「process area」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

(6) The predetermined area of the resist film obtained with the pre- process is exposed to obtain the hardened resist layer of the predetermined thickness.例文帳に追加

（６）前工程にて得られたレジスト膜の所定部位に対し露光して、硬化した所要の層厚のレジスト層を得る。 - 特許庁

By emptying the area, opening to the process waste gas is achieved regarding each component.例文帳に追加

この領域を空にすることで、それぞれの構成要素に関してプロセス排ガスに対する開放を達成することができる。 - 特許庁

To realize a sharp characteristic in a transition area with suppressing the increase of the circuit scale in a process of designing a high-pass filter.例文帳に追加

ハイパスフィルタの設計において回路規模の増大を抑えつつ、遷移域における急峻な特性を実現する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which the resistance of an interconnect line can be prevented from increasing during fabrication process even the memory cell area is reduced.例文帳に追加

メモリセル面積が減少しても製造時における配線抵抗の増大を防止できる半導体装置の提供。 - 特許庁

The expression composing method includes an extracting process of extracting the nearly elliptic sphincter area surrounded with the sphincter of an expression model and prescribing the area above the major axis of the sphincter area as the semi-elliptic area surround with the major axis and a semi-elliptic shape and a calculating process of calculating the moving vector at a feature point included in the semi-elliptic area when the expression of a face changes.例文帳に追加

表情合成方法が、表情モデルの括約筋に囲まれた略楕円形の括約筋領域を抽出し、括約筋領域の長軸より上方の領域を、長軸と半楕円形状とで囲まれた半楕円領域として規定する抽出工程と、顔の表情が変化した場合の、半楕円領域に含まれる特徴点の移動ベクトルを計算する計算工程とを含む。 - 特許庁

The thermo-compression-bonding process also serves as a process in which the ITO electrode is sealed by thermo-compressing and thermally hardening the binding resin of the anisotropic conductive adhesive film 4 arranged in the whole area of the implementation area 3 using the thermo-compression-bonding head 7.例文帳に追加

熱圧着工程では、実装領域３に全面的に配置した異方導電性接着フィルム４の結着樹脂を熱圧着ヘッド７を用いて熱圧着して熱硬化させることにより、ＩＴＯ電極を封止する工程を兼ねる。 - 特許庁

The third process is started after the adhesive has burst control viscosity of not causing a burst of an adhesive area by air expansion due to the temperature rise in the third process of a remaining void in the adhesive area by filling the adhesive.例文帳に追加

接着剤の充填による接着エリア内の残存空隙が、第３工程での温度上昇による空気膨張によって前記接着エリアに破裂が発生しない破裂抑制粘度に接着剤がなってから、第３工程を開始する。 - 特許庁

The device includes facilitating a downstream DSL voice channel transmission process in the subscriber local area network interface device (NID) and facilitating an upstream DSL voice channel transmission process in the subscriber local area NID.例文帳に追加

このデバイスは、加入者構内ネットワークインターフェイスデバイス（ＮＩＤ）における下流ＤＳＬ音声チャンネル伝送処理を容易にすること、および、加入者構内ＮＩＤにおける上流ＤＳＬ音声チャンネル伝送処理を容易にすることを含む。 - 特許庁

A high quality of joint area and a high operation efficiency can be achieved together by controlling rotation number of the pipe joint to an optimum value for each process so as to maintain a release rate of frictional heat at the joint area to an optimum value for each process.例文帳に追加

管状継手の回転数を工程毎に最適の値に制御することにより、摩擦熱による接合部の発熱速度を工程毎の最適値に保ち、接合部の高品質と高い作業効率の両方を同時に実現できる。 - 特許庁

When forming a film pattern by supplying the functional fluid to a substrate, this method consists of a process for forming a bank on the substrate, a process for supplying the functional fluid to an area partitioned by the bank, and a process for burning the bank.例文帳に追加

機能液を基板上に供給して膜パターンを形成する際、基板上にバンクを形成する工程と、バンクによって区画された領域に機能液を供給する工程と、バンクを焼成する工程とを経て形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method capable of resolving a problem that a gate oxide film is not good by removing a nitride film by only a main process without carrying out a sample process in a process to remove the nitride film remained in a cell area.例文帳に追加

