「pattern on pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(76ページ目) - Weblio英語例文検索

The method is the information reproducing method for reading the information recorded in the optical disk which is configured that, based on configuration of a command pattern issued by application software, the digital audio reproducing pattern or the ripping pattern is determined, and rotational speed of an information medium is determined with low-speed rotation for the digital audio reproducing pattern and high-speed rotation for the ripping pattern.例文帳に追加

光ディスクに記録された情報を読み出す情報再生方法であって、アプリケーションソフトにて発行されるコマンドパターンの構成をもとに、デジタルオーディオ再生パターンかリッピングパターンかを判定し、デジタルオーディオ再生パターン時には低速回転で、リッピングパターン時には高速回転で、情報媒体の回転速度を決定する構成とした。 - 特許庁

The pattern forming section 3 has a positioning unit 31 positioning and superposing the base plate and the mold, a pattern forming unit 33 pushing the mold after positioning to the base plate after positioning in the positioning unit 31, and a peeling unit 32 peeling the mold used for forming the pattern from the base plate on which the pattern is formed in the pattern forming unit 33.例文帳に追加

パターン形成部３は、基板と金型とを位置決めして重ね合わせる位置決めユニット３１と、位置決めユニット３１において位置決め後の基板に対し位置決め後の金型を押し付けるパターン形成ユニット３３と、パターン形成ユニット３３においてパターンが形成された基板からパターン形成に使用された金型を剥離する剥離ユニット３２とを有する。 - 特許庁

A syntax pattern group composed of rules for performing output of registration data based on a pattern matching condition is classified according to the complicatedness of rules and set as a plurality of syntax pattern groups, and syntax pattern matching analysis processing is executed while successively applying the syntax pattern groups in ascending order of the complicatedness of rules.例文帳に追加

パターンマッチ条件に基づき登録データの出力を行なうルールから構成される構文パターン集をルールの複雑度に応じて区分して、複数の構文パターン集として設定し、ルールの複雑度の低い構文パターン集から、ルールの複雑度の高い構文パターン集を、順次適用して構文パターンマッチ解析処理を実行する。 - 特許庁

This inspection method has a process S3 for extracting reference pattern information of an inspection object, a process S4 for forming a two-dimensional Fourier transform filter for canceling the reference pattern information based on the reference pattern information, and a process S5 for inspecting a defect pattern other than a reference pattern of the inspection object by using the two-dimensional Fourier transform filter.例文帳に追加

また、検査方法において、検査対象物の基準パターン情報を抽出する工程（Ｓ３）と、基準パターン情報に基づき、この基準パターン情報をキャンセリングする二次元フーリエ変換フィルタを形成する工程（Ｓ４）と、二次元フーリエ変換フィルタを使用し、検査対象物の基準パターン以外の欠陥パターンを検査する工程（Ｓ５）とを備える。 - 特許庁

To provide a method of treating a substrate by which a process of working an organic film pattern into a new pattern form can be performed smoothly by performing second developing treatment for the organic film pattern, wherein the original organic film pattern formed on the substrate is an organic film pattern formed into a thick film having at least two steps or more.例文帳に追加

基板上に形成された当初の有機膜パターンが、少なくとも２段階以上の膜厚に形成された有機膜パターンであり、前記有機膜パターンに対する２回目の現像処理により前記有機膜パターンを新たなパターン形状に加工する処理をスムーズに行うことを可能とする基板処理方法を提供する。 - 特許庁

In regard to a corresponding decoding step the method comprises extracting from the recorded document, a retrieved pattern element for said pixel, determining a pattern element depending upon a major component extracted from the retrieved pattern element and the position of the pixel on the recorded document, and comparing the retrieved pattern element and the said determined pattern element.例文帳に追加

対応する復号工程に関して、方法は、画素に対する検索パターン要素を、記録文書から抽出する工程と、検索パターン要素から抽出された主成分、及び記録文書上の画素の位置に依存するパターン要素を判定する工程と、検索パターン要素及び判定パターン要素を比較する工程とから成る。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes: a resist pattern forming process of applying the above resist pattern thickening material to cover the surface of a resist pattern after the resist pattern is formed on the objective surface to be worked; and a patterning process of patterning the surface to be worked by etching by using the thickened resist pattern as a mask.例文帳に追加

