「processing pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a grid polarizer manufacturing method with which a large-sized grid polarizer having the grid shaped pattern of submicron order can be economically manufactured by precise fine processing and vapor deposition.例文帳に追加

サブミクロンオーダーの格子形状を有するグリッド偏光子を、精密微細加工及び蒸着により大面積で経済的に製造することができるグリッド偏光子の製造方法を提供する。 - 特許庁

A control unit 3 performs detection of pedestrian by performing pattern matching processing to images taken by a pair of infrared cameras 4 using a plurality of preliminarily prepared model images.例文帳に追加

制御ユニット３は、一対の遠赤外線カメラ４で撮影した画像に対し、予め用意しておいた複数のモデル画像を用いてパターンマッチング処理することにより歩行者の検出を行う。 - 特許庁

Since a common sub routine is called for a pattern control command, a sound control command, a lamp control command and a payout control command, the output processing of the command to be sent out is also made to be in common.例文帳に追加

図柄制御コマンド、音声制御コマンド、ランプ制御コマンドおよび払出制御コマンドについて、共通のサブルーチンをコールするので、送出されるべきコマンド出力処理も共通化することができる。 - 特許庁

To provide a resist composition which can prevent production of a defect in a substrate even when the resist film is made thinner in forming a fine pattern of a semiconductor substrate or the like and by which high accuracy processing of a substrate is performed.例文帳に追加

半導体基板等の微細パタン形成において、レジスト膜の薄膜化を一層進めても、基板の欠陥形成を防止でき、高精度に基板加工できるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Each of writing processing sections 36, 38 and 40 reads the corrected format pattern signal of the memory based on the synchronous signal of one rotation of the disk and the format frequency clock signal, and writes it on the disk medium.例文帳に追加

書込処理部（３６，３８，４０）はメモリの補正されたフォーマットパターン信号を、ディスクの１回転の同期信号とフォーマット周波数クロック信号に基づいて読出してディスク媒体面に書き込む。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of continuously processing a lenticular lens sheet in a roll shape with good productivity at a low cost, and also, whose operation rate is extremely high, in forming a stripe light shielding pattern on the lenticular lens sheet.例文帳に追加

レンチキュラーレンズシートのストライプ状遮光パターンの形成において、レンチキュラーレンズシートをロール状で連続して低コストで生産性よく処理し、しかも稼働率の非常に高い露光装置を提供する。 - 特許庁

To easily adjust an exposure amount for each area finely set within a substrate surface, improve uniformity of a resist residual film after a development processing and suppress fluctuation in a line width and a pitch of a wiring pattern.例文帳に追加

基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を容易に調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive polyimide resin composition which enables processing of a fine pattern, which forms a film whose coefficient of linear expansion is close to that of a substrate, and which does not require imidization at high temperature.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、ネガ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

By processing in such a way, the rotation of a speed detection roller is made stable, the color slurring detection pattern is formed in a stable state, and the color slurring in a subscanning direction is reduced.例文帳に追加

このように処理することにより、速度検出ローラの回転を安定させ、安定した状態で色ずれ検出パターンを形成することができ、副走査方向の色ずれを低減することができる。 - 特許庁

To provide a method and structure for protecting a semiconductor element which is formed on a substrate from static electricity, relating to an aligner for exposing an insulating substrate with a pattern, and to provide its method and substrate processing equipment.例文帳に追加

絶縁基板にパターンを露光する露光装置およびその方法ならびに基板処理装置において、基板に形成される半導体素子を静電気から保護する方向および構造を提供する。 - 特許庁

PRESS PLATE IMAGE FORMING DEVICE, SCREEN GAIN QUANTITY CORRECTION DATA RELATING DEVICE, RELATING PATTERN DESIGNATING DEVICE, GAIN QUANTITY CORRECTION PROCESSING DEVICE, PRESS PLATE FORMING DEVICE, PRINT SYSTEM, PRESS PLATE IMAGE FORMING METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加

刷版画像作成装置、網ゲイン分補正データ関連付け装置、関連付けパターン指定装置、ゲイン分補正処理装置、刷版作成システム、印刷システム、刷版画像作成方法、およびプログラム - 特許庁

To enable a sub-CPU (central processing unit) of a pattern control circuit board to receive accurate command information by reducing the frequency of transmission of commands by a main CPU of a main control circuit board and reducing the effect of noise.例文帳に追加

