「pattern processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

Image processing data employing any one ink color of cyan C, magenta M or yellow Y is arranged in check pattern in units of one dot and image processing data of other two colors is arranged in check pattern in units of two dots adjacent to each other in the printing direction such that one dot is overlapped.例文帳に追加

シアンＣ、マゼンタＭ、イエローＹのいずれか１つのインク色を用いた画像処理データを１ドット単位の市松模様に配列し、他の２色の画像処理データを印刷方向に隣位する２ドット単位の市松模様で、かつ、他の２色の市松模様は１ドット分の重なり部が形成されるように配列する処理を行う。 - 特許庁

Region information is linked to the respective region patterns, processing information composed of image configuration information, image processing information and X-ray exposure control information corresponding to the photographing region pattern of each of time-sequential images input during moving image photographing is calculated and obtained, and information optimum for the region pattern to be photographed is used.例文帳に追加

各部位パターンには部位情報がリンクされており、動画撮影中に入力される時系列画像のそれぞれの撮影部位パターンに対応する画像構成情報、画像処理情報、Ｘ線曝射制御情報の処理情報を演算して求め、撮影すべき部位パターンに最適な情報を使用する。 - 特許庁

A pattern inspection device is provided with: an optical image acquiring unit to acquire the optical image of the pattern of an inspection sample; an alignment processing unit to carry out an alignment process including correction processing of the optical image by a reference image; and a comparing unit to compare optical images different from each other subjected to the alignment process.例文帳に追加

被検査試料のパターンの光学画像を取得する光学画像取得部と、光学画像を参照画像により補正処理を含むアライメント処理するアライメント処理部と、アライメント処理部で処理された異なった光学画像同士を比較処理する比較処理部と、を備える、パターン検査装置。 - 特許庁

The image processing apparatus generates an encoded image pattern which includes object ID information for identifying the extracted object data and electronic document specifying information for specifying the electronic document, and performs print processing of print data which include the extracted object data and the generated encoded image pattern.例文帳に追加

そして、当該抽出されたオブジェクトデータを識別するためのオブジェクトＩＤ情報と前記電子文書を特定するための電子文書特定情報とを含む符号画像パターンを生成し、前記抽出されたオブジェクトデータと前記生成された符号画像パターンとを含む印刷データの印刷処理を実行する。 - 特許庁

Then, it calculates a degree of displacement again with the view magnification when registering the mark while comparing the position of the mark detected with the view magnification when registering the mark with the position of the mark when registered, and executes the processing of the processed pattern after shifting a processing ion beam irradiation position the degree of displacement from the registration position of the processed pattern.例文帳に追加

その後、マーク登録時の視野倍率で検出されたマークと登録時のマークの位置を比較してマーク登録時の視野倍率で再度位置ずれ量を算出し、そのずれ量分だけ加工パターンの登録位置から加工用のイオンビーム照射位置をシフトさせて加工パターンの加工を実行する。 - 特許庁

The assigned specific effect processors 3a and 3b receive the transferred pattern designation information and progress ratio designation information, and output image signals obtained by performing the specific effect processing with the designated processing pattern through a connection switchers 4 to the image comopsiting switchers 2a or 2b.例文帳に追加

さらに割り当てられた特殊効果処理部３ａおよび３ｂは、転送されたパターン指定情報および進行比率指定情報を受信し、指定された処理パターンによる特殊効果処理を施した画像信号を、接続切り換え部４を介して該当する画像合成切り換え部２ａまたは２ｂに対して出力する。 - 特許庁

A plasma processing method of a sapphire substrate comprises executing plasma processing on a sapphire substrate, on which a mask pattern is formed by a resist film arranged on a surface, by using a mixed gas obtained by mixing a CH_2F_2 gas with a BCl_3-based gas to form, on the surface of the sapphire substrate, an uneven structure corresponding to the mask pattern.例文帳に追加