被加工表面上にレジストパターンを形成後、レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することによりレジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工表面をパターニングするパターニング工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

A resist pattern formation method forms a resist pattern 2, forms a protection film 3 for protecting the resist from ozone ashing on the resist pattern, irradiates the resist pattern with electron beam 4 via the protection film in an atmosphere in which oxygen exists like in the air, and then forms the resist pattern where dry etching resistance is improved by removing the protection film.例文帳に追加

レジストパターン２を形成した後に、前記レジストパターンの上に、オゾンアッシングからレジストを保護する保護膜３を形成し、次に、大気中のように、酸素が存在する雰囲気中において、前記保護膜を介して前記レジストパターンに電子線４を照射し、その後、前記保護膜を除去してドライエッチング耐性が向上した前記レジストパターンを形成する。 - 特許庁

The generation method for the mask data comprises a process of resizing a wiring layer pattern 120 and forming a resized pattern 130 so as to make a resize amount positive (+), a process of eliminating the resized pattern having a mutually overlapping part among the resized patterns 130 and a process of forming a stress mitigation layer pattern having a prescribed width on the outer side of the resized pattern.例文帳に追加

マスクデータの生成方法は、リサイズ量がプラス（＋）となるように、配線層パターン１２０をリサイズしてリサイズパターン１３０を形成する工程と、前記リサイズパターン１３０のうち相互に重なる部分を有するリサイズパターンを削除する工程と、前記リサイズパターンの外側に、所定の幅を有する応力緩和層パターンを形成する工程と、を有する。 - 特許庁

After an organic film 13 composed of a polymer containing fluorine atoms is formed on a semiconductor substrate 12, the organic film pattern 13A composed of the organic film 13 is formed by transferring a desired pattern to the film 13 by pressing the inverted pattern 11 of the mold having the inverted pattern 11 which is formed by inverting the desired pattern against the film 13.例文帳に追加

半導体基板１２上に、フッ素原子を含むポリマーからなる有機膜１３を形成した後、該有機膜１３に、所望のパターンが反転してなる反転パターン１１を有するモールドの反転パターン１１を押し付けて、有機膜１３に所望のパターンを転写することにより、有機膜１３からなる有機膜パターン１３Ａを形成する。 - 特許庁

Variation pattern storage means 114 of this Pachinko game machine 10 retains a first variation pattern table for selecting a variation pattern of symbols, and a second variation pattern table where a total variation time of a plurality of symbol variations is set longer than a mean total variation time determined based on the first variation pattern table.例文帳に追加

ぱちんこ遊技機１０において、変動パターン記憶手段１１４は、図柄の変動パターンを選択するための第１の変動パターンテーブルと、複数の図柄変動の総変動時間が、第１の変動パターンテーブルに基づいて決定される平均的な総変動時間より長くなるように設定された第２の変動パターンテーブルを保持する。 - 特許庁

The disk array controller includes a data pattern identifying logic unit 30 for identifying a write data pattern from the host computer and read data patterns, from the cache memory and the disk unit, a command generator 31 for commanding, based on the data pattern identified by the data pattern identifying logic unit 30, and a command analyzer 32 for analyzing the command, to generate an original data pattern.例文帳に追加

ホストコンピュータからの書き込みデータのパターン、およびキャッシュメモリ部とディスク装置からの読み出しデータのパターンを識別するデータパターン識別論理部３０と、データパターン識別論理部３０により識別されたデータパターンに基づいてコマンド化するコマンド生成部３１と、コマンドを解析し、元のデータパターンを生成するコマンド解析部３２とを備えた。 - 特許庁

In this magnetic sensor having a magnetoresistant pattern with the magnetoresistor thin films formed on a substrate, wherein the magnetoresistant pattern is constituted of an A-phase magnetoresistant pattern and a B-phase magnetoresistant pattern for outputting two signals different in phases by 90°, the magnetoresistant pattern is formed by combining the two substrates.例文帳に追加

