「processing layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing the semiconductor device includes the processes of forming a mark made of a non-single-crystalline reformed layer inside a back surface of a semiconductor wafer by irradiating the semiconductor wafer with laser light from the back surface; and exposing the reformed layer by subjecting the back surface of the semiconductor wafer to polishing or grinding processing after the process of forming the mark.例文帳に追加

半導体ウェーハの背面からレーザ光を照射して、前記半導体ウェーハの背面より内部に非単結晶質の改質層からなるマークを形成する工程と、前記マークを形成する工程の後に、前記半導体ウェーハの背面を研磨或いは研削処理して前記改質層を表出させる工程を設ける。 - 特許庁

To provide a transfer film for curved surface printing which is free from the generation of cracks in an image layer constituting a pictorial pattern and capable of performing the curved surface printing with outstanding design characteristics, during a transfer processing step using a curl fit process for applying an activator to the transfer film for curved surface printing having a formed image layer constituting the pictorial pattern.例文帳に追加

絵柄を構成する画像層を形成した曲面印刷用転写フィルムに活性剤を塗布して行うカールフィットによる転写加工工程に際して、絵柄を構成する画像層のひび割れが発生せず、意匠性に優れた曲面印刷を行うことのできる曲面印刷用転写フィルムを提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a polarizing plate having a polarizing film produced by a coating method with high shearing stress and featuring that the polarizing film is hardly scratched but easily processed and that the film gives high yield during manufacturing and excellent productivity, to provide a method for manufacturing the polarizing plate, and to provide an optical element having an antireflection layer and an antistatic layer by using the polarizing plate having excellent processing property.例文帳に追加

塗布方式で高いずり応力により偏光膜を製造し、その偏光膜が傷がつきにくく、加工し易く、製造中の収率が高く、生産性に優れた偏光板及びその製造方法、更に該加工性の優れた偏光板を使用して反射防止層や帯電防止層を有する光学要素を提供する。 - 特許庁

In the method for processing a silver halide photographic sensitive material, a silver halide photographic sensitive material having at least one hydrophilic colloidal layer on a support and containing a compound represented by formula (1) in the at least one hydrophilic colloidal layer is processed with 0.5 to 5 l washing water without replenishing the washing water.例文帳に追加

支持体上に少なくとも１層の親水性コロイド層を有し、該親水性コロイド層の少なくとも１層に下記一般式（１）で表される化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材料を、水洗水量が０．５〜５リットルで、かつ水洗水無補充で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

An antiferromagnetic layer 24 that can cause a switched connection bias between it and a free magnetic layer 23 of each of the magnetic resistance effect elements to be generated without anneal processing in the magnetic field and the magnetizing directions of the free magnetic layers 23 to be aligned with the sensitivity axis directions in a state permitting variations of magnetization is disposed on the upper faces of the free magnetic layers 23.例文帳に追加

各磁気抵抗効果素子のフリー磁性層２３の上面には、フリー磁性層２３との間で磁場中でのアニール処理を行うことなく交換結合バイアスを生じさせ各フリー磁性層２３の磁化方向を磁化変動可能な状態で感度軸方向に対して直交方向に揃えることができる反強磁性層２４が設けられている。 - 特許庁

The manufacturing method of the electric casting mold has the process (step S11) of processing the surface of the material of a master mold to obtain the master mold having a fine surface uneven shape and the process (step S12) of forming an electrodeposition layer on the surface of the master mold and peeling the electrodeposition layer from the master mold to obtain the electric casting mold as a negative mold.例文帳に追加

電気鋳造金型を製造する方法は、マスター型の素材の表面を加工することにより微細な表面凹凸形状を有するマスター型を得る工程（ステップＳ１１）と、マスター型の表面上に電着層を形成し、当該電着層をマスター型から剥離してネガティブ型としての電気鋳造金型を得る工程（ステップＳ１２）と、を有する。 - 特許庁

To provide a chemically reinforced plate glass which is improved in brittleness inherent in glass, and is prevented from the occurrence of the extension of unavoidable remaining cracks that are formed during processing, and in which a deep surface stress layer is likely to be produced to enable the easy incorporation of the remaining cracks into the surface compression stress layer, and scratches are hardly formed by external forces.例文帳に追加

ガラスそのものの脆さを改善し加工時に発生する不可避な残存クラックの伸展を防ぎつつ、また深い表面応力層を得やすくすることにより発生した残存クラックを表面圧縮応力層に容易に取り込むことが可能で、かつ外力による傷の発生がしにくい化学強化板ガラスの提供。 - 特許庁