サファイア基板のプラズマ処理方法において、表面に配置されたレジスト膜によりマスクパターンが形成されたサファイア基板に対して、ＢＣｌ_３が主体のガスにＣＨ_２Ｆ_２ガスを混合した混合ガスを用いてプラズマ処理を行い、サファイア基板の表面にマスクパターンに応じた凹凸構造を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a substrate with a metal pattern, which is capable of highly accurately processing the metal pattern by using laser light, capable of processing a metal thickness film by laser light of comparatively low power and allowed to be applied also to a flat panel display such as a plasma display, and to provide a substrate with a metal laminate.例文帳に追加

レーザ光を用いて金属パターンを高精度に加工することができ、特に、比較的低パワーのレーザ光で金属厚膜を加工することができ、プラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイにも応用可能な金属パターン付き基板の製造方法及び金属積層体付き基板を提供する。 - 特許庁

A shielding detection signal Sd in each optical axis is inputted from the photodetector 20 into the CPU 31 of the controller 7, and in response thereto, the CPU 31 performs determination of the shielding state in two patterns, namely, a pattern wherein the determination is performed following the first determination processing and a pattern wherein the determination is performed following the second determination processing.例文帳に追加

そして、受光器２０からコントローラ７のＣＰＵ３１に対しては、各光軸ごとの遮光検出信号Ｓｄが入力されるが、これに対し、ＣＰＵ３１は遮光状態の判定を第一判定処理に従って行なうパターンと、第二判定処理に従って判定を行なうパターンの２つのパターンで行なっている。 - 特許庁

Wave pattern processing data for making electric power that is predicted from the voltage entered descend to a target electric power is stored in the memory circuit 25, in advance, then the control circuit 26 reads out the wave pattern processing data, according to the measurement value on the input electric voltage from the memory circuit 25, and conduction timing of a triac 21 is controlled for electric power adjustment.例文帳に追加

記憶回路２５に入力電圧より予測される電力を目標電力まで降下させるための波形処理データを予め記憶し、制御回路２６が入力電圧の測定値に応じた波形処理データを記憶回路２５から読み出し、電力調整用のトライアック２１の導通タイミングを制御する。 - 特許庁

A video signal processing circuit 21 internally has a polarity inversion pattern control unit which outputs a signal for changing a polarity inversion signal supplied to a data driver 54 in a liquid crystal module 22, and supplies the output signal of the polarity inversion pattern control unit from a video signal processing circuit 21 to the liquid crystal module 22.例文帳に追加

映像信号処理回路２１内に、液晶モジュール２２内のデータドライバ５４に供給される極性反転信号を変更するための信号を出力する極性反転パターン制御部を備え、極性反転パターン制御部の出力信号を映像信号処理回路２１から液晶モジュール２２に供給する。 - 特許庁

A main control unit 140 provided with 8-bit data processing capacity is connected to a special pattern control unit 160 provided with 32-bit data processing capacity via a port circuit 174, a harness 171, and a port circuit 164, and one-way parallel data communication is carried out from the main control unit 140 to the special pattern control unit 160.例文帳に追加

８ビットのデータ処理容量を備えた主制御部１４０は、ポート回路１７４、ハーネス１７１、ポート回路１６４を介して、３２ビットのデータ処理容量を備えた特別図柄制御部１６０と接続され、主制御部１４０から特別図柄制御部１６０への片方向でのパラレルなデータ通信が行われる。 - 特許庁

After a thin film 2 is formed of an organic material on a substrate 1 and a portion of the thin film to be removed is irradiated with laser light to perform pattern processing by thermal abrasion, the entire surface on which the lasers abrasion is carried out is subjected to ashing processing 8 to form a pattern from which even a remaining film 7 is also efficiently removed.例文帳に追加

基板１上に有機材料からなる薄膜２を形成し、その薄膜のうち除去すべき部分にレーザー光４を照射して熱アブレーションによるパターン加工を行った後、レーザーアブレーションが施された表面全面にアッシング処理８を施すことにより、残膜７も効率的に除去されたパターンを形成する。 - 特許庁

