開口部によって選択的に蒸発源１６からの蒸発物質を選択的に通過させてプラスチック基板１０上に蒸着層を形成する。 - 特許庁

For example, by displaying a pattern which can be a number on the light emitting part, the person located on the subject side is allowed to visually confirm exposure time remaining when long-time exposure is performed through the light emitting window 102 or to visually confirm shutter time remaining when self-timer photography is performed through the light emitting window 102.例文帳に追加

例えば数字になるようなパターンを発光部に表示させることで、被写体側に位置している人物に長時間露光が行なわれているときの残りの露光時間を、発光窓１０２を通して視認させたり、セルフタイマ撮影が行なわれているときの残存秒時を、発光窓１０２を通して視認させたりする。 - 特許庁

When a plurality of sectioned regions on a wafer are exposed by the step-and-scan system, a processing for enhancing the precision of alignment between a pattern and an object is performed based on the measurements of the encoder systems for every exposure start point where the measurement error of the encoder system caused by acceleration of the wafer stage WST is reduced.例文帳に追加

すなわち、ウエハ上の複数の区画領域をステップ・アンド・スキャン方式で露光する際に、ウエハステージＷＳＴ体の加速度に起因するエンコーダシステムの計測誤差が小さくなる露光開始点毎に、エンコーダシステムの計測値に基づいてパターンと物体との位置合わせ精度を向上させるための処理が行なわれる。 - 特許庁

For the optical filter 50 and the display device, an electromagnetic wave shield layer 51 where a conductive geometric pattern is formed, a near infrared ray interrupting layer 53 and an adhesive material layer 58 are stacked on the surface of a transparent plastic film base material and the adhesive material layer 58 is arranged on the top surface of one surface.例文帳に追加

透明プラスチックフィルム基材の表面に導電性の幾何学パターンが形成された電磁波シールド層５１、近赤外線遮断層５３、及び粘着剤層５８が積層されており、この粘着剤層５８は片面最表面に配置されている表示装置用光学フィルター５０が提供される。 - 特許庁

The structure that the metal balls 106 are not provided at the four corners of the grid pattern is determined based on the result of the temperature cycle test that abrupt changes in ambient temperature are repeated after mounting a semiconductor device 1 on a mounting board via the bump electrodes of the metal balls 106 and the shock test which provides an established shock.例文帳に追加

格子状形状の４隅に金属ボール１０６を設けない構造は、半導体装置１を金属ボール１０６のバンプ電極を介して実装基板へ実装した後、急激な周囲温度の変化を繰り返す温度サイクル試験、及び所定の衝撃力を与える衝撃試験の結果に基づく処理である。 - 特許庁

The alteration detection system 100 extracts an entry start time and an entry end time to each field that is a component of an item by referring to coordinate information based on a position coordinate on a dot pattern contained in entered information, and calculates the time required for entry to each field of a form by a writer.例文帳に追加

改竄検出システム１００は、記入情報に含まれるドットパターン上の位置座標に基づいて座標情報を参照することにより、項目の構成要素である各フィールドへの記入開始時刻と記入終了時刻を抽出し、記入者が帳票の各フィールドへの記入に要した時間を算出する。 - 特許庁

To provide a simple and rational method for manufacturing a color filter substrate, which comprises a transparent substrate, and on the transparent substrate, at least a black matrix, a colored pixel layer, a transparent conductive film, a resist pattern comprising a positive photoresist on the transparent conductive film, and a predetermined opening formed in the transparent conductive film.例文帳に追加

透明基板上に、少なくとも、ブラックマトリックスと、着色画素層と、透明導電膜と、該透明導電膜上にポジ型のフォトレジストからなるレジストパターンと、該透明導電膜自体には所定の開口部と、が形成されているカラーフィルタ基板の簡素で合理的な製造方法を提供すること。 - 特許庁

Since the heater part 190 is arranged on the pump cell 40, a leakage current from the heater pattern 60 is allowed to escape from an electrode (especially the electrode 44) of the pump cell 40, and the leakage current is prevented from reaching the second solid electrolyte layer 130 and from exerting an influence on concentration detection accuracy of a specific component by a sensor cell 20.例文帳に追加