主制御基板のメインＣＰＵによるコマンド送信回数を減らし、ノイズの影響を少なくして、図柄制御基板のサブＣＰＵが正確なコマンド情報を受信できるように構成する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for epoch-makingly processing a cloth, with which a dark and light pattern with a hand of friction mark and a cleaning and bleaching feeling is readily formed in excellent reproduction on a cloth.例文帳に追加

生地にスレや洗い晒し感を伴う風合いのある濃淡の柄模様を容易且つ再現性良く形成することが可能な画期的な生地の加工方法並びに生地の加工装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing method that decreases pattern difference and that performs uniform processings, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device using the same, in a multilayered film containing a number of films having different gas permeabilities.例文帳に追加

ガス透過性が異なる膜を含む多層膜において、パターン差を低減し均一な加工を行うプラズマ処理方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus and a method for using image data obtained by an image scanner or the like for reading an image including a narrow periodic pattern such as hatching and capable of suppressing the generation of moire in the case of displaying or printing the image data.例文帳に追加

画像中にハッチング等の細かい周期的パターンを有するものをイメージスキャナ等で読み込んで得られる画像データを用い、表示や印刷をする際に、モワレを生じるのを抑制する。 - 特許庁

To provide a thin film single magnetic pole head for perpendicular magnetic recording having a structure wherein format efficiency is high, servo is easy, a recording pattern on a medium is hardly influenced, and processing time is shortened.例文帳に追加

フォーマット効率が高く、サーボが容易で、媒体上の記録パターンが影響を受けにくく、プロセス時間短縮可能な構造を持つ垂直磁気記録用薄膜単磁極ヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for the development of a substrate wherein it is possible to prevent very fine deposits from remaining on the substrate after a processing operation, especially on an open frame for the substrate or on a pattern formation region.例文帳に追加

現像処理後の基板、特に基板のオープンフレームやパターン形成領域に微小な付着物が残留するのを防止できる基板現像装置および基板現像方法を提供する。 - 特許庁

An IM buffer 40a, an FE buffer 40b, a DB buffer 40c and a PM buffer 40d have their sizes adjusted, according to the processing contents of a corresponding resolution converting part 22, feature-extracting part 24 and a pattern-matching part 26 and are constituted on a memory 40.例文帳に追加

IMバッファ40a、FEバッファ40b、DBバッファ40c、及びPMバッファ40dは、対応する解像度変換部22、特徴抽出部24及びパターンマッチング部26の処理内容に応じてサイズが調整され、メモリ40上に構成される。 - 特許庁

Each of the scrambling processing units 114-1 to 114-4 inverts a half the subcarrier codes corresponding to the end symbol or the top symbol of each stream according to the instruction of the scrambling pattern instruction unit 112.例文帳に追加

スクランブリング処理部１１４−１〜１１４−４は、スクランブリングパターン指示部１１２の指示に従って、各ストリームの末尾シンボルまたは先頭シンボルに対応する半数のサブキャリアの符号を反転する。 - 特許庁

In display processing, the master sprite is set in character buffers 6a and 6b on the basis of the attribute data of the attribute table 5, and the slave sprites read from a pattern memory 1 are arranged in the master sprite.例文帳に追加

表示処理においては、属性テーブル５の属性データに基づいて親スプライトがキャラクタバッファ６ａ、６ｂに設定され、この親スプライト内に、パターンメモリ１から読み出された子スプライトが配置される。 - 特許庁

When a specific variable pattern is selected, each symbol in symbol display regions 6a-6c is made to be a variable state from a stopped state, and prescribed processing is executed in background images BG (a-c).例文帳に追加

特定の変動パターンが選択されたとき、図柄表示領域６ａ〜６ｃの各図柄を停止している状態から変動状態にさせると共に、背景の画像ＢＧに所定の処理を行う（ａ〜ｃ）。 - 特許庁

To obtain an ink jet printer which can form a good image without requiring any intricate interpolation processing, e.g. alteration of mask pattern or the number of pass, even when a nonejection nozzle is detected.例文帳に追加

インクジェットプリンタにおいて、不吐出ノズルが検出された場合にも、マスクパターンの変更やパス数の変更といった複雑な補間処理を介さずに良好な画像を形成することができるようにする。 - 特許庁

