「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(60ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming a fine processing pattern with high position precision without using a photomask, typically, a method relating to a contact opening in the process for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

フォトマスクを使用することなく、微細な加工パターンを高い位置精度で形成する方法、代表的には半導体装置を製造する工程の中でのコンタクト開口に関する方法を提示する。 - 特許庁

A video signal processing circuit (second dither superimposing circuit) 400 adds the dither coefficient pattern to an output of the inverted gamma correction circuit 200 to correct the gradation of intermediate and high gradation parts of the R, G and B signals.例文帳に追加

映像信号処理回路（第２のディザ重畳回路）４００は、逆ガンマ補正回路２００の出力にディザ係数パターンを加算して、Ｒ，Ｇ，Ｂ信号の中高階調部の階調を補正する。 - 特許庁

A storage unit 21A included in the driving unit 21A stores a plurality of basic holograms corresponding to a plurality of basic processing patterns and a focusing hologram corresponding to a Fresnel lens pattern.例文帳に追加

駆動部２１に含まれる記憶部２１Ａは、複数の基本加工パターンそれぞれに対応する複数の基本ホログラムを記憶するとともに、フレネルレンズパターンに相当する集光用ホログラムを記憶する。 - 特許庁

The host CPU evaluates the compressibility by software processing from the data obtained from the stored data quantity register 2216 and can update the data in a reference pattern register 2212 for further optimization.例文帳に追加

ホストＣＰＵは、格納データ数レジスタ２２１６から得られたデータからソフトウェアの処理により圧縮率を評価し、さらに最適化するために参照パターンレジスタ２２１２のデータを更新することができる。 - 特許庁

A matching area setting means sets a residual area deleted with the recognition finish area from the matching area, as a new matching area, and repeats recognition processing for the indicating body by the shape pattern-matching.例文帳に追加

マッチング領域設定手段は、マッチング領域から認識済領域を削除した残余領域を新たなマッチング領域に設定し、形状パターンマッチングによる標示体の認識処理を繰り返し行う。 - 特許庁

Subsequently, generates a test pattern C (S10), stores the image density Dc (S11) and adjusts a PWM value by an edge processing section to make Da1 to Da4 and Dc equal to each other (S12 and S13).例文帳に追加

次にテストパターンＣを生成して（Ｓ１０）、画像濃度Ｄｃを記憶し（Ｓ１１）、Ｄａ１〜Ｄａ４とＤｃが等しくなるようにＰＷＭ値をエッジ処理部にて調整する（Ｓ１２、Ｓ１３）。 - 特許庁

Processing in S2-S8 is performed, and dot pattern data for each of the external character data of sizes 1-7 are created from the corrected external character data, so as to be stored with registration numbers in an external character information storage area 43C.例文帳に追加

そして、Ｓ２〜Ｓ８の処理を実行して、この補正外字データからサイズ１〜サイズ７の各外字データのドットパターンデータを作成して外字情報記憶エリア４３Ｃに登録番号と共に格納する。 - 特許庁

Since a common subroutine is called for a pattern control command, a voice control command, a lamp control command, and a delivery control command, processing for outputting commands to be delivered can be made common with each other.例文帳に追加

図柄制御コマンド、音声制御コマンド、ランプ制御コマンドおよび払出制御コマンドについて、共通のサブルーチンをコールするので、送出されるべきコマンド出力処理も共通化することができる。 - 特許庁

A class code decision section 53 generates a class code from a difference between simple Y signals obtained as a result of simple Y/C separation processing by a pattern detection section 52 on the basis of data of the class tap.例文帳に追加

クラスタップのデータに基づく、パターン検出部５２およびクラスコード決定部５３の処理により、簡易Ｙ／Ｃ分離処理の結果として得られる簡易Ｙ信号間の差分に基づくクラスコードが生成される。 - 特許庁

The imaged image data are preserved in an image storage device 10, and a pattern edge and a cell boundary in the lateral direction and in the longitudinal direction are discriminated and demarcated into each individual cell by an image processing device 11.例文帳に追加