セル領域に残留する窒化膜を除去する工程でサンプル工程を行わず、メイン工程のみで窒化膜を除去することにより、かかる問題点を解決することが可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

According to the present invention, especially, mass-production of the semiconductor device having large area and high image quality can be realized without increasing a process cost and decreasing yields, because it is not necessary to add any mask process and deposition process.例文帳に追加

特に、本発明によれば、別途のマスク工程や蒸着工程を追加する必要がないので、工程コストの上昇や収率減少をもたらすことなく、大面積・高画質の半導体装置を大量生産することができる。 - 特許庁

Also it includes the process to form the bulkhead 20 by using the method for manufacturing substrate for microarray, the process to arrange anchoring material for fixing target matter in the area 30, and the process to fix the target matter in the anchoring material.例文帳に追加

マイクロアレイ用基板製法を用いて隔壁２０を形成する工程と、領域３０にターゲット物質を固定するための固定用物質を配置する工程と、固定用物質にターゲット物質を固定する工程を備える。 - 特許庁

This method comprises a process for building up a dummy displacement gate, a process for carrying out high temperature treatment to elements, a process for removing a dummy gate 28A, and a process for building-up dielectric materials to be turned into the gate dielectric layer 32 and final gate materials in the gate area.例文帳に追加

この方法では、ダミー置換ゲートを堆積する工程と、素子を高温処理にかける工程と、ダミーゲート２８Ａを除去する工程と、その後に、ゲート領域内に、ゲート誘電体層３２となる誘電体材料および最終的なゲート材料を堆積する工程とを含む。 - 特許庁

This provides a significant environmental advantage since the leakage of the process fluid wholly returns to a primary vent area 36 between the secondary process seal 22 and a primary process seal 38 and the process fluid which may leak to the outside flows to a flare system 40 in a normal state.例文帳に追加

これにより、プロセス流体の漏れの全てが、２次プロセスシール２２と１次プロセスシール３８との間の１次ベント領域３６へと戻り、通常であれば外部へと漏れ得るプロセス流体が、フレアシステム４０へと通流するので、環境上の大きな利点がもたらされる。 - 特許庁

By forming the nozzle hole after forming a water repellent film 10 by a sol-gel process, the area of an ink wetting area A around the nozzle hole is formed to 10% or less with respect to the opening area of the nozzle hole on the water repellent film surface side.例文帳に追加

撥水膜１０をゾル−ゲル法により形成した後、ノズル孔を形成することにより、ノズル孔周囲のインク濡れ領域Ａの面積を、該ノズル孔の撥水膜形成面側の開口面積の１０％以下になるようにする。 - 特許庁

A master JVM process 104 loads the data from the program module, stores an element having the data into its private memory area 108, and stores the other elements in a "read only" area 112 of the sharable memory area.例文帳に追加

マスターＪＶＭプロセス１０４が、プログラムモジュールからのデータをロードし、そのデータのある要素をそのプライベートメモリ領域１０８内に格納し、その他の要素を共用可能なメモリ領域の「リードオンリ」エリア１１２内に格納する。 - 特許庁

The device extracts a paragraph area and a graph area by analyzing document graphs in layout corresponding to a printing document with a layout analyzing part 11 while segmenting characters in the paragraph area to recognize and process with a character recognizing part 12.例文帳に追加

印刷文書に対応した文書画像をレイアウト解析部１１にてレイアウト解析して文章領域と図表領域を抽出すると共に文字認識部１２にて文章領域中の文字を切り出して認識処理する。 - 特許庁

The data processing part 30 refers to the data holding part 20 to specify the business processing device as an area-condition-satisfying device existing in the area expressed by the workable-area-information of the business process included in the electronic transaction.例文帳に追加

データ処理部３０は、データ保持部２０を参照して、電子商取引に含まれる業務プロセスの実行可能地域情報にて示される地域に存在する業務処理装置を地域条件充足装置として特定する。 - 特許庁

A color information detection part 8 and a color-area compression control part 9 control the correcting process of a color area compression part 32 which corrects the color area of input image data to the color area of the printer 5 according to color information on ink of plural colors of the printer 5 detected by using a light source 6 and a color sensor 7.例文帳に追加