The method of manufacturing the polarizing member includes the steps of: forming a polarizing film by applying a dichroic dye-containing solution on a base material; performing fixing processing of the dichroic dye in the formed polarizing film; forming a primer layer by applying an aqueous resin composition containing a resin component and an aqueous solvent onto the polarizing film after the fixing processing and drying the composition; and forming a functional film on the formed primer layer.例文帳に追加

基材上に二色性色素含有溶液を塗布することにより偏光膜を形成すること、形成した偏光膜に対し、該膜中の二色性色素の固定化処理を施すこと、固定化処理後の偏光膜上に樹脂成分および水系溶媒を含有する水系樹脂組成物を塗布し、該組成物を乾燥させることによりプライマー層を形成すること、ならびに、形成されたプライマー層上に機能性膜を形成すること、を含む偏光部材の製造方法。 - 特許庁

The upper electrode 105 for a parallel-plate plasma processing apparatus includes a substrate 105a formed of a desired dielectric, and a dielectric layer 110 formed at least partially on the lower electrode 210 side surface of the plasma processing apparatus out of the surface of the substrate 105a, the dielectric layer 110 having a sparse and dense pattern where the outside of the lower electrode 210 side surface is denser than the inside.例文帳に追加

平行平板型のプラズマ処理装置用の上部電極１０５であって、所望の誘電体から形成された基材１０５ａと、前記基材１０５ａの表面のうち、少なくとも前記プラズマ処理装置の下部電極２１０側の表面の一部に形成された導電体層１１０と、を含み、前記導電体層１１０は、前記下部電極２１０側の表面の外側が内側より密になるように疎密のパターンを有する上部電極１０５が提供される。 - 特許庁

The photodetector incorporated semiconductor device having a photodetector and a signal processing circuit for the insulated and separated photodetector formed on the same semiconductor is constituted by laminating a 1st semiconductor layer having a 1st photodetector; an insulating layer which varies in reflection factor with the wavelength of light, transmits light, and has a specified film thickness; a 2nd photodetector; and the signal processing circuit in order on the semiconductor substrate.例文帳に追加

受光素子と該受光素子の信号処理回路とが同一半導体基板上に絶縁分離して形成された受光素子内蔵半導体装置において、第１の受光素子を備える第１の半導体層と、光の波長により反射率が変わり、かつ光透過性を有する所定の膜厚の絶縁層と、第２の受光素子及び信号処理回路を備える第２の半導体層とが、順に半導体基板上に積層して形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

In the processing method for a silver halide photographic sensitive material having at least one photosensitive silver halide photographic emulsion layer on the base with an automatic processing machine, the sensitive material is processed with a stabilizing solution containing a compound of formula (1).例文帳に追加

支持体上に少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀写真乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料の自動現像機による処理方法において、下記一般式（１）によって表される化合物を含有する安定化液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の自動現像機による処理方法。 - 特許庁

In the processing method for a black-and-white silver halide photographic sensitive material having a photosensitive silver halide photographic emulsion layer on the base, development is carried out with a processing solution containing a cyclohexanedione compound, not substantially containing dihydroxybenzene and its derivative and containing an ascorbic acid compound.例文帳に追加

支持体上に感光性ハロゲン化銀写真乳剤層を有する黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法において、シクロヘキサンジオン化合物を含有し、実質的にジヒドロキシベンゼン及びその誘導体を含まず、且つ、アスコルビン酸化合物を含有する処理液で現像処理することを特徴とする黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

This adhesive sheet for processing semiconductor has antistatic effects and ≤1 s of half-life of a voltage when electrified in the adhesive sheet for processing semiconductor obtained by applying an adhesive layer composed of a base polymer, a radiation polymerizable compound and a radiation polymerizable polymerization initiator on a base material having transparency to ultraviolet ray and/or an electron beam.例文帳に追加

紫外線及び／又は電子線に対し透過性を有する基材面上にベースポリマーと放射線重合性化合物と放射線重合性重合開始剤からなる粘着剤層を塗布してなる半導体加工用粘着シートにおいて、帯電防止効果を有し、帯電時の電圧の半減期が１秒以下である半導体加工用粘着シートである。 - 特許庁