磁気抵抗体薄膜が基板上に形成された磁気抵抗パターンを有し、この磁気抵抗パターンは、９０°位相の異なる２個の信号を出力するＡ相磁気抵抗パターンとＢ相磁気抵抗パターンとから構成される磁気センサにおいて、その磁気抵抗パターンは、２個の基板が組み合わされて形成されることを特徴とする。 - 特許庁

In the exposure mask 1 where a doughnut pattern 3 and a plurality of long patterns 5 are provided on a thin film membrane 2 as an opening-like exposure pattern, a crosslinking pattern 7 thinner than the minimum line width of the doughnut pattern 3 and the long patterns 5 is stretched across the opposite sides at the opening part of the doughnut pattern 3 and the long patterns 5.例文帳に追加

薄膜状のメンブレン２に開口状の露光パターンとしてドーナツパターン３および複数の長尺パターン５が設けられている露光マスク１であり、ドーナツパターン３および複数の長尺パターン５の開口部の対向辺間に、ドーナツパターン３および各長尺パターン５の最小線幅よりも細い線幅の架橋パターン７を掛け渡してなる。 - 特許庁

To provide a touch screen panel for preventing the decrease in sensitivity by removing a mask step for forming a connection pattern for connecting a first sensing pattern or a second sensing pattern formed on the same layer to the first sensing pattern and the second sensing pattern and by decreasing the parasitic capacitance at the intersection, and provide its manufacturing method.例文帳に追加

同一のレイヤー上に形成される第１感知パターンおよび第２感知パターンに対して前記第１または第２感知パターンを連結する連結パターン形成のためのマスク工程を除去するとともに、交差部の寄生キャパシタンスを低めてセンシング感度の低下を防止するタッチスクリーンパネルおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The control pattern setting part 100 is provided with functions that an idea of a plurality of candidate patterns is provided by chaos based on a control pattern of the current assignment evaluation function, the optimum candidate pattern is sampled by simulation which takes traffic demand in a building into account concerning these candidate patterns, and the control pattern of the assignment evaluation function is updated by the candidate pattern.例文帳に追加

制御パターン設定部１００は現状の割当評価関数の制御パターンを元にして複数の候補パターンをカオスにより発想し、これらの候補パターンについてビル内の交通需要を考慮したシミュレーションにより最適な候補パターンを抽出し、その候補パターンにて当該割当評価関数の制御パターンを更新する機能を備える。 - 特許庁

When detecting a state where the pattern projecting device is mounted on the camera, a mode where photographing having projected pattern light and photographing which does not have projected pattern light can be conducted continuously is provided, and when photographing is not made to have projected pattern light, the pattern projecting means is retreated from a stroboscopic emission optical path, and the stroboscopic emission for normal photographing can be conducted.例文帳に追加

更に、パターン投影装置のカメラへの装着を検出した場合は、パターン光を投影した撮影と、パターン光を投影させない撮影を連続して行うモードを備えるものとし、パターンを投影させない撮影の際は、パターン投影手段がストロボ発光光路から退避して、通常撮影のストロボ発光を行えるものとした。 - 特許庁

The photomask 1 for transferring a mask pattern on a substrate, by having a mask pattern forming region 4 irradiated with ultraviolet rays 10, is provided with an evaluation pattern 12 having recesses 15-17 forming the same kind of growth substance as the contamination growing by the ultraviolet rays in the mask pattern formation region 4, on at least any one face from among a mask pattern formation surface 8 and its backside 9.例文帳に追加

マスクパターン形成領域４に紫外線１０を照射して、当該マスクパターンを基板に転写するフォトマスク１において、マスクパターン形成面８及びその裏面９のうち、少なくともいずれか１つの面に、マスクパターン形成領域４で紫外線により成長する異物と同種の成長性物質が形成された窪み１５〜１７を有する評価パターン１２を設ける。 - 特許庁

The semiconductor element consists of a semiconductor substrate 60 including a conductive region and insulating region, a conductive pattern formed on the conductive region of the semiconductor substrate 60, an auxiliary pattern composed of a conductive layer positioned adjacent to the conductive pattern, and an inter-layer dielectric film 66 which is formed on the semiconductor substrate 60 and has a contact hole 68 exposing the conductive pattern and auxiliary pattern at the same time.例文帳に追加