When the address of a pixel under consideration is designated, the memory controller 7 automatically generates an address corresponding to the filter processing based on the registered pattern to the image memory 3, and burst transfers picture data to be used for the filter processing read form the image memory 3 according to its access based on the registered pattern to a system bus 5.例文帳に追加

注目画素のアドレスが指定されると、メモリコントローラ７は、画像メモリ３に対して、登録パターンに基づいて、フィルタ処理に応じたアドレスを自動的に発生し、一方で、システムバス５に対して、登録パターンに基づくアクセスにより画像メモリ３から読み出したフィルタ処理に使用する画像データをバースト転送する。 - 特許庁

The storage section 320a previously stores the kind of a signal pattern embedded in an image input by the input section 310, the section 320b applies filter processing to the image by using a plurality of kinds of filters, and the section 320c specifies the kind of the signal pattern embedded in the image on the basis of a result of processing.例文帳に追加

記憶部３２０ａは，入力部３１０により入力された画像に埋め込まれた信号パターンの種類を予め記憶し，フィルタ処理部３２０ｂは，複数種類のフィルタを用いて画像をフィルタ処理し，信号パターン特定部３２０ｃは，その結果に基づいて画像に埋め込まれた信号パターンの種類を特定する。 - 特許庁

To solve the problem in conventional inspection apparatus and inspection method using a Fourier transform filter that a reflecting light from an edge of an irregular circuit pattern cannot be removed although the apparatus and method are effective to remove a diffraction light from a repeated pattern, and consequently sophisticated image processing such as processing the edge, distinguishing foreign matters from false failures in the vicinity of the edge, etc., is required.例文帳に追加

従来のフーリエ変換フィルタを用いた検査装置及び検査方法では、繰り返しパターンからの回折光の除去には有効であるが、不規則な回路パターンのエッジ部からの反射光は除去できず、エッジ部処理やエッジ部近傍における異物と疑似不良の識別等高度な画像処理が必要でありる。 - 特許庁

An exclusive OR circuit 18 for receiving an output PN pattern signal (PNSCR) from a scramble pattern generating circuit 14 descrambles received data (RXD), a 1-bit error correction circuit 26 applies CRC error correction processing to the descrambled and parallel-converted data, and data (P_DATASEC) in 160 bits subjected to scramble processing are fed to a parallel exclusive OR (EXOR) circuit 40.例文帳に追加

受信データ(RXD)がスクランブルパターン発生回路14からの出力PNパターン信号(PNSCR)が入力される排他的論理和回路18にてスクランブル解除され、これをパラレル化したデータが１ビット誤り訂正回路26にてCRC誤り訂正処理されて、スクランブル処理が施されている160ビットのデータ(P_DATASEC)が並列排他論理和(EXOR)回路40に供給される。 - 特許庁

A pattern formed photoresist layer produced from this positive photoresist composition is formed on a substrate, this positive photoresist layer is exposed with an irradiation pattern for imaging, and parts exposed with the irradiation pattern for imaging in the positive photoresist layer are removed, whereby the corresponding pattern formed substrate can be exposed and is prepared for subsequent processing of semiconductor device production.例文帳に追加

このポジ型フォトレジスト組成物から作られたパターン形成されたフォトレジスト層を基板上に形成し、このポジ型フォトレジスト層を結像用照射パターンで露光し、ポジ型フォトレジスト層のうち結像用照射パターンで露光された部分を除去して、対応するパターン形成された基板を露出させることができ、半導体デバイス製造のその後の処理に備える。 - 特許庁

When an enciphered game pattern 213 is sent from a store terminal 108, a data store control processing part 221 decodes the pattern 213, compares the decoded pattern 213 with the history information 216 to transform the pattern 213 into a form that can be stored in the card 110 and then waits for the user's execution of his/her game.例文帳に追加

システム運用者がシステムの中の価値の流通の把握が困難であるという課題に対しては、ＩＣカード内部およびシステム運用者側の管理サーバにプログラム履歴情報を格納する場所を用意しておき、店舗用端末にＩＣカードが接続されるたびに履歴情報の収集を行い、これをまとめて管理することによりゲームのパラメータの動的管理を可能にする。 - 特許庁