After a cavity 11 with a desired product shape engraved on a mold substrate is subjected to carving processing, spherical particles are sprayed on the surface of the cavity 11 to grind the angular vertexes of the unevenness of the surface of the cavity formed by the carving processing to form a satin finish surface, and a plating layer 12 is formed on the surface of the satin finish surface.例文帳に追加

金型基材に所望の製品形状を象ったキャビティ１１の彫り込み加工をした後、キャビティ１１の表面に球状粒子を吹き付けて彫り込み加工によって生じたキャビティ１１の表面の凹凸の角張った頂点部を研削した梨地仕上げ面を形成し、該梨地仕上げ面の表面にメッキ層１２を形成した。 - 特許庁

The distortion compensation circuit 20 includes: a synchronizing processing part 26 which obtains an input signal generated by a higher layer and input to an amplifier 7 and an output signal output from the amplifier 7; and a distortion compensation part 25 which uses the input and output signals obtained by the synchronizing processing part 26 to compensate distortion of the amplifier 7.例文帳に追加

本発明の歪補償回路２０は、上位レイヤにより生成されて増幅器７に入力される入力信号、及び、増幅器７が出力する出力信号を取得する同期処理部２６と、同期処理部２６によって取得された前記入出力信号を用いて増幅器７の歪補償を行う歪補償部２５とを備えている。 - 特許庁

Upon receiving the request of authentication, the source initiates a session according to AKE for a DTCP layer 113 as the sync while utilizing the authentication function of a secret gamut DTCP processing part 1084 of an IT processing part 108 being assigned an isochronous channel which is indicated by the channel notification received from the sync of the request source of authentication and a key setting function.例文帳に追加

認証要求を受け取ったソースは、認証要求元のシンクから受信しているチャネル通知が示すアイソクロナスチャネルを割り当てたＩＴ処理部１０８の秘密域ＤＴＣＰ処理部１０８４の認証機能と鍵設定機能を利用しながら、シンクとなるＤＴＣＰ層１１３との間でＡＫＥに従ったセッションを実行する。 - 特許庁

The adhesive sheet 11 for processing is an adhesive sheet 11 for processing containing at least a base material 12 constituted by containing soft vinyl chloride and an adhesive layer 13 characterized in that it contains a radiation polymerizable compound having at least 2 or more light reactive functional groups in one molecule.例文帳に追加

本発明に係る加工用粘着シート１１は、少なくとも基材および粘着剤層を有する加工用粘着シート１１であって、前記基材１２は軟質塩化ビニルを含み構成され、前記粘着剤層１３には、一分子中に少なくとも２以上の光反応性官能基を有する放射線重合性化合物が含まれることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing device of an uneven film, which can improve a processing speed by producing no offset to a film substrate or no unpainted portion due to bubbles on a resin layer in manufacturing the uneven film, and further, improve the processing speed without upsizing an equipment such as a recovery apparatus of a resin liquid.例文帳に追加

凹凸フィルムの製造に当たって、フィルム基材への裏移りを生じさせることなく、また樹脂層に泡かみを生じることなく加工速度を向上させることができ、更に樹脂液の回収装置等の設備の大型化を伴うことなく加工速度を向上させることの可能な凹凸フィルムの製造装置を提供する。 - 特許庁

In the developer for processing the silver halide photographic plate which has on a glass support at least a layer of silver halide emulsion and a method for processing it, pH is kept between 9 or more and less than 11, and static surface tension 40×10^-5 N/cm to 65×10^-5 N/cm.例文帳に追加

ガラス支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真乾板を処理するための現像剤が、ｐＨ９以上１１未満であり、静的表面張力が４０×１０^−５Ｎ／ｃｍ〜６５×１０^−５Ｎ／ｃｍであることをを特徴とするハロゲン化銀写真乾板用現像剤及びその処理方法。 - 特許庁

In the processing method for a silver halide photographic sensitive material having at least one photosensitive silver halide photographic emulsion layer on the base, the sensitive material is processed with a processing solution containing a compound of formula (1) and a compound having 200-500 mV redox potential E.例文帳に追加

支持体上に少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀写真乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料の処理方法において、下記一般式（１）で示される化合物を含有し、かつ酸化還元電位Ｅが２００〜５００ｍＶである化合物を含有する処理液で処理されることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the multilayer printed wiring board includes the steps of forming, by laser irradiation, a via hole 5 in an insulating layer 4 formed by a prepreg 3 comprised of a glass cloth 1 impregnated with a thermosetting resin composition 2, subjecting the via hole 5 to a glass etching processing with a glass etching solution, and then subjecting the via hole to a desmear processing with an oxidizing agent solution.例文帳に追加