導電領域と絶縁領域とを含む半導体基板６０と、半導体基板６０の導電領域に形成される導電パターンと、導電パターンと隣接して配置される導電層よりなる補助パターンと、半導体基板６０上に形成され、前記導電パターンと補助パターンとを同時に露出させるコンタクトホール６８を有する層間絶縁膜６６とを含む。 - 特許庁

This semiconductor testing device for performing a test by giving a test signal generated based on pattern data to a test object includes a pattern editor means for describing the pattern data on the spread sheet constituted by using the rectangular region partitioned by rows and columns as the minimum unit, creating the pattern file of a spread sheet form, and editing the pattern file.例文帳に追加

本発明は、パターンデータに基づいて生成した試験信号を被試験対象に与えて試験を行う半導体試験装置において、行および列によって区切られた矩形領域を最小単位として構成したスプレッドシートに前記パターンデータを記述し、スプレッドシート形式のパターンファイルを作成するとともに、前記パターンファイルを編集するパターンエディタ手段を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

The electron beam exposure system has a plurality of the electron beam exposure devices which deflect electronic beam, based on the control data and expose a pattern on an exposed object, and a data control means which sends the control data, corresponding to the exposed pattern to the electron beam exposure devices which sends pattern information, in response to the pattern information about the exposed pattern which is sent from the electron beam exposure devices.例文帳に追加

制御データに基づいて電子ビームを偏向し、被露光物体上にパターンを露光する複数の電子ビーム露光装置と、前記電子ビーム露光装置から送られてくる露光されるパターンに関するパターン情報に応じて、前記パターン情報を送出した電子ビーム露光装置に前記露光されるパターンに対応した前記制御データを送出するデータ制御手段とを有する。 - 特許庁

The control part 11 reads out the arrangement pattern corresponding to the input pattern class from an arrangement pattern data storage region 121, extends the arrangement pattern read out corresponding to the input face dimension and the reference position, and specifies the number and position of the speakers arranged on the extended arrangement pattern according to the input arrangement interval to display the specified result on the display part 13.例文帳に追加

制御部１１は、入力されたパターン種別に対応する配置パターンを配置パターンデータ記憶領域１２１から読み出し、入力された面寸法と基準位置とに合わせて読み出した配置パターンを展開し、展開した配置パターン上に設置されるスピーカの数と位置とを、入力された配置間隔に応じて特定し、特定結果を表示部１３に表示させる。 - 特許庁

A signal pattern creating device includes an edition region setting means for setting a region specified in a region where a signal pattern can be edited, a signal pattern list display means for displaying a list of component signal patterns on a screen, and a signal pattern drawing means for drawing a signal pattern selected from among the signal pattern list, displayed on the screen in the edition region set by the setting means.例文帳に追加

信号パターンの編集可能領域内で指定された領域を編集領域として設定する編集領域設定手段と、部品化された信号パターンのリストを画面に表示させる信号パターンリスト表示手段と、画面に表示された信号パターンリストの中から選択された信号パターンを前記編集領域設定手段により設定された編集領域に描画する信号パターン描画手段とを装備する。 - 特許庁

To avoid lowering the yield due to breaking of a resist pattern and prevent an etching liquid flow from being blocked in the gap between thick film patterns to accurately form a desired pattern over the entire substrate, when photosensitive layers on a substrate are exposed and developed to form a mask pattern and the substrate is etched with the mask pattern to form the pattern of the same shape as that of the mask pattern on the substrate.例文帳に追加

基板上に形成された感光層に露光および現像によりマスクパターンを形成し、そのマスクパターンを用いて基板をエッチングすることにより、基板にマスクパターンと同一形状のパターンを形成する際に、レジストパターンの破れによる歩留の低下を防止する一方で、厚膜パターン同士の隙間でエッチング液の流れが阻害されることを防止し、基板全体にわたり所望のパターンを精度良く形成できるようにする。 - 特許庁

The typical configuration of the conductor pattern formation apparatus for forming a conductor pattern on a substrate comprises an ink jet head which jets out a conductive ink and forms the conductor pattern; a transfer member which is formed with the conductor pattern on the surface by the ink jet head and then transfers the conductor pattern to the substrate; and a heating means which heats the transfer member to harden the conductor pattern.例文帳に追加

