「pattern structure」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

By using a set of patterns comprising a universal start pattern and an end pattern and document structure information, regions between parts corresponding to the set of the patterns from a plurality of documents are respectively extracted; and the results therefrom are collected and reconstructed according to the document structure information and layout information and displayed in a form allowing a user to edit them.例文帳に追加

汎用的な開始パターン及び終了パターンからなるパターンの組と文書構造情報を用いて、複数の文書から前記パターンの組に該当する個所の間の領域をそれぞれ抽出し、結果を前記文書構造情報とレイアウト情報に従って集約して再構成し、ユーザが編集可能な状態で表示する。 - 特許庁

The structure with the mat-gloss tone pattern mixed in which a coating layer mainly containing a curable binder resin containing a delustering agent is formed on a substrate, and a gloss tone pattern is formed, a mat tone coating layer with the binder resin cured is partially worn, by a physical means such as abrasion and the molding using the structure are provided.例文帳に追加

基材上に、マット化剤が含有する硬化型結着樹脂を主体とする塗工層を設け、前記結着樹脂を硬化せしめたマット調塗工層を部分的に磨耗などの物理的手段によりグロス調模様を形成してなることを特徴とするマット−グロス調模様が混在する構造物およびその構造物を用いた成形体である。 - 特許庁

For example, the wiring central part separator 2 is formed in a structure subject to observation as a wiring pattern by exposing the second wiring layer 4 at the front surface by the length L of separator and the other wiring central part is formed in a structure not subject to observation as the wiring pattern by electrically connecting the wiring end part from the principal wiring part via a first wiring layer 5.例文帳に追加

例えば配線中央部セパレータ２は、セパレータ長Ｌの長さ分だけ第２配線層４を表面に露出させて、配線パターンとして観察される構造とし、その他の配線中央部は第１配線層５を経由して基幹配線部から配線端部へと電気的に接続することにより、配線パターンとして観察されない構造とする。 - 特許庁

When the data pattern is a new data pattern and can not be retrieved because it is not stored in the storage part 31 or when the inputted data structure coincides with data structure stored in the storage part 31, a data item storage part 32 is retrieved by using a data item name inputted from the input device 1 as a key to acquire a data checking condition and check the data.例文帳に追加

新規データパターンであって、データ構造記憶部31に記憶されていないために検索できない場合、又は、入力されたデータ構造がデータ構造記憶部31に記憶されているデータ構造と一致している場合は、入力装置１から与えられたデータ項目名をキーに、データ項目記憶部32を検索し、データチェック条件を取得してチェックを行う。 - 特許庁

To provide a three-dimensional coordinate input system and a program for preparing an action pattern in the system suitable for preparing the action pattern of a CG model while operating a movable part of an articulated structure and comparing a dynamic image and the CG model by overlapping them, and preparing the action pattern of the CG model by combining it with another image.例文帳に追加

多関節構造体の可動部を操作し、動画像にＣＧモデルを重ね合わせて両者を対比させながらＣＧモデルの動作パターンを作成するのに好適であり、且つ、他の映像と合わせ込んでＣＧモデルの動作パターンを作成するのに好適な３次元座標入力システム及びこのシステムにおける動作パターン作成用プログラムを提供する。 - 特許庁

The electrode structure 10 of the parallel MOSFET circuit can secure the area (the mounting area of parts) for mounting the parts such as the other circuit for the whole area of the printed circuit board 4 and an area (the formation area of a pattern) for forming the pattern, can widen the width of the pattern, and is suitable for high density as a product.例文帳に追加

本発明の並列ＭＯＳＦＥＴ回路の電極構造１０では、プリント基板４の全領域に対して他の回路のような部品を実装するための領域（部品の実装領域）、パターンを形成する領域（パターンの形成領域）が確保できる上にパターンの幅も広くでき、製品としての高密度化に適している。 - 特許庁

To provide a polymeric ultrathin film and a pattern thereof, having little variance in the film thickness and excellent adhesiveness to a substrate, showing sufficient pattern resolution by irradiation exposure to electron beams, short-wavelength exposure light or the like, and having a structure controlled in a nanometer level, and to provide a method for forming a polymeric ultrathin film pattern.例文帳に追加