本発明の多層プリント配線板の製造方法は、ガラスクロス１に熱硬化性樹脂組成物２を含浸させたプリプレグ３により形成された絶縁層４に、レーザー照射によりビアホール５を形成し、該ビアホール５にガラスエッチング溶液によるガラスエッチング処理を施した後、酸化剤溶液によるデスミア処理を施す。 - 特許庁

In the processing method for a silver halide color photosensitive material, a silver halide color photosensitive material having at least one silver halide emulsion layer containing at least one coupler represented by formula (1) on a support is processed with a processing solution containing at least one compound represented by formula (W).例文帳に追加

支持体上に下記一般式（１）で表される少なくとも１種のカプラーを含有する少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀カラー感光材料を、下記一般式（Ｗ）で表される化合物を少なくとも一種含有する処理液により処理することを特徴とするハロゲン化銀カラー感光材料の処理方法。 - 特許庁

The laser beam LB1 for processing is irradiated to the second reflection region 6 by a first output based on the switching coordinate value, the laser beam LB1 for processing is irradiated to a first reflection region 5 by a second output which is a higher output than the first output to form an uniform modified layer P on each of the reflection regions 5, 6.例文帳に追加

そして、切り替え座標値に基づき、第２の反射領域６に第１の出力で加工用レーザービームＬＢ１を照射し、第１の反射領域５に第１の出力よりも高い出力である第２の出力で加工用レーザービームＬＢ１を照射し、各反射領域５，６に均一な改質層Ｐを形成する。 - 特許庁

To reduce fluctuation in characteristics of an element formed in a processing circuit part in spite of installation of the processing circuit part, which processes a value detected by a detection part, in a semiconductor chip in a mechanical quantities detector, in which the semiconductor chip having the detection part detecting impression of a dynamic quantity is connected to a base via a connection layer.例文帳に追加

力学量の印加を検出する検出部を有した半導体チップが接合層を介して台座に接合された力学量検出装置において、検出部が検出した値を処理する処理回路部を半導体チップに設けたとしても、処理回路部に形成された素子の特性が変動してしまうのを抑制すること。 - 特許庁

To obtain the metal-bonded super-abrasive used for processing of a hard material such as cutting and drilling at a wet or dry processing, to obtain two or more kinds of super-abrasives with different brittleness without differentiating an amount of diamond or CBN and kinds of base bonds, and to obtain a super abrasive having a backing layer and using the soft base bond.例文帳に追加

硬質材料の湿式・乾式での切断・穿孔等の加工に使用されるメタルボンド超砥粒を得ること、脆弱性の度合いが二種類以上の超砥粒をダイヤモンド又はＣＢＮの量とベースボンドの種類を異ならしめることなく得ること、バッキング層を備えかつ軟らかいベースボンドを用いることができる超砥粒を得ることを課題とする。 - 特許庁

The surface-emitting laser device comprises: a calculation processing unit that executes a calculation on an instruction from outside and outputs a voltage signal in accordance with a calculation result; a surface emission laser element that is directly connected to the calculation processing unit and has an active layer which is provided with a driving voltage signal generated by superimposing a bias voltage common to a supply voltage to the calculation processing unit on the voltage signal.例文帳に追加

外部からの指令に従って演算を行い、該演算結果に従って電圧信号を出力する演算処理装置と、前記演算処理装置に直接的に接続し、活性層を有し、前記演算処理装置に対する供給電圧と共通の電圧をバイアス電圧として前記電圧信号に重畳して生成した駆動電圧信号が前記活性層に供給される面発光レーザ素子と、を備える。 - 特許庁

A specified pattern is presented to a data input layer 101 to perform learning needed for detecting a new feature class by a non-learning processing module comprising a plurality of neurons having a reception field structure for learning an unlearned feature class.例文帳に追加

所定のパターンをデータ入力層１０１に提示することにより、未学習の特徴クラスを学習すべき受容野構造が不定な複数ニューロンからなる未学習処理モジュールにおいて新規な特徴クラスの検出に必要な学習を行う。 - 特許庁

An interpreter 45 which transmits, receives, encodes, decodes, interprets or executes mobile agents is arranged on an upper layer of control software of the image processing device, and mobile agents 41, 42, ... and so on transferred from client devices such as a computer and a word processor are executed.例文帳に追加