ポンプセル４０上にヒータ部１９０を配置させたことで、ヒータパターン６０からの漏れ電流をポンプセル４０の電極（特に電極４４）から逃がせ、その漏れ電流が第２固体電解質層１３０に到達してセンサセル２０による特定成分の濃度検出精度に影響を及ぼすのを防げる。 - 特許庁

In the pressure-sensitive adhesive tape which has a pressure- sensitive adhesive layer 3 on one surface 2 of a tape substrate 1 and is formed in the shape of a roll, an indication 5 of a desired home page address is inscribed on the other surface 4 of the tape substrate 1 repeatedly in a pattern at nearly equal intervals 7 in the crosswise direction of the tape substrate by printing or the like.例文帳に追加

テープ基材１の一方の面２に感圧接着剤層３を施してロール状に形成した粘着テープにおいて、テープ基材１の他方の面４に、所望のホームページアドレスの表示５をテープ基材の緯方向に略等しい間隔７で繰返し模様状に印刷等で表記する。 - 特許庁

In the light scattering type liquid crystal display device wherein a transparent segment electrode 3 and a transparent common electrode 4 are formed on the inner surfaces of upper and lower glass substrates 1 and 2 disposed opposite to each other, respectively, and a light scattering type liquid crystal 5 is encapsulated therebetween, an LED 31 and a conduction pattern thereof are provided on the frame 2a1 of the glass substrate 2.例文帳に追加

対向して配設した上下のガラス基板１、２の内面に透明なセグメント電極３及び透明のコモン電極４を形成し、且つ光散乱型液晶５を封入して成る光散乱型液晶表示装置において、ガラス基板２の額縁２ａ1上にＬＥＤ３１とその導通パターンを設ける。 - 特許庁

A pattern is formed by at least using a droplet delivering method for delivering and applying liquid material as droplets on a reel to reel substrate which is a tape-shaped substrate 11 and end parts of the tape-shaped substrate 11 are respectively wound on a first reel 101 and a second reel 102.例文帳に追加

テープ形状基板１１であって該テープ形状基板１１の両端部位がそれぞれ第１リール１０１と第２リール１０２に巻き取られてなるリールツーリール基板に、液状体を液滴として吐出して塗布する液滴吐出方式を少なくとも用いて、パターンを形成することを特徴とする。 - 特許庁

In the manufacturing method of the plane heating element in which an aluminum foil laminated on the insulating board is etched in a given pattern, carbon paste is printed, current input terminals are coupled in parallel, and the aluminum foil laminated on the insulating board is etched by tempering step by step.例文帳に追加

絶縁基板に積層されたアルミニウムホイルを所定のパターンでエッチングし、カーボンペーストをプリンティングした後、電流入力端子を並列に連結する面状発熱体の製造方法において、絶縁基板に積層されたアルミニウムホイルを段階的にテンパリングしてエッチングすることを特徴とする面状発熱体の製造方法。 - 特許庁

When an up-shift command is output, maximum wheel driving force F is obtained based on an engine load corresponding to present vehicle speed on the down-shift line in a high speed stage in a shifting pattern or the gear ratio of the high speed stage.例文帳に追加

S11 では、変速パターンにおける高速段から現在の変速段へのダウンシフト線上での現在の車速に対応するスロットル開度TVO _DWN を検索し、S12 で、TVO _DWN およびN _t から、高速段での最大タービントルクＴ_t (2) を検索し、S13 で、Ｔ_t (2) と、高速段ギヤ比Ｇ_RTO (2) と、定数ｋとを掛けて高速段での最大車輪駆動力F2を算出する。 - 特許庁

To provide a substrate processing system for coating surfaces of substrates to be processed with a film of a processing solution and forming a predetermined pattern on each substrate in cooperation of an exposure device, which system can coat the processing solution on each substrate uniformly and can increase a substrate processing throughput when cooperated with the exposure device.例文帳に追加

被処理基板の表面に処理液の膜を塗布形成し、露光装置と連動して基板に所定のパターンを形成する基板処理システムにおいて、各基板に処理液を均一に塗布することができ、露光装置と連動した際の基板処理のスループットを向上することのできる基板処理システムを提供する。 - 特許庁