撮像された画像データを画像記憶装置１０に保存し、画像処理装置１１によりパターンエッジ、横方向及び縦方向のセル境界を識別して、１個ずつのセルに切り分ける。 - 特許庁

To reduce downtime for an apparatus due to processing control for an image formation using a test pattern; and to obtain a stable image quality while employing an intermediate transfer method with high image superposing accuracy.例文帳に追加

画像重ね精度が高い中間転写方式を採用しながら、テストパターンを用いた画像形成のためのプロセス制御による装置のダウンタイムを低減し、かつ安定した画像品質を得る。 - 特許庁

To obtain a matching processing method considering quantum errors for judging conformity by an appropriate comparison method by automatically generating a reference pattern where errors when using a three-plate type CCD camera is used are considered.例文帳に追加

３板式ＣＣＤカメラを用いた場合の誤差を考慮した基準パターンを自動生成して適切な比較の手法で良否を判断できる量子誤差を考慮したマッチング処理方法を得る。 - 特許庁

In the first special pattern variation processing, when the second ongoing jackpot flag is set, the microcomputer for game control also resets the ongoing measurement flag for halting the measurement of the variation time.例文帳に追加

また、第１特別図柄変動処理において、遊技制御用マイクロコンピュータは、第２大当り実行中フラグがセットされていれば、変動時間の計測を中断させるために計測実行フラグをリセットする。 - 特許庁

When the power source is turned on, prescribed initialization processing is started and the prescribed display pattern is displayed in a display area of a predetermined size at a prescribed display start position on a TV display screen.例文帳に追加

電源をオンにすると、所定の初期化処理が開始されるとともに、ＴＶ表示画面の所定の表示開始位置の所定の大きさの表示領域に所定の表示パターンが表示される。 - 特許庁

A drawing processing part 33 performs the drawing by determining which image element of a new drawing object or an image drawn before is to be drawn on the basis of the acquired drawing pattern 23.例文帳に追加

描画処理部３３は、取得された描画パターン２３に基づいて新たな図形オブジェクトの各画素またはそれ以前に描画されていた画像のいずれかを描画するか否かを判定して描画を行う。 - 特許庁

To provide an operator monitoring device and an operator monitoring method in a POS terminal device, capable of picking up a pattern of a key operation concerned in doubtful sales processing by an operator of the POS terminal device, so as to issue an alarm.例文帳に追加

ＰＯＳ端末装置のオペレータによる疑わしい販売処理に係るキー操作のパターンを摘出して警告を発するＰＯＳ端末装置におけるオペレータ監視装置及び方法を提供する。 - 特許庁

When a direction for taking a single shot of an object is issued, a similar image retrieving unit, first of all, retrieves an image memory for similar image data whose image pattern is similar to that of image data formed by a signal processing circuit.例文帳に追加

単写撮影指示がなされると、類似画像検索部は、まず、信号処理回路によって生成された画像データに画像パターンが類似する類似画像データを画像メモリから検索する。 - 特許庁

The method of manufacturing the structure having the uneven pattern includes a coating step of coating to a processing object a liquid (a) containing first particles and a matrix material composed of a material different from the first particles; a removal step of removing the first particles; and an etching step of forming the uneven pattern by etching a processing object with the matrix material as an etching mask.例文帳に追加

本発明の凹凸パターンを有する構造体の製造方法は、第一の粒子と、前記第一の粒子と異なる材料からなるマトリクス材とを含む液体（ａ）を被加工体上に塗布する塗布工程と、前記第一の粒子を除去する除去工程と、前記マトリクス材をエッチングマスクとして前記被加工体をエッチングして凹凸パターンを形成するエッチング工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

This method is provided with an operation registering stage for successively registering pattern data forming operation, a schedule stage S13 for setting operation order by adjusting the schedule of plural kinds of pattern data forming operation registered in the operation registering stage, an operation order registering stage S14 for registering the operation order according to the schedule, and a data processing stage S15 for performing data processing according to the operation order.例文帳に追加