本発明は、膜厚のバラツキが少なく、かつ基板との密着性に優れ、電子線や短波長の露光光などの照射露光によって十分なパターン解像度を示し、ナノメートルレベルで構造制御された高分子超薄膜およびそのパターン、並びに、高分子超薄膜パターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a connection structure of electronic component elements where a circuit board forms a mount pattern for mounting the electronic component elements, the electronic component elements are connected to the mount pattern and the mount pattern formed in the circuit board is connected only to a side surface of the electronic component elements.例文帳に追加

本発明の電子部品素子の接続構造において、配線基板は、電子部品素子を搭載するための搭載パターンが形成されており、前記電子部品素子を前記搭載パターンと接続されてなる電子部品素子の接続構造において、前記配線基板に形成されている搭載パターンが、該電子部品素子の側面とのみ接続されている。 - 特許庁

Since a heating pattern 12 in a heater pattern 10 is formed to avoid an area overlapped with a detection space 230 on a layered face, an electrode faced to at least the detection space 230, i.e. one electrode 22 in a sensor cell 20 is formed into structure not overlapped with the heating pattern 12 on the layered face.例文帳に追加

ヒータパターン１０における発熱パターン１２が、積層面において検出空間２３０と重なる領域を避けるように形成されているため、少なくとも検出空間２３０に面する電極，つまりセンサセル２０における一方の電極２２が積層面において発熱パターン１２と重ならない構造になっていることになる。 - 特許庁

The variable display structure 100 includes an image pattern formation layer (image pattern formation medium) 1 arranging a linear band 11 obtained to divide three images in a prescribed rule, a shading pattern arrangement layer 2 arranging a shading band 21 shielding the linear band 11 by mutually spacing regular intervals, and a substantially transparent substrate 3.例文帳に追加

可変表示構造１００は、３種類の像を分割して得られる線状帯１１が所定の規則で配列した像パターン形成層（像パターン形成媒体）１と、線状帯１１を遮る遮光帯２１を互いに一定の間隔を開けて配列させた遮光パターン配列層２と、実質的に透明な透明基板３とを有している。 - 特許庁

To provide a library preparing method used in cross-section shape measurement for measuring, with high throughput and high accuracy, the cross-section shape of a pattern of a structure having a cyclic recess-and-projection shape (such as lines and spaces) without destroying the pattern or without being affected by changes in optical constants of a substance constituting the pattern.例文帳に追加

周期的な凹凸形状（例えば、ライン＆スペース等）を有する構造のパターンの断面形状を、そのパターンを破壊することなくかつパターンを構成する物質の光学定数の変化に影響されることなく、高スループットかつ高精度に測定する断面形状測定に用いられるライブラリ作成方法を提供すること。 - 特許庁

The semiconductor integrated circuit device has such a structure that the semiconductor chip 11 is connected with a wiring pattern (not shown) on the package base board 12 by a wiring pattern 16 formed in the sealing board 15, and a wiring layer is formed on the outermost side of the sealing board 15 to surround the connection part of the semiconductor chip 11 and the wiring pattern on the package base board 12.例文帳に追加

そして、封止基板１５に作りこまれた配線パターン１６によって半導体チップ１１とパッケージ基板１２上の図示しない配線パターンとを接続するとともに、封止基板１５の最も外側に、半導体チップ１１とパッケージ基板上１２の配線パターンとの接続を取り囲むように配線層を設けた構造を有している。 - 特許庁

In the mold 1 for nanoimprinting which has a pattern p1 for transfer made of a nano order uneven structure and transfers the pattern p1 by pushing it to a resin material to be transferred, a fluorinated silicon oxide film 3 is formed on a substrate 2 for the mold, and the pattern p1 is formed on the film 3.例文帳に追加

ナノオーダの凹凸構造からなる転写用パターンｐ１を有し、樹脂からなる被転写材料に押し当てて転写用パターンｐ１を転写するためのナノインプリント用金型１において、金型用基板２上にフッ素化Ｓｉ酸化膜３が形成され、そのフッ素化Ｓｉ酸化膜３に転写用パターンｐ１が形成されたものである。 - 特許庁