A conductive member 1 for a non-contact data carrier is configured by adhering a conductive layer 8 configured of a metallic foil of a predetermined pattern through an adhesive layer 7 on a substrate 2, and a concavoconvex mark 4 is formed by embossment on a substrate 2 and a conductive layer 8.例文帳に追加

非接触型データキャリア用導電部材１は、基材２上に所定のパターンの金属箔からなる導電層８が接着剤層７を介して接着されている非接触型データキャリア用導電部材１において、前記基材２又は導電層８上には、エンボス加工によって凹凸状のマーク４が形成されている。 - 特許庁

This decorative plate 1 for the exterior wall material is characterized in that a printed pattern layer 12 is formed on a surface part of a thin steel plate 10 which is formed with a colored substrate coating layer 11 on its whole surface formed with joint grooves 2 and having the surface part 3 dividedly formed by the joint grooves.例文帳に追加

表面に目地溝２が形成されると共に該目地溝により区画形成された表面部３を有する表面全面に着色下地塗膜層１１が形成された薄板鋼板１０の前記表面部に印刷絵柄層１２が形成されてなることを特徴とする外壁材用化粧板１。 - 特許庁

The method tests for continuity, by fitting the second press fit connector 38 of a testing jig 39 mounted on a testing printed circuit board 40 to the first press fit connector 14 mounted on the board 20 and connecting the testing conductor pattern of the printed circuit board selectively to the respective output land of the testing jig.例文帳に追加

その検査方法は、検査用プリント回路板４０に実装された検査用治具３９の第２プレスフィットコネクタ３８をプリント回路板２０上に実装された第１プレスフィットコネクタ１４に嵌合させ、プリント回路板の検査用導体パターンを検査用治具の出力ランドの各々に選択的に接続して導通検査する。 - 特許庁

The hologram sheet material comprises: a long transparent hologram substrate 1 which is transparent to UV rays or electron beams; a transparent rugged thin film layer 2 formed on the surface of the hologram substrate 1 and suitable for reproducing a hologram; and a geometrical pattern formation part 3 locally formed on the transparent rugged thin film layer 2.例文帳に追加

本発明によるホログラム生地は、紫外線または電子線に透明な長尺の透明ホログラム基板１と、前記ホログラム基板１の表面に形成されホログラムの再現に適した透明凹凸薄膜層２と、前記透明凹凸薄膜層２の上に局部的に形成された幾何学模様形成部分３から構成されている。 - 特許庁

The glass material having a specified fine concavo-convex pattern on its surface is manufactured by using an anodized porous alumina excellent in heat resistance which is formed by anodizing an aluminum material and has a hole array structure on its surface as a mold for imprinting and transferring its surface geometric structure to the glass material.例文帳に追加

アルミニウム材の陽極酸化により形成され、表面にホールアレー構造を有する耐熱性に優れた陽極酸化ポーラスアルミナをインプリント用モールドとして用い、その表面幾何学構造をガラス材に転写することにより、表面に所定の微細凹凸パターンを有するガラス材を製造する方法。 - 特許庁

To provide a wet processing method and a wet processing device that simplify a configuration and reduce processing costs when the pattern of a circuit etc., is formed on the substrate of silicon etc., and prevent dirt of photoresist, a metal film, etc., peeled from the silicon substrate from re-sticking on the silicon substrate.例文帳に追加

シリコン等の基板上に回路等のパターンを生成する場合において、構成の簡略化及び処理コストの低減化を実現し、シリコン基板から剥離したフォトレジスト及び金属膜などの汚れがシリコン基板上に再付着するのを防止し得るウエット処理方法及びウエット処理装置を提供する。 - 特許庁

The energy saving diagnosis work support server 10 creates an overall table using the measurement data based on the interval of the overall table transmitted from the terminal device 16 and unit data of a measured object, and creates a graph according to a selected graph pattern transmitted from the terminal device 16 based on the overall table.例文帳に追加

省エネ診断業務支援サーバ１０は、端末装置１６から送信されてくる統括表のインターバルおよび計測対象の単位のデータに基づいて計測データを用いて統括表を作成するとともに、端末装置１６から送信されてくる選択されたグラフパターンに応じたグラフを統括表に基づいて作成する。 - 特許庁