To provide a pattern formation method and a pattern formation device that form a pattern of an excellent resist film without an impact (shock) to a resist by a droplet of a developer like spray development or pattern collapse caused owing to friction against the developer when a developer applied onto a substrate is shaken off like paddle development since the resist film is developed by generating mist of a processing liquid during development.例文帳に追加

現像時に、処理液をミスト状に発生させてレジスト膜の現像を行うために、スプレー現像のような現像液の液滴によるレジストへのインパクト（衝撃）や、パドル現像のような基板に盛った現像液を振り切る際の現像液との摩擦によるパターン倒壊がなく、良好なレジスト膜のパターンを形成するパターン形成方法及びパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

The pattern storage part 12 stores image patterns and sound effects when music data are processed in correspondence relation and when the image pattern of the picked-up image matches one of the image patterns in the pattern storage part 12, a sound processing part 15 processes music data recorded on a recording medium 14 to show sound effects made to corresponding to the matching image pattern.例文帳に追加

パターン記憶部１２には、画像パターンと音楽データを加工する際の音響効果とが対応付けられて記憶されており、撮影された画像の画像パターンとパターン記憶部１２の何れかの画像パターンとが一致した場合、音響処理部１５は、記録媒体１４に記録された音楽データが、上記一致した画像パターンに対応付けられた音響効果を示すように加工する。 - 特許庁

This processor includes a test pattern generating unit 17 for generating a color test pattern image signal RGBctp 1, an input signal selector 18 for inserting the color test pattern image signal RGBctp 1 into an inputted video signal RGBsource, and a color adjusting signal processing unit 19 for performing color adjustment for an MIX video signal RGBmix 0 to which the color test pattern image is inserted.例文帳に追加

カラーテストパターン画像信号ＲＧＢｃｔｐ１を発生するテストパターン発生部１７と、入力した映像信号ＲＧＢsourceにカラーテストパターン画像信号ＲＧＢｃｔｐ１を挿入する入力信号セレクタ１８と、カラーテストパターン画像を挿入したＭＩＸ映像信号ＲＧＢｍｉｘ０に対し色調整を行う色調整信号処理部１９とを有する。 - 特許庁

When a motion pattern detection/notification function 11-1 detects that acceleration measured by an acceleration sensor 18 indicates a predetermined motion pattern, a system operation execution function 11-3 performs a system operation stored in a motion pattern-system operation correspondence storage part 12 in association with the motion pattern, and a game processing part 21 performs an operation dependent on an executed game program.例文帳に追加

加速度センサ１８によって測定された加速度が、所定の動作パターンを示すことが動きパターン検出通知機能１１−１によって検出されると、システム動作実行機能１１−３は、その動きパターンと対応付けられて動きパターンシステム動作対応記憶部１２に記憶されたシステム動作を行い、また、ゲーム処理部２１は、実行中のゲームプログラムに依存した動作を行う。 - 特許庁

When a step of forming a resist pattern by processing a resist film formed on a workpiece and a step of etching the workpiece with the resist pattern as a mask under a predetermined etching condition are performed, a dimension and a shape (a film thickness and a taper angle) of the formed resist pattern are measured and the etching condition is adjusted based on the measured dimension and shape of the resist pattern.例文帳に追加

被加工対象上に形成されたレジスト膜を加工してレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンをマスクとして、所定のエッチング条件で被加工対象をエッチングする工程とを実行する際に、形成されたレジストパターンの寸法及び形状（膜厚及びテーパ角度）を測定し、測定されたレジストパターンの寸法及び形状に基づいて前記エッチング条件を調整する。 - 特許庁

Identification information is recognized by photographing a marker having, for example, a binarized pattern used in specifying a recording position of the identification information and a binarized pattern coordinated with the identification information recorded in the recording position specified by the binarized pattern, and applying recognition processing to the photographed image information.例文帳に追加

例えば、識別情報の記録位置の特定に用いられる２値化パターンと、その２値化パターンから特定される記録位置に記録されている識別情報に対応付けられる２値化パターンとを持つマーカを撮影し、その撮影された画像情報に認識処理を施すことで識別情報を認識する。 - 特許庁