パターンデータ作成作業を順次登録する作業登録工程と、この作業登録工程で登録された複数のパターンデータ作成作業のスケジュールを調整して作業順序を設定するスケジュール工程Ｓ１３と、スケジュールにしたがって作業順序を登録する作業順序登録工程Ｓ１４と、作業順序にしたがってデータ処理を行うデータ処理工程Ｓ１５とを設ける。 - 特許庁

As the electronic pen 1 is used by a user to write characters, draw figures and specify a destination on a form, a small camera reads a special dot pattern on the form, and an image processing processor finds nib position information from the dot pattern, generates handwriting information from a series of position information and stores it in a built-in memory.例文帳に追加

電子ペン１は、利用者が帳票に文字や絵図を書き、送信先を指定するために使用されるのに伴って、小型カメラが帳票上の特殊なドットパターンを読み取り、画像処理プロセッサがそのドットパターンからペン先の位置情報を割り出し、一連の位置情報から筆跡情報を生成し、内蔵メモリに記憶する。 - 特許庁

A minimum run continuation limit object processing part 53 detects an object pattern in which continuation of the minimum run is to be limited and outputs a corresponding detection flag, while detecting the prescribed pattern at a position being not a head, and outputting a corresponding expectation flag.例文帳に追加

最小ラン連続制限対象処理部53は、変換パターン決定部52により変換された符号列から、最小ランの連続を制限すべき対象のパターンを検出し、対応する検出フラグを出力すると共に、先頭ではない位置において所定のパターン列を検出し、対応する予想フラグを出力する。 - 特許庁

The PC1 for displaying ranking and the PC 2 for summing up scores include selection menu processing means A which successively update the ranking by inputting the results of the players and display the ranking by replacement by setting a form pattern, an animation pattern, effective sound, time for a timer, time after waiting termination, time for horizontal movement waiting, and time for vertical movement waiting, respectively.例文帳に追加

順位表示用パソコン１、スコア集計用パソコン２には、フォームパターン・アニメパターン・効果音・タイマー時間・ウエイト終了後時間・横移動ウエイト時間・縦移動ウエイト時間それぞれを設定することで、プレイヤーの成績の入力によって順位を逐次更新し、入れ替えて表示させる選択メニュー処理手段Ａを有する。 - 特許庁

A mask pattern 11a obtained by performing a photo-processing of a resist film is formed on a substrate 1, and then, a metal mask 20 having an opening part 22 formed slightly larger than a deposition area on the substrate is arranged on the mask pattern, then, for example, optical interference filters 2 and 2a are formed by introducing a vapor-deposition method and a sputtering method, etc.例文帳に追加

基板１上に、たとえばレジスト膜のフォトプロセスによって形成されたマスクパターン１１ａを形成し、その上に基板上の成膜領域よりも僅かに大きく形成された開口部２２を有するメタルマスク２０を配置して、たとえば蒸着法やスパッタリング法などによって光干渉フィルタ２、２ａを形成する。 - 特許庁

Pseudo half-tone gradations are given corresponding to the decimal place data generated by processing a signal of n-bits as a result of a time-spatial integration of the lighted dot pattern by changing over the turned-on dot pattern of a different turned-on dot density at a display unit cycle.例文帳に追加

ｎビットの信号を処理することによりに発生する小数点以下のデータに対応して、点灯ドット密度の異なる点灯ドットパターンを表示単位周期で切り換えることにより、上記点灯ドットパターンの時空間的な積分結果として、上記小数点以下のデータに対応する擬似的な中間階調を与える。 - 特許庁

To provide a material with high etching selection rate and etching speed against resist, a pattern formation method providing an antireflection film layer on a base plate using the material and a pattern formation method using the antireflection film as a hard mask on the base plate processing.例文帳に追加

レジストに対してエッチング選択比が高い、即ちレジストに対してエッチングスピードが速い反射防止膜の材料を提供し、且つこの反射防止膜材料を用いて基板上に反射防止膜層を形成するパターン形成方法及び、この反射防止膜を基盤加工のハードマスクとして用いるパターン形成方法も提供する。 - 特許庁