This antenna forming method is characterized by forming a masking 4 for shielding an antenna pattern formed of a metal film 2, on the metal film 2 provided on a base material 1, and then chipping an exposed portion of the metal film 2 by blasting to form the antenna consisting of the metal film 2.例文帳に追加

本発明のアンテナの形成方法は、ベース基材１上に設けられた金属膜２に、その金属膜２から形成されるアンテナパターンを遮蔽するマスキング４を施した後、ブラスト加工により、金属膜２の露出している部分を削り取り、金属膜２からなるアンテナを形成することを特徴とする。 - 特許庁

After the reflection preventing film 4 containing a first organic material having high absorption factor at the wavelength of exposing light used for lithography and a second organic material having a large film density and high light stability is formed on a gate electrode film 3, the resist pattern 5a is formed on the reflection preventing film 4 by lithography.例文帳に追加

リソグラフィに用いる露光光の波長における吸収率が高い第一の有機材料と、膜密度が大きく且つ光安定性が高い第二の有機材料とを含む反射防止膜４をゲート電極膜３の上に形成し、リソグラフィにより前記反射防止膜４の上にレジストパターン５ａを形成する。 - 特許庁

To provide a pressure-sensitive adhesive tape for high-resolution photomask protection which is excellent in re-peelability (properties of leaving no paste on adherend after peeling), and avoids entry of bubbles even when the pressure-sensitive adhesive tape is stuck on a photomask with a complex pattern having fine dots and thin lines arranged at narrow intervals.例文帳に追加

再剥離性（剥がした場合に被着体に糊残りしていない性能）に優れ、複雑で、ドットが小さく、線の細い、また線の間隔が狭いパターンの描かれたフォトマスクにフォトマスク保護用粘着テープを貼り付けても気泡が混入しない解像度の高いフォトマスク保護用粘着テープの提供。 - 特許庁

By supplying the film material (liquid material) by an ink jet system, the film material can be supplied only to a desired part of the semiconductor substrate and the supply thereof to an unnecessary part is prevented and the irregularity of film thickness is prevented from depending on the pattern on a semiconductor wafer.例文帳に追加

インク・ジェット方式で膜材料（液体材料）を供給することにより、半導体基板４２上の所望の部分にのみ膜材料を供給することができ、不要な部分への膜材料の供給が防止されるとともに、膜厚のばらつきが半導体ウエハ上のパターンに依存することがなくなる。 - 特許庁

There is provided an electric circuit pattern, which comprises an interlayer insulating film 8 formed on a semiconductor substrate 9, a comb wiring 1 formed on the interlayer insulating film 8, the wiring 1 including a comb teeth wiring section 4 and a comb handgrip section 5, and a floating wiring 2 disposed between the adjacent comb teeth wiring section 4.例文帳に追加

半導体基板９上に形成された層間絶縁膜８と、層間絶縁膜８上に形成された、くし歯配線部４とくし柄部５を有するくし型配線１と、層間絶縁膜８上に形成され、隣接するくし歯配線部４の間に配置されたフローティング配線２とを備えた電気回路パターンを有する。 - 特許庁

When the original having an exposure pattern that is carried in the aligner is aligned by observing an alignment mark on the original by an observation means, the alignment mark on the original is observed by the observation means for measuring the position in advance (step 51), and the measured result is stored as data accompanying the original (step 52).例文帳に追加

露光装置に搬入された露光パターンを有する原板を、該原板上のアライメントマークを観察手段により観察してアライメントする場合に、あらかじめ、観察手段により原板のアライメントマークを観察してその位置を計測し（ステップ５１）、この計測結果を原板に付随するデータとして記憶しておく（ステップ５２）。 - 特許庁

To provide a photosensitive transfer material which suppresses deformation during lamination of a photosensitive resin layer, is free of resist film break on through holes, well exhibits meltability and also ensures good adhesiveness to a substrate, in the production of a printed circuit board, particularly in the production of a wiring pattern of copper on a copper clad laminate having through holes.例文帳に追加

プリント配線基板製造、特に、スルーホールを有する銅張積層板への銅の配線パターン製造において、感光性樹脂層のラミネート時の変形を抑制し、スルーホール上でのレジスト膜破れもなく、また、十分に溶融性を示し、基板との密着性も良好となる感光性転写材料を提供することである。 - 特許庁