本発明に係る導体パターン形成装置の代表的な構成は、基板に導体パターンを形成する導体パターン形成装置であって、導電インクを噴射して導体パターンを形成するインク吐出ヘッドと、該インク吐出ヘッドにより表面に導体パターンを形成され、該導体パターンを前記基板に転写する転写部材と、該転写部材を加熱して前記導体パターンを硬化させる加熱手段と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which can form a pattern on a second layer by exposing while maintaining the pattern formed on a first layer by inactivating it for preventing it from becoming alkali soluble due to photosensing at the second exposing in a double exposing pattern formation.例文帳に追加

二重露光によるパターンニングにおいて、第一層目に形成されるパターンを不活性化させ、第二層目のパターン形成時における露光の際に、第一層目のパターンが感光してアルカリ可溶性とならず、第一層目のパターンを保持したまま第二層目のパターンを形成可能なパターン形成方法等を提供する。 - 特許庁

The template is separated from the mask material to form a mask material pattern 20' on the substrate, radiation-sensitive resist is formed on the mask material pattern, and after the radiation-sensitive resist is irradiated selectively with radiation, the radiation-sensitive resist is developed to form a radiation-sensitive resist pattern 30' covering part of the mask material pattern.例文帳に追加

テンプレートをマスク材料から離して基板上にマスク材パターン２０’を形成し、マスク材パターン上に感放射線レジストを形成し、感放射線レジストに選択的に放射線を照射した後、感放射線レジストを現像することにより、マスク材パターンの一部を覆うように感放射線レジストパターン３０’を形成する。 - 特許庁

When a ball enters in a start win hole of the game machine, the pattern is variably displayed on the pattern variable display device 10 and, when the lottery result is a big win, image data of a preview screen for a big win preview performance are transmitted to the pattern variable display device 10 and the preview screen is displayed on the pattern variable display device 10.例文帳に追加

遊技機の始動入賞口に球が入賞すると、図柄変動表示装置１０では図柄が変動表示され、抽選結果が大当りとなると、大当り予告演出用の予告画面の画像データが図柄変動表示装置１０に送られ、図柄変動表示装置１０にその予告画面が表示される。 - 特許庁

This image recognition device specifies a part of patterns to be formed in a work by an operator as a recognition object pattern P1, and divides this recognition object pattern P1 into a plurality of partial patterns A1, A12 and so on, and calculates the relative positions Ap1, Ap12 and so on of the partial pattern for the recognition object pattern P1.例文帳に追加

画像認識装置は、作業者がワークに形成すべきパターンの一部を認識対象パターンＰ１として特定したら、この認識対象パターンＰ１を自動的に複数の部分パターンＡ１，Ａ１２・・・に分割し、認識対象パターンＰ１に対する部分パターンの相対位置Ａｐ１，Ａｐ１２，・・・を算出する。 - 特許庁

This game machine controls into an interruption condition in which fluctuation display of a special pattern in a special pattern display device 8 is interrupted based on winning of a game ball into a two kind variable winning device and turning-on of a generator flowing-in switch during fluctuation display of the special pattern by the special pattern display device 8.例文帳に追加

特別図柄表示器８にて特別図柄の変動表示を実行中に２種可変入賞装置に遊技球が入賞し、役物流入スイッチがオン状態になったことにもとづいて特別図柄表示器８における特別図柄の変動表示を中断した中断状態に制御する。 - 特許庁

That is, by combining a plurality of TEG pattern chips 31 in different pattern ratios formed in the photomask 30, the photoresist pattern 40 having various pattern ratios is formed in an arbitrary region on the wafer, thereby, and the number of chips necessary to be preformed on the photomask 30 can be reduced.例文帳に追加

即ち、フォトマスク３０に形成されたパターンレシオ比の異なる複数のＴＥＧパターンチップ３１を組み合わせることで、各ウェハの任意領域に対して様々なパターンレシオ比のフォトレジストパターン４０を形成するようにしているので、予めフォトマスク３０上に形成する必要チップ数を抑えられる。 - 特許庁