色情報検出部8および色域圧縮制御部9は、光源6およびカラーセンサ7を使用して検出されるプリンタ5の複数色のインクの色情報に基づき、入力画像データの色域をプリンタ5の色域に補正する色域圧縮部32の補正処理を制御する。 - 特許庁

In a digital camera (1), an image processing unit (7) includes functions of detecting a predetermined color area from an acquired image, specifying a processing area based on the saturation and brightness of the detected color area, and adjusting the saturation and brightness of a pixel in the specified process area.例文帳に追加

デジタルカメラ（１）の画像処理部（７）は、取得した画像から所定の色領域を検出し、この検出した色領域の彩度及び明度に基づいて処理領域を指定すると共に、この指定した処理領域の画素に対して彩度及び明度を調整する機能を備える。 - 特許庁

The substrate for manufacturing the organic EL device 100 has a display pixel forming area 2A, a test pixel forming area 2B, and a liquid holder part, that is formed in the same process that forms the display pixel forming area 2A or the test pixel-forming area 2B.例文帳に追加

本発明の有機ＥＬ装置製造用基板１００は、表示用画素形成領域２Ａと、検査用画素形成領域２Ｂと、表示用画素形成領域２Ａと検査用画素形成領域２Ｂとにおいて同一プロセスにて形成された液受容部と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

An invalid area specifying unit 30 extracts from either an uncorrected image or a corrected image an image area corresponding to the kind of image from which no effective processing results can be obtained as the results of a difference extraction process, and specifies the extracted image area as an invalid area.例文帳に追加

無効領域特定部３０は、修正前後のいずれかの画像から、差分抽出処理の結果として有効な処理結果が得られない画像種別に該当する画像の領域を抽出し、その抽出した画像領域を無効領域として特定する。 - 特許庁

An image process condition of the printing area is corrected from a test pattern detection result of the out-of-printing area on the basis of the information of a difference between an image state obtained from the test pattern detection result of the out-of-printing area and an image state of the printing area obtained by scanning a test chart 1,150.例文帳に追加

印刷外領域のテストパターン検知結果から得た画像状態と、テストチャート１１５０を走査して得た印刷領域の画像状態の差の情報を元に、前記印刷外領域の前記テストパターン検知結果から、前記印刷領域の画像プロセス条件を補正するようにした。 - 特許庁

This method or displaying a plurality of windows on a display device has a process (a) of selecting one window from the windows and a process (b) of gradually reducing the luminance in the display area except the area selected in the process (a) (hereinafter referred to as selected window) from this selected window toward the circumference of the display area.例文帳に追加

表示装置に複数のウインドウを表示する方法において、前記複数のウインドウから一のウインドウを選択する工程（工程ａ）と、前記工程ａにおいて選択されたウインドウ（以下、選択ウインドウという。）の領域以外の表示領域における輝度を、当該選択ウインドウから表示領域の外周に向かって徐々に低下させる工程（工程ｂ）とを有する。 - 特許庁

The focusing comprises a first focusing process of providing an image substantially focused on the chamfered part; an area determination process of determining a specified area containing the chamfered part end on the basis of the image obtained by the first focusing; and a second focusing process of providing a focused image precisely focused on the chamfered part end on the basis of the evaluation of the image within each specified area.例文帳に追加

焦点調整は、面取加工部に概ね合焦した画像を得る第１の焦点調整工程と、第１の焦点調整により得られた画像に基づき面取加工部端を含む特定領域を決定する領域決定工程と、各特定領域内の画像の評価に基づき面取部端に精密に合焦した合焦画像を得る第２の焦点調整工程とを備える。 - 特許庁

In the pattern forming method to form a superfine pattern and a large area pattern on a process film on a substrate 11, an electron beam resist pattern film for forming a superfine pattern from the process film is formed by electron beam lithography, and a photoresist pattern film to form a large area pattern from the process film is formed through photolithography.例文帳に追加

基板１１上の加工膜に、超微細パターンと大面積パターンを形成するパターン形成方法において、加工膜を超微細パターンに形成するための電子線レジストパターン膜を電子線描画により形成し、加工膜を大面積パターンに形成するためのフォトレジストパターン膜をフォトリソグラフィにより形成した。 - 特許庁