An electronic component built-in substrate 1 comprises a first structure 10 which includes: a substrate 11 in which a wiring pattern 14 formed on a surface 12a of a substrate body 12 electrically connects with a wiring pattern 15 formed on a surface 12b with a through via 13 interposed therebetween; and an electronic component 16 electrically connecting with the wiring pattern 14.例文帳に追加

電子部品内蔵基板１は、基板本体１２の面１２ａに形成された配線パターン１４と面１２ｂに形成された配線パターン１５とが貫通ビア１３を介して電気的に接続された形態を有する基板１１と、配線パターン１４に電気的に接続された電子部品１６と、を含む第１の構造体１０を有する。 - 特許庁

In a mounting structure for connecting the bottom face of a component 2 fixedly to a circuit board 1 through solder 12, through holes 4, gaps between the trough holes 4 and a conductive pattern 8, and recesses 14 caused by the gaps between a circuit pattern 7 and the conductive pattern 8 are present on the surface of an insulating film 11 formed on the circuit board 1.例文帳に追加

部品２の底面を半田１２により回路基板１に接続固定させる実装構造において、回路基板１に積層形成されている絶縁膜１１の表面にはスルーホール４や、スルーホール４と導電パターン８間の間隙や、回路パターン７と導電パターン８間の間隙に起因して窪み１４が生じている。 - 特許庁

Filter response waveform data which is the filter response waveform data of the FIR filter with j tap, 1/2^i oversampling and whose sampling timing is shifted by every 1/2^k of an oversampling period is stored in a filter pattern storage memory 7 for each pattern which a signal with j bit structure can take.例文帳に追加

フィルタパターン格納メモリ7には、jタップ、1/2^iオーバサンプリングのFIRフィルタのフィルタ応答波形データであって、jビット構成の信号が取り得る各パターン毎に、オーバサンプリング周期の1/2^kずつサンプリングタイミングをずらしたフィルタ応答波形データが格納されている。 - 特許庁

Generation of leakage of mold resin and cracks on the surface of solder resist relates to the interval of the pattern formed by etching on a copper layer, and the solder resist surface having high uniformity can be formed by forming the circuit pattern structure in which a gap formed in 60 μm or smaller.例文帳に追加

モールド樹脂の漏洩やソルダーレジスト面のクラック発生は、銅層のエッチングにより形成されたパターンのパターン間隔に関係することがわかり、隙間を６０μｍ以下の回路パターン構造にすることで均一性の高いソルダーレジスト面を形成できる。 - 特許庁

Since the width of the coil pattern 2 in the magnetic gap layer 11 is made narrower and the width of the nonmagnetic substance 3 is made wider in this structure, even when a magnetic flux is leaked from a center leg, the leakage magnetic flux does not interlink with the coil pattern 2 (arrow), so that generation of the eddy current loss is prevented.例文帳に追加

磁気ギャップ層１１のコイルパターン２の幅を狭めて、非磁性体３の幅を広げた構造にしているため、中央脚から磁束が漏洩しても、その漏洩磁束がコイルパターン２と鎖交することはなく（矢印）、渦電流損の発生が防止される。 - 特許庁

To provide an information inquiry system transmitting a retrieving condition and its display format pattern from a terminal to a server with respect to the inquiry information having a repeated data structure, producing the image plane information by embedding a result of the retrieving into the display format pattern by the server, and transmitting the information to the terminal.例文帳に追加

繰り返しデータ構造を有する照会情報に対して、端末から検索条件と、それの表示形式パターンと、をサーバに送付し、サーバで検索結果を表示形式パターンに埋め込んで画面情報を生成して端末に送付することにある。 - 特許庁

To provide a vehicular lighting fixture capable of selectively forming a light distribution pattern for a high beam and a light distribution patter for driving in rainy weather and capable of forming in a low-cost structure a light distribution pattern for driving in rainy weather, excellent in visibility for a distant road shoulder part.例文帳に追加

雨天走行時用配光パターンとハイビーム用配光パターンとを選択的に形成し得る構成の車両用照明灯具において、安価な構成で、遠方路肩部分の視認性に優れた雨天走行時用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁

By incident energy that reaches a wiring pattern as the specified structure embedded inside the testpiece 2 to be reflected thereat and escape from the surface of the testpiece, electronic beams as charged particles are irradiated to a region containing the wiring pattern to scan the region.例文帳に追加