This air conditioning control device 30 controlling air conditioners 10a-10i disposed in the air conditioning target space RM, and eliminating the uneven air conditioning in the air conditioning target space, includes a wind direction pattern storing area 35c, a first operation processing section 36c, and a wind direction pattern determining section 36f.例文帳に追加

本発明に係る空調制御装置３０は、空調対象空間ＲＭに設置された空調機１０ａ−１０ｉを制御し、空調対象空間における空調ムラを解消させる空調制御装置であって、風向パターン記憶領域３５ｃと、第１運転処理部３６ｃと、風向パターン決定部３６ｆとを備える。 - 特許庁

To provide an electroconductive ink, being a low temperature processing type electroconductive ink, capable of forming an extremely fine electroconductive pattern by screen printing, moreover requiring no specialized production process, and excellent in resistance value stability; to provide a laminate with the electroconductive pattern using the electroconductive ink; and to provide a method for producing the laminate.例文帳に追加

低温処理型の導電性インキであって、かつ、スクリーン印刷によって高精細な導電性パターンを形成することが可能であり、さらに、特殊な製造工程を必須とせず、かつ、抵抗値安定性に優れた導電性インキ、及びそれを用いた導電パターン付き積層体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having an enhanced etching resistance and an excellent resolution and providing an excellent pattern profile on a substrate boundary face, in photolithography for fine processing, and particularly in lithography adopting, as an exposure source, KrF laser, extreme ultraviolet rays, electron beam, X-rays, or the like, and to provide a pattern forming method utilizing the positive resist composition.例文帳に追加

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、エッチング耐性及び解像性に優れ、基板界面において良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

In accordance with the information of a moving state between first image data and second image data which are acquired by an acquisition means (encoder or the like) acquiring the information of a moving state of an object indirectly or by estimation, the size of the template pattern in a moving direction is variably set to perform pattern matching processing.例文帳に追加

物体の移動状態の情報を間接的又は推定によって取得する取得手段（エンコーダ等）で取得された第１画像データと第２画像データとの間での移動状態の情報に応じて、移動方向におけるテンプレートパターンのサイズを可変に設定して、パターンマッチング処理を行なう。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a fine etching mask which can equalize and thin the residue thickness of a pattern transfer layer after transformation in a transfer layer, and having an equalized thickness after an etching process, in a method of manufacturing a fine etching mask by pattern transfer to a processed material, and to provide an exposure processing apparatus.例文帳に追加

被加工材上へのパターン転写による微細エッチングマスクの製造方法において、転写後のパターン転写層の残渣厚みを転写層内で均一且つ薄膜にすることができ、しかもエッチング処理後の厚さが均一な微細エッチングマスクの製造方法及びそれに用いる露光処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of improving the performance in minute processing of a semiconductor element using an electron beam, an X ray, a KrF excimer laser beam, or an ArF excimer laser beam, excellent in terms of sensitivity, resolution, focal margin (DOF) performance, LWR, reduction of blur, and reduction of pattern surface roughness; and to provide a pattern-forming method using the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上であり、感度、解像力、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）性能、ＬＷＲ、裾引き低減、パターン表面荒れの低減に優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

In an up transmission processing circuit 170, a signal pattern detection circuit 175 is connected between a receiving circuit 172 and a driving circuit 173 and whether a signal reproduced by the receiving circuit 172 is a normal signal transmitted from an ONU 140 or not is determined by using the signal pattern detection circuit 175.例文帳に追加

上り伝送処理回路１７０では、受信回路１７２と駆動回路１７３との間に信号パターン検出回路１７５が設けられており、これを用いて受信回路１７２で再生処理された信号がＯＮＵ１４０から伝送された正常な信号か否かを判定させるようにしている。 - 特許庁

In the positioning E of a symbol in a fluctuation pattern, a position correcting pattern for rotationally moving a symbol displaying body at a required positioning speed is selected and set, and a moving amount corresponding to the deviation amount of a display symbol before a positioning processing and a final stop symbol after a symbol fluctuation is stopped is obtained in a fixed time.例文帳に追加