The manufacturing method of the buried channel-type transistor by using a P-type silicon carbide substrate comprises a process for forming a buried channel area and a source/drain area, a process for forming a gate insulating film, and a process for exposing the gate insulating film to the atmosphere of not less than 500°C, which includes steam.例文帳に追加

Ｐ型の炭化珪素基板を用いた埋め込みチャネル型トランジスタの製造方法において、埋めこみチャンネル領域、および、ソース・ドレイン領域を形成する工程と、その後、ゲート絶縁膜を形成する工程と、その後に該ゲート絶縁膜を、水蒸気を含んだ５００℃以上の雰囲気に晒す工程とを含む。 - 特許庁

The method comprises (1) a process for obtaining inspected image information of an inspection objective area S by scanning the area S on a substrate 20 using electron beam, and (2) a process for analyzing a status of the area S according to inspection image information and reference image information for comparison.例文帳に追加

この方法は、（１）電子ビームにより基板２０上の検査対象領域Ｓを走査して、検査対象領域Ｓの検査画像情報を取得する工程と、（２）検査画像情報と基準となる比較画像情報とに基づいて、検査対象領域Ｓの状態を解析する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having an arrangement for suppressing occurrence of malfunction in the machining process as much as possible when a transistor provided with a memory cell area and a peripheral circuit area, such as a NAND flash, and having an LDD structure in the peripheral circuit area is fabricated; and to provide its fabrication process.例文帳に追加

ＮＡＮＤフラッシュ等のメモリセル領域および周辺回路領域を備え、周辺回路領域にＬＤＤ構造を有するトランジスタを形成する場合に、加工工程で不具合が発生するのを極力抑制することができる構成を備えた半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In addition this method includes a process (S105) of forming a second separation groove part at least in the second electrode layer, and a process (S106) of measuring output of a power generating area by connecting a measuring terminal to the second electrode layer in an output extraction area separated from the power generating area by the second separation groove part.例文帳に追加

また、少なくとも第２電極層に第２分離溝部を形成する工程(Ｓ１０５)と、第２分離溝部により発電領域と分離された出力取出し領域において、第２電極層に測定端子を接触させることにより、発電領域の出力を測定する工程(Ｓ１０６)とを備えている。 - 特許庁

This masking device executes a second masking process on the image signal processed by the first masking process on each pixel in the both sides of the image signal where the first mask area M1 is defined as the pedestal level L1 and inside one pedestal of the first masking area M1, and defines the pixel corresponding to the second masking area M1 as a prescribed gray level L2.例文帳に追加

第１のマスク処理が施された画像信号に対して、第１マスク領域Ｍ１がペダスタルレベルＬ１とされた映像信号の両側、第１マスク領域Ｍ１の一画素内側の各画素に対して第２のマスク処理を施し、第２マスク領域Ｍ２に対応する画素を所定のグレーレベルＬ２とする。 - 特許庁

In addition, an improvement target area is selected from the distribution of all process operation time for the whole works, and one or more processes, which have strong correlations in the selected area, are extracted as improvement required processes necessary with improvements with reference to the distribution of operation time for every process for works included in the selected area.例文帳に追加

そして、全ワークの全工程作業時間分布から改善の対象とすべき範囲を選択し、その選択された範囲に含まれるワークの工程毎作業時間分布を参照することにより選択された範囲に相関の強い１つ又は複数の工程を改善の必要な要改善工程として抽出する。 - 特許庁

This method first etches a device separation film by employing an island mask where the channel area and its adjacent device separation film are partially exposed in the etching process of the recess gate area, and then etches a semiconductor substrate to prevent silicon horns from being formed in the recess gate area and increase a margin in the etching process.例文帳に追加

リセスゲート領域の食刻工程でチャンネル領域とこれに隣接した素子分離膜を部分的に露出させるアイランド型マスクを用いて素子分離膜を先に食刻した後、半導体基板を食刻することにより、リセスゲート領域にシリコンホーンが形成されることを防止し、食刻工程のマージンを高める。 - 特許庁