試料２の内部に埋設された特定構造物としての配線パターンに到達し、特定構造物で反射して試料表面から脱出するに足る入射エネルギーで配線パターンを含む領域に荷電粒子としての電子ビームを照射して走査する。 - 特許庁

The components 4 and the wiring pattern are enclosed in a sandwich structure from the front surfaces and the rear surfaces by a GND solid pattern with the use of a film shape member with a conductive layer formed on the whole surface, thereby covering the flexible board 6a by excluding a connector part 7 for inputting a signal.例文帳に追加

信号が入力されるコネクタ部７を除いて、フレキシブル基板６ａを覆うように、全面に導電層が形成されたフィルム状部材により、部品４及び配線パターンをＧＮＤベタパターンにより表面・裏面からサンドイッチ構造に包み込む。 - 特許庁

Positions of the shade 6 and light shielding member 7 of the integrated structure are switched to first and second positions by the switching device 8 and a light distribution pattern LP for low beam and a light distribution pattern HP for high beam are switched to irradiate a front of a vehicle.例文帳に追加

切替装置８により、一体構造のシェード６および遮光部材７を第１位置と第２位置とに切替位置させることにより、ロービーム用配光パターンＬＰとハイビーム用配光パターンＨＰとを切り替えて車両の前方に照射することができる。 - 特許庁

In the other embodiment, the movement of the small drop is determined in a manner that the small drop enters the feature pattern in a desired area and is substantially immobilized there by at least one characteristic of the nano structure feature pattern, or at least one characteristic of the small drop.例文帳に追加

他の実施形態では、小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性または小滴の少なくとも１つの特性によって、小滴が所望の領域のフィーチャ・パターンに侵入し、そこで実質的に不動化するように決定される。 - 特許庁

A slit-like dummy pattern 7 is provided at the cell plate ends of a DRAM having a CUB(capacitor under bit line) structure with inner wall type cylinders, and the same material as that of stacked electrodes 8 is buried in the slit-like dummy pattern 7 as dam blocks for preventing the cylinder deformation at the cell plate ends.例文帳に追加

内壁型シリンダーを持つＣＵＢ（Ｃａｐａｃｉｔｏｒ ＵｎｄｅｒＢｉｔｌｉｎｅ）構造のＤＲＡＭのセルプレート端にスリット状のダミーパターン７を設け、このスリット状のダミーパターン７には、スタック電極８と同種の材質を埋め込んで、セルプレート端のシリンダー変形を防ぐ堤防としたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a colorful pile gauze while making most of the characteristic of the gauze in a method of weaving the pile gauze having a picture pattern of a colorful multiple-layered structure by making multiple layers with piling different color pile layers on a gauze layer while realizing the color of each layers at a substrate and the part of the pattern.例文帳に追加

ガーゼ層に異なる色のパイル層を重ねて多層化し、基体や柄の部分に各層の色を具現しながらカラフルな多層構造の絵柄付パイルガーゼを製織する方法において、ガーゼの特質を活かしつつカラフルなパイルガーゼを提供する。 - 特許庁

Thereby, since the energizing structure is formed, when a pattern is deep etched at the silicon layer 150 and the oxide layer 130, it is hard to concentrate charge on the lower part of the etching pattern which touches the oxide film layer 150, and the generation of the notch can be suppressed.例文帳に追加

これにより、前記通電構造が形成されるので、シリコン層１５０および酸化膜層１３０にかけてパターンをディープエッチングする際に、酸化膜層１５０と接するエッチングパターンの下部に電荷が集中しにくく、ノッチの発生を抑えることができる。 - 特許庁

The fine periodic structure m2 in submicron order is formed in the upper face of the printing plate having a printing pattern forming section corresponding to an ink pattern and in the front end face 41b' of the ring blade 41b arranged around the opening portion of the lower end of the ink container using a femto second laser.例文帳に追加

インキパターンに対応する印刷パターン成形部を有する印版の上面と、インキ容器の下端の開口部周縁に備えられたリングブレード４１ｂの先端面４１ｂ′とに、フェムト秒レーザを使用してサブミクロンオーダの微細周期構造ｍ２を形成する。 - 特許庁