画像処理装置の制御ソフトウェアの上位層に、モバイルエージェントを送受信、符号／復号化、解釈、実行するインタープリタ４５を配し、コンピュータやワードプロセッサなどのクライアント装置から移動してきたモバイルエージェント４１、４２…を実行する。 - 特許庁

An ATM cell is reproduced by providing this ATM transmission line monitoring device with a monitor signal fetching part 1 that picks up a signal at an optional point of a communication cable, amplifying the picked up signal by an input signal amplification part 21 and performing a frame synchronization processing by a physical layer synchronization part 22.例文帳に追加

通信ケーブルの任意の点で信号をピックアップするモニタ信号取込み部１を設け、このピックアップされた信号を入力信号増幅部２１で増幅し、物理レイヤ同期部２２でフレーム同期処理を行ってＡＴＭセルを再生する。 - 特許庁

In an exemplary embodiment, the oxide layer may be a graded structure formed using two distinct processing operations, a first operation at a relatively low temperature, and a final operation at a temperature above the viscoelastic temperature of the oxide film.例文帳に追加

例示的な実施形態では酸化層を、比較的に低い温度での第１の操作と酸化膜の粘弾性温度よりも高い温度での最終操作との２つの異なった処理操作を使用して形成された傾斜構造とすることができる。 - 特許庁

The deposition and processing of the layer is carried out under thermal condition in which one or a plurality of layers deposited and processed underneath, particularly an organic material, is not subjected to a static temperature or a dynamic temperature excessively exceeding limitation for stability.例文帳に追加

層の蒸着及び処理は、すでに蒸着されて処理された下にある単数又は複数の層、特に有機材料を、安定のための限界を超える過度な静的又は動的温度に晒さないような熱的条件下で行われる。 - 特許庁

In the case of preparing the photographic print from the photographic film on which photographing is performed by the film unit with a lens 10, the print designation data is read out from the magnetic recording layer so as to add image processing for applying the special filter effect to the original image data of the photographic film.例文帳に追加

このレンズ付きフイルムユニット１０で撮影した写真フイルムから写真プリントを作成する際には、磁気記録層からプリント指示データを読み出して、写真フイルムの原画像データに特殊フイルタ効果を施す画像処理を加える。 - 特許庁

This is a support 1 for hot processing which is composed of base material 2 consisting of sintered substance of a silicon carbide, a silicon nitride, or a silicon carbide impregnated with silicon metal, and a support layer 3 for supporting material 4 to be processed.例文帳に追加

炭化珪素質、窒化珪素質、若しくは金属珪素含浸炭化珪素質の焼結体からなる基材２と、基材２の表面に形成された、被加工材４を支持するための支持層３とから構成された熱間加工用の支持体１である。 - 特許庁

To provide a polishing method of a color filter for a liquid crystal display by which the entire face of the surface of the color filter can be further uniformly polished and variations of the film thickness of a colored layer can be remarkably reduced in polishing processing using an Oscar type polishing machine.例文帳に追加

オスカー型研磨機を用いた研磨処理において、カラーフィルタ表面の全面をより均一に研磨し、着色層の膜厚のバラツキを大幅に縮小させることのできる液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate-mask fixing device which prevents damage to a substrate surface layer by a mask and displacement of a substrate when the substrate and the mask are brought into tight contact with each other and permits the use of the mask of a nonmagnetic substance in subjecting the substrate to a mask processing.例文帳に追加

基板にマスク処理を施す際、基板とマスクを密接させる際のマスクによる基板表面層への損傷および基板の位置ずれを防止するとともに、非磁性体のマスクの使用も可能である基板・マスク固定装置を提供する。 - 特許庁

The activated carbon is obtained by processing the activated carbon material through carbon oxide gas containing low temperature plasma treatment or boric acid containing water vapor low temperature plasma treatment, and the obtained activated carbon is formed and employed as the polarizable electrode for the electric double layer capacitor.例文帳に追加

活性炭は活性炭材料を含炭酸ガス低温プラズマ処理または含ホウ酸水蒸気低温プラズマ処理することによって得られ、得られた活性炭を用いて成形され、電気二重層キャパシタ用分極性電極として用いられる。 - 特許庁

In this case, an OSD controller 24 reads desired OSD images from the ROM 23, obtains positions of the black zones from the microcomputer 20 and gives an instruction of sequentially displaying the black zones for each layer of the OSD images to the image processing section 17.例文帳に追加