In an after heating process after the splicing process, the additive is diffused by heating the area including the fusion splicing point 3 between the first optical fiber 1 and the second optical fiber 2.例文帳に追加

融着工程の後の後加熱工程において、第１の光ファイバ１と第２の光ファイバ２との間の融着接続点３を含む領域を加熱して添加物を拡散させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a bearing-integrated type pulley, capable of washing a painting object face of a pulley without leaving an unwashed area, in a washing process that is a preprocess of a painting process.例文帳に追加

プーリの塗装対象面を塗装工程の前工程である洗浄工程で未洗浄領域なく洗浄することができる軸受一体型プーリの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In (2) the stage extraction process, an area where the size of the character rectangle is uniform is extracted utilizing the character rectangle estimated by the character rectangle estimation process and the stage is estimated.例文帳に追加

（２）段抽出処理では、上記の文字矩形推定処理によって推定された文字矩形を利用して、文字矩形の大きさが均一となる領域を抽出し、段を推定する。 - 特許庁

The method for handling the defect of the hard disk drive comprises a process of detecting a potential defect which can develop to a defect in the future and a process of alternating the potential defect to an alternate area.例文帳に追加

将来に欠陥に発展できる潜在的欠陥を検出する過程，及び潜在的欠陥を代替領域に代替する過程を含む欠陥処理方法である。 - 特許庁

In this measurement, a process irradiating a samples including oocysts of Cryptosporidium with ultrasonic waves for 10-15 seconds and a process cooling the irradiated samples in the low temperature area for 10-20 seconds are alternately repeated.例文帳に追加

クリプトスポリジウムのオウシストを含む試料に、超音波を所定時間照射する工程と、超音波照射後に低温部において所定時間冷却する工程とを交互に繰り返す。 - 特許庁

Then, a pre-etching process through which all the area of the non-doped region 132 of the polysilicon layer 13 is removed as thick as prescribed is carried out before the dry etching process is carried out.例文帳に追加

そこで、上記ドライエッチング工程の前に、予めポリシリコン層１３におけるノンドープ領域１３２の全域を所定厚さ分除去しておくプリエッチング工程を設けている。 - 特許庁

Accordingly, even when the conductor has a large area, heat of solder 9 is no longer transferred to the conductor at the time of soldering process and thereby excellent solder wicking can be provided in the soldering process to assure reliable connection.例文帳に追加

こうすることにより、導体の面積が大であっても、ハンダ付けの際にハンダ９の熱が導体に伝達されなくなり、よって、ハンダ上がりが十分となって接続が良好になる。 - 特許庁

To enable an efficient coding process or decoding process by reducing mode information on a prediction method for generating an in-screen predictive signal in a pixel area.例文帳に追加

画素領域において画面内予測信号を生成するための予測方法に関するモード情報を削減することによって効率的な符号化処理又は復号処理を実現すること。 - 特許庁

To simplify a manufacturing process and to lower the cost of a multi- gap type liquid crystal panel by omitting a process of removing an overcoat layer only in a transmission display area.例文帳に追加

マルチギャップタイプの液晶パネルにおいて、透過表示領域のみにおいてオーバーコート層を除去する工程を省略することにより、製造工程を簡略化し、コストを抑制する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional image drawing device capable of reducing image drawing process time by making it possible to increase the speed of a clipping process for a polygon stretching across the inside and outside of an image drawing area.例文帳に追加

描画領域の内外にまたがるポリゴンのクリッピング処理の高速化を可能とし、描画処理時間を短縮できる３次元画像描画装置を提供すること。 - 特許庁

The object detection method and apparatus include a first detection process for detecting a first image, a second detection area setting process for setting a detection area of a second image, a second detection process for detecting the detection area, and a determination process for determining object detection on the basis of the detection results of the first and second detection processes.例文帳に追加

第１の画像に対する第１の検出工程と、前記検出工程での検出情報に基づいて、第２の画像に対する検出領域を設定する第２の検出領域設定工程と、前記検出領域に対する第２の検出工程と、前記第１及び第２の検出工程における検出結果に基づいて、オブジェクト検出を判定する判定工程とを含むことを特徴とするオブジェクト検出方法及び装置。 - 特許庁