To provide an underlay film forming material that is suitably used for selectively forming a metal oxide film having high etching durability on a pattern surface at a low temperature in a pattern forming method, in which an etching is performed by using a pattern formed on a substrate as a mask, and to provide a layered body and a pattern forming method.例文帳に追加

基板上に形成されたパターンをマスクとしてエッチングを行うパターン形成方法において、パターン表面に、低温で、耐エッチング性が高い金属酸化物膜を、パターン表面に選択的に形成するために好適に用いられる下層膜形成用材料、積層体およびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The Pachinko game machine determines the specified game performance pattern to be executed on the basis of a performance pattern distribution table for determining the kind of the specified game performance pattern when it is determined that the prescribed attainment condition is established, and executes the specified game performance on the basis of the specified game performance pattern.例文帳に追加

パチンコ遊技機は、所定の達成条件が成立したと判定された場合に、特定遊技演出パターンの種類を決定するための演出パターン振分テーブルに基づいて、実行する特定遊技演出パターンを決定し、その特定遊技演出パターンに基づいて、特定遊技演出を行わせる。 - 特許庁

In selecting a first switch pattern 41A exposed from one side or a second switch pattern 41B exposed from another side, in accordance with a device to be operated and its state of use, when the switch pattern on one side is selected, the switch pattern on the other side is covered with a case 20.例文帳に追加

一方の面側から露出する第１スイッチパターン４１Ａと、他方の面側から露出する第２スイッチパターン４１Ｂとを、被操作対象となる機器、及びその使用状況に応じて選択する場合に、一方の面側のスイッチパターンが選択されたとき、他方の面側のスイッチパターンをケース２０によって覆う。 - 特許庁

A laminated film composed of a semiconductor layer, a gate insulation layer and a gate electrode layer is formed on an insulator, the laminated film is etched with a first resist pattern formed on it as a mask, then the first resist pattern is worked into a second resist pattern, and at least the gate electrode layer is etched with the second resist pattern as the mask.例文帳に追加

絶縁体上に半導体層とゲート絶縁層とゲート電極層からなる積層膜を形成し、この上に形成した第1のレジストパターンをマスクとして積層膜をエッチングした後、第1のレジストパターンを第２のレジストパターンに加工し、第２のレジストパターンをマスクとして少なくともゲート電極層をエッチングする。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes: a first process for forming a first photoresist pattern in a partial region on a substrate; a second process for forming a thin film on the surface of at least the first photoresist pattern; and a third process for forming a second photoresist pattern at a part where the first photoresist pattern is not formed.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、基板上の一部の領域に第１のホトレジストパターンを形成する第１の工程と、少なくとも第１のホトレジストパターンの表面に薄膜を形成する第２の工程と、第１のホトレジストパターンが形成されていない部位に第２のホトレジストパターンを形成する第３の工程と、を有する。 - 特許庁

The apparatus includes a computer 7 which detects the position of an underlay wiring pattern by monitoring the underlay wiring pattern formed on the substrate 11 by irradiation with light, and corrects pattern data to be inputted to the mirror elements of the DMD 5 based on the detection result so as to correct an exposure position for forming an overlay pattern.例文帳に追加

基板１１に形成された下層配線パターンを光の照射にてモニターすることにより下層配線パターンの位置を検出し、かつ検出結果に基づいて、ＤＭＤ５の各ミラー素子に入力するパターンデータを補正することにより上層パターンを形成するための露光位置を補正するコンピュータ７を有する。 - 特許庁

To reinspect a defective circuit pattern detected by a substrate inspection apparatus which specifies an inspection point using a symbol in a circuit pattern formed on a substrate, by using another substrate inspection apparatus which utilizes detection results of the above defective circuit pattern and specifies the inspection point using a position coordinate in the circuit pattern formed on the substrate.例文帳に追加

基板に形成された配線パターンの検査点を記号により特定する基板検査装置によって得られた不良配線パターンの検出結果を用いて、基板に形成された配線パターンの検査点を位置座標により特定する基板検査装置によって、当該不良配線パターンの再検査を行う。 - 特許庁