To provide a photomask having a new structure, which has a high contrast of transfer pattern to exposing beam, and is reduced in manufacturing cost by omitting developing step in a transfer pattern forming process, and also to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、露光ビームに対する転写パターンのコントラストが高く、且つ、転写パターン形成過程において現像工程を省くことで製造コストの低減が図られた全く新規な構成のフォトマスク、及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a circuit board for high frequencies that forms a circuit pattern by a lift-off method even if a fluorocarbon-based resin is used to a substrate material, imparts an easy, accurate circuit pattern in multilayer structure, and has superior productivity; and also to provide a method for manufacturing the circuit board for high frequencies.例文帳に追加

基板材料にフッ素系樹脂を用いてもリフトオフ法による回路パターン形成が可能で、容易に高精細でかつ多層構造の回路パターン部を持たせることもでき、量産性に優れた高周波用回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the other embodiment, the movement of the small drops is decided in a manner that the small drops enter the feature pattern in a desired area and is substantially immobilized there by at least one characteristic of the nano structure feature pattern, or at least one characteristic of the small drops.例文帳に追加

他の実施形態では、小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性または小滴の少なくとも１つの特性によって、小滴が所望の領域のフィーチャ・パターンに侵入し、そこで実質的に不動化するように決定される。 - 特許庁

Throughput in the semiconductor manufacturing process is increased and thereby the manufacturing process of a phtoresist pattern is reduced when applying the exposure device with the aforementioned structure and an exposure process to the photoresist pattern formation of the semiconductor substrate W with a step.例文帳に追加

前述した構成要素を有する露光装置及び露光工程を段差が存在する半導体基板Ｗのフォトレジストパターン形成に適用すると、半導体製造工程でのスループットを増加させるとともに、フォトレジストパターンの製造工程を短縮することができる。 - 特許庁

This electric connection structure includes an earth plate which is coupled with the earth power of a semiconductor chip, an insulating layer 10 which is made on the earth plate, and a signal pattern layer 20 which has a signal pattern for transferring an electric signal with a semiconductor chip made on the insulating layer 10.例文帳に追加

半導体チップの接地電源に連結される接地板と、接地板上に形成される絶縁層１０と、絶縁層１０上に形成され、半導体チップと電気的信号をやり取りする信号パターンを有する信号パターン層２０とを含む。 - 特許庁

The semiconductor device is formed by forming an I/O buffer circuit pattern 2 on a semiconductor substrate 4, forming a through hole 10 for connecting the I/O buffer circuit pattern and the pad to an interlayer insulating film, and forming a first layer pad 8 of a double structure of an n-th metal wiring layer.例文帳に追加

半導体基板４上にＩ／Ｏバッファ回路パターン２を形成し、層間絶縁膜にＩ／Ｏバッファ回路パターンとパッドを接続するためのスルーホール１０を形成し、第ｎ番目の金属配線層にて２重構造の１重目のパッド８を形成する。 - 特許庁

The first layer of the electrode structure is designed to provide electrical contact to a fluid electronic material and the second layer of the electrode structure is formed so as to constrain the fluid electronic material in a precise pattern.例文帳に追加

本発明の１つの見地に従うと、電極構造の第１の層は、流体電子材料に電気コンタクトを提供するようにできており、電極構造の第２の層は、正確なパターンで流体電子材料を制限するように形成される。 - 特許庁

An optical/electrical hybrid substrate 10 is manufactured by attaching the optical waveguide structure 1 except the support film 2 on a circuit substrate 11 on which an electric wiring pattern 12 is formed after separating the support film 2 from the optical waveguide structure 1.例文帳に追加

また、光導波路構造体１から支持フィルム２を剥離することにより、支持フィルム２を除く光導波路構造体１を、電気配線パターン１２が形成された回路基板１１に貼り付けて、光電気混載基板１０が製造される。 - 特許庁

The resist pattern thickening material contains resin, a compound selected among a cyclic compound represented by general formula (1), a compound having a carboxyl group-containing cyclic structure, and a compound containing an aromatic hydrocarbon structure and water.例文帳に追加