このとき、ＯＳＤコントローラ２４は、ＲＯＭ２３から所望のＯＳＤ画像を読み出し、マイコン２０から黒帯部分の位置を求めて、ＯＳＤ画像の階層ごとに黒帯部分を順次表示する指示を画像処理部１７に送出する。 - 特許庁

A bridge function part 12 connects one of a data processing part 13 and a CPU 16 to an Ethernet (R) interface part 11 through a MAC layer by the switch setting contents (authentication input mode/normal communication mode) of a mechanical switch 15.例文帳に追加

ブリッジ機能部１２はメカニカルスイッチ１５のスイッチ設定内容（認証入力モード／通常通信モード）によってデータ処理部１３及びＣＰＵ１６のうち一方をイーサネット（登録商標）インタフェース部１１にＭＡＣレイヤにおいて接続する。 - 特許庁

To provide a method for processing the wooden basis of a wood base to produce coated articles which are smooth and excel in resistance to dry cracking and alkali resistance, with little coating defects such as bubbles and blowouts or the like caused by a trachea holes in a surface layer of a wood base, fluffing and moisture, or the like.例文帳に追加

木質系基材の表層部の導管孔、ケバ、水分等に起因する発泡、吹き出し等の塗膜欠陥の少ない平滑で耐干割れ性及び耐アルカリ性が良好な塗装製品を得るための木地処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image recording device avoiding an image failure or peeling of a water repelling layer of a printing head, and carrying out stable printing processing, by minimizing waving generated on recording paper absorbing ink on a carrying belt.例文帳に追加

搬送ベルト上のインクを吸収した記録紙に発生する波打ちを極力低減させることによって、画像不良や印字ヘッドの撥水処理層の剥離を回避し、安定した印字処理が可能な画像記録装置を提供すること。 - 特許庁

In this manufacturing method of a quartz glass member, a quartz glass substrate 1 of which surface has been mirror-finished is pasted on a laser processing bench and a laser beam is irradiated focused on the surface layer or the inside of the substrate 1, and the product is cut by moving the focus along its contour.例文帳に追加

表面を鏡面加工した石英ガラス基板１をレーザー加工台に貼り付け、基板１の表層又は内部に焦点を結ばせてレーザービームを照射し、焦点を製品の輪郭に沿って移動させて切断加工する。 - 特許庁

Since the determination result in the step S29 is YES when an occupant completes selection/determination up to a sixth layer 31f, the device body 11 outputs a route retrieval instruction to a route retrieval part in step S31 and completes destination retrieval processing.例文帳に追加

乗員が第６階層３１ｆまで選択／確定を終えると、ステップＳ２９の判定がＹＥＳとなるため、検索装置本体１１は、ステップＳ３１でルート検索部にルート検索指令を出力して目的地検索処理を終了する。 - 特許庁

Further, a digital processing of the signal current outputted from the X-ray photoelectric converter 10 is becoming easy since a noise current is becoming small if a charge collecting electrode 5 is provided at the location between a charge collecting electrode 2 and the X-ray photoconductive layer 3.例文帳に追加

また、電荷収集電極２とＸ線光導電層３との間に電荷収集電極５を設けると、ノイズ電流が小さくなるので、Ｘ線光電変換器１０から出力される信号電流のディジタル処理が容易になる。 - 特許庁

The MPLS switch section 13 searches a database on the basis of a value of a label of a received MPLS packet to decide an output port and rewrites the label into a new label and transfers the resulting packet to layer processing sections 14-1 to 14-n of the corresponding output port.例文帳に追加

ＭＰＬＳスイッチ部１３は受信したＭＰＬＳパケットのラベルの値を基にデータベースを検索して出力ポートを決定し、新しいラベルに書換えた後で該当する出力ポートのレイヤ処理部１４−１〜１４−ｎに転送する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus that performs selenization or sulfurization process for forming a light absorbing layer of a CIS-based solar cell, which includes a furnace body whose machining is easier than that of a quartz chamber, and also provide a chamber whose handling is easier than that of the quartz chamber.例文帳に追加

ＣＩＳ系太陽電池の光吸収層形成のためのセレン化又は硫化処理を行う基板処理装置において、石英製のチャンバーと比較して、加工が容易な炉体を有する基板処理装置を提供することにある。 - 特許庁