The information processing device detects and records a moving pattern of a specific user in obtaining printed matters for each print command in a predetermined collection object period, and sets or recommends to set a default printer based on the number of occurrences of each recorded moving pattern and moving labor in each moving pattern.例文帳に追加

特定のユーザについて、所定の集計対象期間における印刷指示毎に、その印刷物の取得に関する該ユーザの移動パターンを検出して記録し、この記録されている各移動パターンの発生回数と各移動パターンでの移動労力とから、デフォルトプリンタを設定もしくは設定を推奨する。 - 特許庁

In a road shape detection system, lighting devices project a pattern image onto a road around a vehicle, and a signal processing device processes an image captured by a camera for capturing the pattern image to detect the shape of the pattern image and determine the shape of the road in accordance with the shape.例文帳に追加

道路形状検出システムにおいては、灯火装置が車両の周囲における道路上にパターン画像を投射し、信号処理装置を用いて、パターン画像を撮像するカメラによる撮像画像を画像処理することにより、パターン画像の形状を検出し、この形状に応じて道路形状を判断する。 - 特許庁

To provide method of manufacturing a phosphor pattern which has no phosphor being removed by the development in photo processing, which embedment property of a substrate having unevenness surface into space is excellent and which can form an uniform shape of phosphor pattern in high precision, and to provide element for forming the phosphor pattern having good workability and environment safety.例文帳に追加

フォトプロセス等において現像等により除去される蛍光体を無くし、凹凸を有する基板の空間への埋め込み性が優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パターンを形成できる蛍光体パターンの製造法、作業性、環境安全性のよい蛍光体パターン形成用エレメントを提供する。 - 特許庁

When a secrecy scramble pattern generating circuit 42 generates a PN pattern (PNSEC) for descrambling, its PN pattern (PNSEC) output is converted into 160-bit parallel data (P_PNSEC), which are fed to the parallel exclusive OR (EXOR) circuit 40, wherein 160 sets of exclusive OR arithmetic circuits calculate the received data in accordance with the bits to carry out descramble processing in parallel.例文帳に追加

スクランブル解除用のPNパターン(PNSEC)が秘話スクランブルパターン発生回路42にて生成されると、そのPNパターン(PNSEC)出力が160ビットパラレルのデータ(P_PNSEC)に変換されて並列排他論理和(EXOR)回路40に供給され、160個の排他的論理和演算回路にて各入力データがビット対応に演算されてデスクランブル処理がパラレルにて行われる。 - 特許庁

A character recognition processing means 5 extracts a feature amount from the character image, selects one of the pattern dictionaries 11 and 12 corresponding to the judged printing quality, obtains the distance value of the standard pattern registered in the selected pattern dictionary 11 or 12 and the feature amount and thus selects the candidate character of the character image.例文帳に追加

文字認識処理手段５は、文字画像から特徴量を抽出し、また、判定された印字品質に応じパターン辞書１１，１２からひとつを選択して、選択したパターン辞書１１又は１２に登録されている標準パターンと特徴量との距離値を求めることで文字画像の候補文字を選択する。 - 特許庁

The pattern identification device which identifies any pattern present in input data by using data on a reference pattern or registered data including its characteristic quantity, and identification data specifying the content of processing for comparing the input data with the registered data, retains the registered data and the identification data in association with labels.例文帳に追加

参照パターンのデータまたはその特徴量を含む登録データと、入力データと登録データとを比較するための処理内容を規定する識別パラメータとを用いて、入力データに存在するパターンを識別するパターン識別装置は、登録データと識別パラメータとをラベルに関連付けて保持する。 - 特許庁

This resist pattern formation method includes a process for forming a lower-layer film (103) having polymer containing fluorine on a wafer substrate (101), a process for forming a resist film (104) on the lower-layer film, and a process for allowing the resist film to be subjected to pattern exposure and processing for obtaining the resist pattern (105).例文帳に追加