樹脂と、下記一般式（１）で表される環状化合物と、カルボキシル基を含む環状構造を有する化合物、及び、芳香族炭化水素構造を有する化合物のいずれかの化合物と、水と、を含むことを特徴とするレジストパターン厚肉化材料。 - 特許庁

To reduce time necessary for second plasma processing to remove a by-product produced by first plasma processing for forming an uneven structure in substrate plasma processing for forming, on a surface of a sapphire substrate, the uneven structure corresponding to a mask pattern.例文帳に追加

サファイア基板の表面にマスクパターンに応じた凹凸構造を形成する基板のプラズマ処理において、凹凸構造を形成するための第１プラズマ処理により生じる副生成物を除去するための第２プラズマ処理の時間を短縮化する。 - 特許庁

The adhesive film for beautiful decoration is obtained by applying the fine convection pattern forming phenomenon by volatilization of a volatile solvent without forming the uneven structure mechanically to form the finely uneven structure on a surface of an adhesive coated film.例文帳に追加

機械的に凹凸構造を形成することなく、揮発性溶媒の揮発による微細な対流パターン形成現象を応用して粘着塗膜表面に微細凹凸構造を形成させて美麗装飾用の密着性のフィルムを得る。 - 特許庁

To provide a method for producing a nanoperiodic structure that can obtain a nanoscale periodic pattern more inexpensively, more simply, and with a more area (on the order of several to 100 μm) than self-organization of a block copolymer, and a nanoperiodic structure obtained by the same.例文帳に追加

ブロック共重合体の自己組織化よりも、低コストで簡便であり、且つ大面積（数μm〜100μmオーダー）でナノスケールの周期的パターンを得ることができる、ナノ周期構造の作製法、及びそれにより得られるナノ周期構造体を提供する。 - 特許庁

The optical element can perform the switching operation between two largely different photonic structure dynamically only by changing the condition of the external field by setting a distribution pattern which is to be sensed by the light to desired crystal structure, the desired shape of a lattice point and a desired cycle under these two conditions.例文帳に追加

これら２つの条件下で光が感じる分布パターンを所望の結晶構造、格子点の形状、周期に設定することで、２つの大きく異なるフォトニックバンド構造の間を、外場条件を変えるだけでダイナミックに切り替える。 - 特許庁

In the production device, a CPU2 determines a performance data structure depending on musical characteristics for every section of the performance data, and determines the illumination pattern corresponding to the performance data structure out of a plurality of illumination patterns stored in the memory 6.例文帳に追加

この生成装置では、ＣＰＵ２が、演奏データの区間ごとの音楽的特徴により演奏データ構成を決定し、この演奏データ構成に対応する照明パターンをメモリ６に記憶されている複数の照明パターンの中から決定する。 - 特許庁

To provide a method for producing a nanophase separated structure having a nanoscale periodical pattern of an area (of the order of several to 100 μm) larger than that attained by a conventional technique at low cost by a simple method and to provide a nanophase separated structure obtained thereby.例文帳に追加

低コストで簡便な方法により、従来技術よりも大面積（数μｍ〜１００μｍオーダー）でナノスケールの周期的パターンを有する、ナノ相分離構造体の製造方法、及びそれにより得られるナノ相分離構造体を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that has excellent heat and moisture resistance, has a high elasticity in a cured product at high temperature, and also has excellent hollow-structure maintainability, and a photosensitive film, a pattern forming method, a forming method for hollow structure, and an electronic component using the same.例文帳に追加

耐湿熱性に優れ、硬化物が高温で高い弾性率を有し、中空構造保持性にも優れる感光性樹脂組成物、それを用いた感光性フィルム、パターン形成方法、中空構造の形成方法、及び電子部品を提供する。 - 特許庁

In this method, loads are imposed on a mask structure consisting of a mask substrate provided with a rectangular window, wherein a mask pattern is formed on a thin film and a frame, in the in-surface directions and in the out-of-surface directions as to the front and rear surfaces of the mask structure.例文帳に追加

本発明は、薄膜上にマスクパターンが形成された矩形窓が設けられたマスク基板とフレームからなるマスク構造体に面内方向と、さらに該マスク構造体の表裏の面外方向から荷重を与えることを特徴とする。 - 特許庁