The lead-out unit is provided with a first lead-out unit 11 formed by leading out a first lead-out pattern 17 from a circuit pattern 15 formed on a first flexible circuit board 10, and a second lead-out unit 51, formed by leading out a second lead-out pattern 57 from a circuit pattern 55 formed on a second flexible circuit board 50.例文帳に追加

第１フレキシブル回路基板１０上に形成した回路パターン１５から第１リードアウトパターン１７を引き出してなる第１リードアウト部１１と、第２フレキシブル回路基板５０上に形成した回路パターン５５から第２リードアウトパターン５７を引き出してなる第２リードアウト部５１とを具備する。 - 特許庁

To solve a problem that toner remains on a region for forming a developed image pattern for control itself, or the succeeding developed image pattern for control on an image carrying body due to poor cleaning with respect to the developed image pattern for control itself, or the previous developed image pattern for control.例文帳に追加

この発明は、制御用顕像パターンそれ自体あるいは前回の制御用顕像パターンに対するクリーニング不良トナーが像担持体上における制御用顕像パターンそれ自体あるいは次回の制御用顕像パターンの形成領域に残留してしまうという課題を解決しようとするものである。 - 特許庁

The electrostatic atomizer includes: a substrate 10; an N-type pattern 3 formed on the substrate 10 using an N-type thermoelectric material; a P-type pattern 4 formed on the substrate 10 using a P-type thermoelectric material; and a discharge electrode 6 connected between the N-type pattern 3 and the P-type pattern 4.例文帳に追加

静電霧化装置は、基板１０と、Ｎ型熱電材料を用いて基板１０上に形成されたＮ型パターン３と、Ｐ型熱電材料を用いて基板１０上に形成されたＰ型パターン４と、Ｎ型パターン３とＰ型パターン４の間に接続される放電電極６とを備えたものとする。 - 特許庁

Further, a variation display of a special pattern is executed by a special pattern display 31 based on the starting prize winning data stored in the storage region group A, and a variation display of a special pattern is executed by a special pattern display 32 based on the starting prize winning data stored in the storage region group B.例文帳に追加

そして記憶領域グループＡに記憶されている始動入賞データに基づいて特別図柄表示器３１により特別図柄の変動表示が実行され、記憶領域グループＢに記憶されている始動入賞データに基づいて特別図柄表示器３２により特別図柄の変動表示が実行される。 - 特許庁

This nano imprint mold forms a convexo-concave pattern 11 on a substrate 10 with resist, embeds a shape memory composition material 12 (NiTi alloy) on the above convexo-concave pattern, covers it with a film, and then peels off the film from the above convexo-concave pattern to obtain a mold 13 with the above convexo-concave pattern transcribed.例文帳に追加

ナノインプリント用モールドであって、基板１０上にレジストで凹凸パターン１１を形成し、前記凹凸パターンに、形状記憶性を有する組成の材料１２（ＮｉＴｉ合金）を埋め込んで成膜した後、前記凹凸パターンから成膜部を剥離して前記凹凸パターンが転写されたモールド１３を得るようにする。 - 特許庁

The result of the detection of a toner image based on a reference pattern generated by a regist pattern generating means 21 is transferred to an initial data setting means 31 from a pattern detecting means 14, and based on the comparison of the reference pattern and the toner image with each other, the value Py of an interspace between added pixels and the number Dy of added pixels are calculated.例文帳に追加

レジストパターン発生手段２１で発生した基準パターンに基づくトナー像の検出結果がパターン検出手段１４から初期データ設定手段３１に与えられ、基準パターンとトナー像との比較に基づき画素追加間隔値Ｐｙおよび画素追加数Ｄｙが算出される。 - 特許庁

The surface treatment method includes a process for treating the surface of a resin pattern formed on a substrate or an etched pattern formed on the substrate by etching with a surface treatment liquid containing a silylation agent and a solvent, and a process for cleaning the resin pattern obtained after treatment by the surface treatment liquid, or the etched pattern.例文帳に追加

本発明に係る表面処理方法は、基板上に設けられた樹脂パターン、又はエッチングにより基板に形成された被エッチングパターンの表面を、シリル化剤及び溶剤を含有する表面処理液で処理する工程と、表面処理液による処理後の樹脂パターン又は被エッチングパターンを洗浄する工程と、を含む。 - 特許庁