ウェハー基板（１０１）上に、フッ素含有ポリマーを含む下層膜（１０３）を形成する工程と、前記下層膜上にレジスト膜（１０４）を形成する工程と、前記レジスト膜に対しパターン露光および現像処理を施して、レジストパターン（１０５）を得る工程とを具備するレジストパターン形成方法である。 - 特許庁

According to the image processing device 20 in this invention, first a pattern sheet is formed which has a plurality of patches with the amount of each elemental color being changed in each tone of a plurality of tones, through a pattern sheet forming means 20f, and the formed pattern sheet is outputted to an image-outputting device 30.例文帳に追加

本発明による画像処理装置２０によれば、まず、パターンシート生成手段２０ｆによって、複数階調の各階調において各要素色の量を変化させた複数のパッチを有するパターンシートが生成され、当該生成されたパターンシートが前記画像出力装置３０に出力される。 - 特許庁

According to the image processing apparatus 20, at first, pattern sheets having a plurality of patches, to which the amount of each component color is changed at each of a plurality of gray scales, are formed by a pattern- forming means 20f, and the formed pattern sheets are outputted to an image output apparatus 30.例文帳に追加

本発明による画像処理装置２０によれば、まず、パターンシート生成手段２０ｆによって、複数階調の各階調において各要素色の量を変化させた複数のパッチを有するパターンシートが生成され、当該生成されたパターンシートが前記画像出力装置３０に出力される。 - 特許庁

An image processing apparatus defines a pattern to be synthesized with a background part among patterns, which are to be synthesized with the background part related to a ground tint image and a latent image part, as a pattern having a plurality of regions with different coverages in a main scanning direction, and executes a process of synthesizing the pattern with the background part.例文帳に追加

画像処理装置は、地紋画像にかかわる背景部および潜像部のそれぞれと合成されるパターンのうち当該背景部と合成されるパターンについては主走査方向にカバレッジの異なる複数の領域を有するパターンとし、当該パターンと当該背景部との合成処理を実行するようにした。 - 特許庁

The method for printing the pattern on a processing base comprises the steps of placing a screen formed with a screen print pattern mask on the base, then coating the overall surface of the screen with an ink, thereafter spraying the ink by a high pressure gas from a mesh part of the screen to a printer material, and dropping the ink on the base, thereby printing the pattern on the base.例文帳に追加

スクリーン印刷パターンマスクを形成したスクリーンを加工基板上に載せ、その後スクリーンの全面にインクを塗布し、そしてその後、高圧ガスによりインクを前記スクリーンにおけるメッシュ部分から機材に吹き付け、これによりインクを加工基板上に落として、加工基板上にパターン印刷を行うことを特徴とする。 - 特許庁

In the smoothing processing, after deciding sensitively whether a data is the one matched to a smoothing pattern or not, there are selected the output obtained by the multi-level image smoothing means when the sensed result is the data matched to the smoothing pattern and the output obtained by the multi-level/binarized image conversion means when the sensed result is not the data matched to the smoothing pattern.例文帳に追加

スムージング処理においてスムージングパターンにマッチングしたデータか否かを検出し、その検出結果がスムージングパターンにマッチングしたデータであるときは前記多値スムージング手段の出力を選択し、スムージングパターンにマッチングしたデータでないときは前記多値２値変換手段の出力を選択して出力する。 - 特許庁

A calculation processing part 6 in the user terminal 1 predicts a future life pattern of the subject for a given length of time from the present time from data stored in a memory part 10, and displays its activity transition, data of its life pattern and data of the predictable life pattern on a displaying and information part 7.例文帳に追加

ユーザー端末１の演算処理部６はメモリ部１０に蓄積された生活パターンのデータから当該被測定対象者の現時点から一定時間後までの、今後の生活パターンの予測を行い、表示・報知部７では活動量の遷移や生活パターンのデータ、予測される生活パターンのデータを表示させる。 - 特許庁