変動パターンにおける図柄の位置合わせＥでは、図柄表示体を所要の位置合わせ速度で回転移動させる位置補正パターンを選択設定して、位置合わせ処理前の表示図柄と図柄変動停止後の最終停止図柄とのずれ量分に対応する移動量が、一定時間で得られるようにする。 - 特許庁

An order management server 300 receives information about clients and body scanning results input from a measurement and order processing device 200, and requests a pattern generator 330 to generate pattern information necessary to manufacture gloves and a leather processor 400 to manufacture the corresponding glove.例文帳に追加

注文管理サーバ３００は、計測注文処理装置２００から顧客情報と人体をスキャンした結果を入力し、パターン生成装置３３０で手袋を製作するためのパターン情報を生成し、これに対応して皮革加工装置４００に手袋を製作するように要請することを特徴とする。 - 特許庁

At the time of transferring a plotting instruction from a GUI instruction relay library 104 to a GUI instruction processing module 106, an instruction pattern analyzing and registering part 110 refers to an instruction pattern managing part 111, and when the instruction group is already registered, an object 109 for communication transfers only the identifier.例文帳に追加

ＧＵＩ命令中継ライブラリ１０４からＧＵＩ命令処理モジュール１０６への描画命令転送の際、命令パターン解析・登録部１１０が命令パターン管理部１１１を参照し、当該命令群が登録済みの場合には通信用オブジェクト１０９がその識別子のみを転送する。 - 特許庁

After color processing is executed in the whole ED bit map (S110), only a specified part is extracted based on the pattern plane for an image, corresponding to the ED bit map (S113), and the color is processed only in the specified part based on the corresponding pattern plane regarding the multilevel bit map which is not to be ED-processed (S117).例文帳に追加

そして、ＥＤ用ビットマップの全体に対して色処理を施した後(S110)、該ＥＤ用ビットマップに対応するイメージ用のパターンプレーンに基づいて特定部分のみを抽出し(S113)、ＥＤ対象外の多値ビットマップについては、対応するパターンプレーンに基づく特定部分のみに対して色処理を施す(S117)。 - 特許庁

If packets 300 (300A, 300B) are received from terminal devices 10, 20, the router 200 performs arithmetic processing using a bit mask selected from a mask pattern table 233 stored in the router 200 and a payload bit streams of the packets 300 with a pattern number of a bit mask contained in headers of the packets 300 as a key.例文帳に追加

ルータ２００は、端末装置１０,２０からパケット３００（３００Ａ,Ｂ）を受信すると、このパケット３００のヘッダに含まれるビットマスクのパターン番号をキーとして、ルータ２００に格納されるマスクパターンテーブル２３３から選択したビットマスクと、パケット３００のペイロードのビット列とを用いて演算処理を行う。 - 特許庁

A CCD sensor 2 reads out an image of a medium as a genuine bill by utilizing the transmitted light, and a watermark area extracting process unit 9 extracts a pattern of a watermark area from the image data, and a NN processing unit 10 eliminates the influence of the non-linear fade of the extracted pattern data, and a genuineness discrimination unit 12 discriminates the genuineness.例文帳に追加

真券である媒体の画像を透過光を利用してＣＣＤセンサ２で読み取り、その画像データから透かし領域のパターンを透かし領域抽出処理部９で抽出し、その抽出したパターンデータの非線的なぼけの影響をＮＮ処理部１０で取り除きた後、真偽鑑別部１２で真偽鑑別を行う。 - 特許庁

A difference calculator 63 reads out data temporary stored in a data storage register 50 at every processing unit to be one group on the basis of each of a plurality of items of pattern information stored in an LUT 61 and calculates the difference between the data read out at the last time to specify the pattern information frequently making the same differences continuous.例文帳に追加