To sufficiently decrease the probability of causing a pathological pattern in scrambling an HD-SDI signal in the process of signal processing for multiplexing the HD-SDI signal for a plurality of channels for serial transmission.例文帳に追加

ＨＤ−ＳＤＩ信号を複数チャンネル分多重して高速にシリアル伝送するための信号処理の過程でスクランブルを掛ける場合に、パソロジカルパターンの発生の確率を十分に下げる。 - 特許庁

The pattern control device 73 controls only the performance contents and is less restricted in the increase in the processing capacity to easily respond to the complication of the performance contents.例文帳に追加

この図柄制御装置７３は演出内容を制御するだけのものであり、処理容量の増大に対する制約が少ないので、演出内容の複雑化に容易に対応することができる。 - 特許庁

A central processing unit 17 determines a pattern of medium supply for each output set and achieves a desired appearance characteristic with respect to the print job related to the output set or the output target.例文帳に追加

中央処理ユニット１７は各出力セットのための媒体供給のパターンを特定し、出力セットまたは出力先に関連付けられた印刷ジョブに対する所望の外観特徴を達成する。 - 特許庁

Then the processing of forming a solder bump 40 is performed by conveying the underboard 10 on which the IC chip 50 is mounted to a solder reflow furnace or the like and heating and melting solder 30A of the solder pattern 30.例文帳に追加

次に、ＩＣチップ５０を装着した半田転写用アンダーボード１０を半田リフロー炉等に搬送し、半田パターン３０の半田３０Ａを加熱溶融して半田バンプ４０を形成する処理を行う。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive pattern with high conductivity which uses an etching liquid with less environmental load, the reduced number of steps and low-temperature processing that is applicable even for a plastic substrate.例文帳に追加

環境負荷の少ないエッチング液で、工程数が少なく、プラスチック基板に対しても適用可能な低温処理で、高伝導率の導電性パターンを形成することができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for error diffusion processing of a display, capable of reducing image interferences, such as periodical pattern noise, etc., appearing in performing the error diffusion processings even though the luminance of a panel is advanced.例文帳に追加

パネルの高輝度化が進んでも誤差拡散処理を行った際に現れる周期的なパターンノイズ等の画質妨害を低減することができる表示装置の誤差拡散処理方法を提供する。 - 特許庁

Since the pattern can be magnified to a desired size and displayed with less key operation, it is not required to repeat expansion processing many times and an editing performance can be improved.例文帳に追加

このような構成では、少ないキー操作で模様を所望の大きさに拡大して表示できるので、拡大処理を何回も繰り返して行なう必要がなく、編集能率を向上させることができる。 - 特許庁

Subsequently, the second reference light is applied to the optical information recording medium to reproduce the data pattern, and 2-dimensional EQ processing is carried out by using the tap coefficient stored as a learning value (S4 and S5).例文帳に追加

続いて、第２の参照光を光情報記録媒体に照射してデータパターンを再生し、学習値として記憶しておいたタップ係数を利用して２次元ＥＱ処理を行う（Ｓ４，Ｓ５）。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus, image forming apparatus, and image forming method, capable of detecting copy inhibit without previously holding a special pattern on the side of the device.例文帳に追加

本発明では、機器側に特別なパターンを予め保持させることなく、コピー禁止を検知することが可能な画像処理装置、画像形成装置、画像処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In this process, a control is made to forbid the execution of the processing of determining the performance for successive advance notices during the period from the reception of a varying pattern command and the reception of the reservation memory counts subtraction designation command.例文帳に追加

ただし、変動パターンコマンドを受信してから保留記憶数減算指定コマンドを受信するまでの期間、連続予告演出の決定処理の実行を禁止するように制御する。 - 特許庁

To provide a game machine configured to execute an advance notice performance, which increases expectations of a player for a jackpot without complicating variation pattern determination processing.例文帳に追加

先読み予告演出を実行可能に構成した遊技機において、変動パターンの決定処理を複雑化させることなく、遊技者の大当りに対する期待感を高めることができるようにする。 - 特許庁

In the present invention, the deviation of the tracking objective area with respect to the moving object in the next frame is detected and corrected with pattern matching using tracking objective area of the frame prior to the processing objective frame.例文帳に追加