In synchronism with the timing of starting the fluctuation of the respective patterns, a CPU 60 performs the processing of chip-selecting a control output port 69 and outputting a left pattern-under-fluctuation signal, a center pattern- under-fluctuation signal and a right pattern-under-fluctuation signal through a unidirectional output buffer 70 to an external output connector 71.例文帳に追加

この各図柄を変動開始するタイミングに同期して、ＣＰＵ６０は、制御出力ポート６９をチップセレクトし単一方向出力バッファ７０を介して外部出力コネクタ７１に左図柄変動中信号、中図柄変動中信号及び右図柄変動中信号を出力する処理を行う。 - 特許庁

In the calibration processing, an object printer outputs a test pattern (S501), and in the case of generating a correction table through the read of this pattern (S504-S507), a conversion parameter for converting the read result into a standard color space signal is converted by a profile corresponding to a scanner reading the pattern.例文帳に追加

キャリブレーションの処理において、対象プリンタからテストパターンを出力し（Ｓ５０１）、このパターンを読取って補正テーブルを作成する際（Ｓ５０４〜Ｓ５０７）、読取りを行なったスキャナに対応したプロファイルで上記読取り結果を標準色空間信号に変換するときの変換パラメータを変換する。 - 特許庁

Further, it is verified by simulation whether the surface step of the polished surfaces is settled within an allowable range or not when the dummy pattern is formed so that the corrected pattern density can be provided and when the step is out of the allowable range, by repeating similar processing, the pattern density satisfying two requests in good balance is determined.例文帳に追加

さらに修正されたパターン密度となるようにダミーパターンを形成した場合に研磨面の表面段差が許容範囲内となるかをシミュレーションにより検証し、許容範囲外の場合には同様の処理を繰り返すことにより、２つの要求をバランスよく満たすパターン密度を決定する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for measuring a mask pattern shape which enables the quick, correct and highly accurate quantitative measurement of the pattern shape of a photomask including a fine pattern by performing 1-dimensional numeric data conversion processing and to provide a recording medium.例文帳に追加

マスク画像のマスクパターン形状を計測する装置において、１次元数値データ変換処理を行い、微細なパターンを含むフォトマスクのパターン形状の定量的な計測を、迅速かつ正確・高精度に可能にするマスクパターン形状計測装置及びマスクパターン形状計測方法並びに記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a development processing method of a substrate, with which resist pattern collapse due to thinning of a pattern size and a problem by water repellence of resist, which occurs in relation to technical progress for thinning the pattern size, can be solved and device structure and control are prevented from becoming complicated.例文帳に追加

パターン寸法の微細化に伴って起こるレジストパターン倒壊の問題とパターン寸法の微細化のための技術進展に関連して発生するレジストの撥水性による問題とを共に解決することができ、かつ、装置構成や制御が煩雑になることもない基板の現像処理方法を提供する。 - 特許庁

The control means defines in advance a misoperation pattern which is an operation pattern that could be generated by a user's error, and if a request operation received by the input means corresponds to the misoperation pattern, urges the user to confirm, and executes processing corresponding to the request operation after the input means receives a confirmation operation.例文帳に追加

制御手段は、ユーザの誤りで生じ得る操作のパターンである誤操作パターンを予め規定しておき、入力手段で受け付けられた要求操作が誤操作パターンに該当したら、ユーザに確認を促し、入力手段で確認操作が受け付けられた後に要求操作に対応する処理を実行する。 - 特許庁

This position measuring system is provided with: a projecting device 13 for projecting the concentric circle pattern 12 on the object 10; a plurality of line image sensors 14aa, 14ab, 14ba and 14bb for imaging the concentric circle pattern 12; and an arithmetic device 16 for calculating the center position 15 of the concentric circle pattern 12 by processing signals detected by the line image sensors.例文帳に追加

本位置計測システムは、同心円模様１２を対象物１０に投影する投影装置１３と、同心円模様１２を撮像する複数のラインイメージセンサー１４ａａ，１４ａｂ，１４ｂａ，１４ｂｂと、ラインイメージセンサーが検出した信号を処理して同心円模様１２の中心位置１５を算出する演算装置１６とを備える。 - 特許庁