差分計算部６３は、データ保持レジスタ５０に一時記憶されたデータを、１まとまりとなる処理単位毎に、ＬＵＴ６１に保持される複数のパターン情報のそれぞれに基づいて読み出し、直前に読み出したデータとの差分を算出して、同じ差分が連続する場合が多いパターン情報を特定する。 - 特許庁

The method of manufacturing the electronic apparatus in which a resist pattern 24 is provided on a first transistor 1 comprising a thin film transistor Tr, includes the steps: of applying and forming a resist film 22 on the first substrate while covering the thin film transistor Tr; and of forming the resist pattern 24 by performing exposing and developing processing upon the resist film 22.例文帳に追加

薄膜トランジスタＴｒが設けられた第１基板１上にレジストパターン２４が設けられた電子機器の製造方法であり、薄膜トランジスタＴｒを覆う状態で第１基板上にレジスト膜２２を塗布成膜し、このレジスト膜２２に対して露光および現像処理を行うことによりレジストパターン２４を形成する。 - 特許庁

This woody floor material is formed by performing finishing painting on a surface of the provided grain pattern by ultraviolet-curing transparent paint, by forming a transfer printing layer 5 by performing transfer printing of the grain pattern on this hiding layer 4 by the plate roller, by forming the hiding layer 4 by all-over painting, by performing backing processing on a surface of the decorative plywood.例文帳に追加

化粧合板の表面を下地処理し、さらにベタ塗りにより隠蔽層４を形成し、この隠蔽層４の上に木目柄を版ロールにより転写印刷して転写印刷層５を形成し、得られた木目柄の表面を紫外線硬化型透明塗料により仕上げ塗装をしてなる木質系床材。 - 特許庁

When a prescribed pattern is not reproduced by the reproduction (N in step S5), since write software discriminates that the optical disk is a copied optical disk wherein dummy data are recorded in place of the prescribed pattern, a series of processes are terminated and processing on the basis of the program recorded on the optical disk is not conducted.例文帳に追加

この再生により所定のパターンが再生されなかったときは（ステップＳ５のＮ）、書込みソフトにより所定のパターンに代えてダミーのデータが記録されたコピーの光ディスクであることが判明するから、一連の処理を終了し、光ディスクに記録されているプログラムに基づく処理を行なわない。 - 特許庁

The the humidity near a photosensitive drum is measured before the execution of a concentration adjusting process and (i) if the humidity is below a permissible value, a first toner pattern for concentration adjustment is formed on the surface of the photosensitive drum and the developing bias voltage at the time of image formation processing is set based on the toner concentration of the toner pattern.例文帳に追加

濃度調整工程を実行する前に感光ドラム近傍の湿度を測定して、（ｉ） 当該湿度が許容値以下である場合には、感光ドラムの表面に第１の濃度調整用トナーパターンを形成して、当該トナーパターンのトナー濃度に基づいて画像形成処理時の現像バイアス電圧を設定する。 - 特許庁

A scanner 100 transmits prescribed pattern data to a printer 200, the printer 200 transmits data with respect to image quality of an output image relating to the pattern data to the scanner 100, which automatically adjusts an image processing parameter to correct the output image based on the data from the printer 200.例文帳に追加

スキャナ１００側から所定のパターンデータをプリンタ２００に送信し、そのパターンデータに対する出力画像の画質に関するデータをプリンタ２００側からスキャナ１００に送信し、スキャナ１００側で出力画像を補正するための画像処理パラメータをプリンタ２００から送信されたデータに基づいて自動調整する。 - 特許庁

A processing part 13 checks whether a question and answer pattern which is included in the inquiry from the user is stored in the question and answer data base 11 and when it is stored, extracts the risk information corresponding to the question and answer pattern from the chemical material risk information data base 12 and transmits it to the terminal 2 of the user.例文帳に追加

処理部１３はユーザからの問い合わせに含まれる質問回答パターンが質問回答データベース１１に格納されているかどうか調べ、格納されていれば化学物質リスク情報データベース１２から当該質問回答パターンに対応するリスク情報を抽出し、ユーザの端末２に送信する。 - 特許庁