To provide an IC card substrate of a both-surface conduction pattern type, which is simpler in manufacturing process than a system having copper foil on both its surface and reducible in cost, and is not much lowered in radio wave detection characteristic when compaired with a system having conductive paste on its both surfaces, and its manufacturing method.例文帳に追加

両面を銅箔とした方式のものに比べて製造工程が簡単で、コスト低減が可能であり、しかも、両面を導電ペーストとした方式のものに比べて電波の検出特性がそれほど低下することのない両面導電パターン型のＩＣカード用基板とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a technique for preferentially polishing a projection under the control for polishing of a recess and for highly flattening polishing surface with extraordinary small quantity of polishing work, with less dependence on pattern of polishing velocity on the occasion of polishing the surface to be polished of a material layer of the silicon dioxide system during manufacture of a semiconductor integrated circuit device.例文帳に追加

半導体集積回路装置の製造において、二酸化ケイ素系材料層の被研磨面を研磨する場合の研磨速度のパターン依存性が少なく、凹部の研磨を抑制しながら凸部を優先的に研磨でき、極めて少ない研磨量で被研磨面を高平坦化することが可能な技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer printed wiring board, wherein laser processing can be carried out without controlling the laser energy depending on whether an inner wiring pattern is present or not, and without causing a penetration failure to an outer metal foil which serves as a power feeder layer for electrolytic plating when a through-hole filled with metal is provided on a multilayer printed wiring board.例文帳に追加

多層プリント配線板に金属が充填されたスルーホールを形成する際に、内層配線パターンの有無によるレーザエネルギーのコントロールを不要にし、且つ、電解めっきの給電層となる外層金属箔の貫通不良の懸念のないレーザ加工を可能とした多層プリント配線板の製造方法の提供。 - 特許庁

By means of a tape material as a source material whose first and second copper layers 22A, 22B are disposed on both surfaces of a polyimide resin film 1, a wiring pattern 2 on a predetermined region of which the semiconductor device is mounted is formed by sequentially exposing, developing and etching the first copper layer after a masking tape 23 is bonded to the second copper layer 22B.例文帳に追加

ポリイミド樹脂フィルム１の両面に第１，第２の銅層２２Ａ，２２Ｂが設けられたテープ材料を出発材料とし、第２の銅層２２Ａにマスキングテープ２３を貼り付けた後、第１の銅層に露光、現像及びエッチングを順次施して、所定領域に半導体装置が実装される配線パターン２を形成する。 - 特許庁

Then, when a given specified winning combination is presented as the result of the lottery by the pattern lottery processing (S3), the display on the lower liquid crystal display 4 shown from the lottery result is replaced with the display based on the replacement image data in the image data memory area 52A to award a special favor with the contents just liked to the replacement image data.例文帳に追加

そして、図柄抽選処理（Ｓ３）の抽選結果が所定の特定当選役となった場合には、当該抽選結果に基づき表示されている下部液晶ディスプレイ４の表示を、画像データ記憶領域５２Ａの置換画像データに基づく表示に置換し、当該置換画像データに係る特典内容を付与する。 - 特許庁

When an image synthesis process is set as user settings, an image processing unit 312c changes, in accordance with the user settings, the display configuration of at least a portion of an area on the third preview image data that corresponds to an area on the input image data from which another image data (e.g., fixed pattern) is synthesized.例文帳に追加

画像加工部３１２ｃは、ユーザ設定として画像合成処理が設定されている場合に、当該ユーザ設定に従って、他の画像データ（定型パターンなど）が合成される入力画像データ上の領域に対応する、第３プレビュー画像データ上の領域の少なくとも一部の表示態様を変更する。 - 特許庁

That is, a first temporary correction value corresponding to a first portion of a test pattern is determined based on a density measurement value of each row region in the first portion, and then, a first correction value corresponding to a first printing mode is set by each row region based on a value obtained by multiplying an attenuation coefficient to the first temporary correction value.例文帳に追加

すなわち、テストパターンの第１部分における列領域毎の濃度測定値に基づいて、第１部分に対応する第１仮補正値を列領域毎に定め、第１仮補正値に減衰係数を乗じた値に基づいて、第１印刷方式に対応する第１補正値を前記列領域毎に設定する。 - 特許庁