本発明は、処理対象フレームより過去のフレームの追跡対象領域を用いたパターンマッチングにより、次フレームにおける追跡対象領域の移動体に対するずれ検出して修正する。 - 特許庁

The LSI chip is specified in vertical and horizontal positions according to the surface pattern of the LSI chip, and then the grinding trace on the backside of the LSI chip is fetched as an image data by an image fetching device for image processing.例文帳に追加

ＬＳＩチップの表面パターン情報からＬＳＩチップの上下左右を特定した後、ＬＳＩチップの裏面の研削痕を画像取り込み装置に画像データとして取り込み、画像処理を行う。 - 特許庁

A pull-in processing part 80 performs servo pull-in based on the second servo pattern written at the small intervals in the landing area when a head 38 is moved into the landing area on the medium from a ramp.例文帳に追加

引込み処理部８０は、ヘッド３８をランプから媒体上のランディング領域に移動した際に、ランディング領域に細かい間隔で書込まれている第２サーボパターンに基づいてサーボ引込みを行う。 - 特許庁

The document processing apparatus 10 includes: a document receiver 11 for receiving the document; and an adder 12 for adding a cycle pattern, which is damaged in cycle property in the case of a reproduction, to the received document.例文帳に追加

文書処理装置１０は、文書を受け付ける文書受付部１１と、上記受け付けられた文書に、複写されると周期性が損なわれる周期パターンを付加する付加部１２と、を有する。 - 特許庁

To provide a strain measuring device and a strain measuring method capable of improving the measuring accuracy and reducing an information processing amount while taking account of deformation of a prescribed feature pattern.例文帳に追加

本発明は、所定の特徴パターンの変形を考慮しつつ測定精度の向上と情報処理量の低減とを図ることができるひずみ測定装置およびひずみ測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a game machine capable of diversifying pattern arrays to be stopped in a range visible from a display window while suppressing the increase of processing loads when deciding a stop information group.例文帳に追加

停止情報群決定時における処理負荷が増大化することを抑制させつつ、表示窓から視認可能な範囲に停止する絵柄配列を多様化させることが可能な遊技機を提供する。 - 特許庁

To provide a positive-type photosensitive polyimide composition which enables processing of a fine pattern, can form a coating film having excellent heat resistance and a linear expansion coefficient proximal to that of a substrate, and does not need imidization at a high temperature.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、ポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

When the timing of executing processing for making the image density appropriate is obtained (S11: YES), the reference output of the density detection sensor is calibrated (S12), and a toner pattern formed on the intermediate transfer belt is detected by the density detection sensor (S15).例文帳に追加

画像濃度適正化処理の実行のタイミングになると（S11：YES）、濃度検出センサの基準出力を校正し（S12）、中間転写ベルト上に形成されたトナーパターンを濃度検出センサで検出する（S15）。 - 特許庁

To increase a marking speed and an editing processing speed and to efficiently reduce marking data, by performing the most suitable data compression of marking data defining a pattern (especially, a curve part) by many segments.例文帳に追加

パターン（特に曲線部分）を多数の線分で定義するマーキングデータについて最適なデータ圧縮を行ってマーキング速度や編集処理速度の向上およびマーキングデータの効率的削減等をはかる。 - 特許庁

The second dielectric film 14 is in contact with the upper electrode 15 and the first dielectric film 13, and covers the processing edge face 12a of the conductor pattern constituting the lower electrode 12.例文帳に追加

また、第２の誘電膜１４は、上部電極１５および第１の誘電膜１３に接するとともに、下部電極１２を構成する導電体パターンの加工端面１２ａを被覆している。 - 特許庁

To provide a resin for a radiation-sensitive material having excellent transparency and high sensitivity to far ultraviolet rays, further having good adhesion to a substrate, and etching resistance, and enabling fine pattern processing.例文帳に追加

遠紫外線に対して優れた透明性と高感度を有し、基板との密着性が良く、エッチング耐性を持ち、微細パターン加工可能な放射線感光材料用の樹脂を提供すること。 - 特許庁

To provide a device and a method for data conversion which converts image data to data for luminous intensity simulation by fetching an optically observed image of a photomask pattern into a computer and performing image processing.例文帳に追加

フォトマスクパターンの光学的観察像をコンピュータに取り込み、画像処理を施すことによって、光強度シミュレーションのためのデータに変換する、データ変換装置及びデータ変換方法を提供すること。 - 特許庁