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processing patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3997



例文

Like a pattern 2, when the shutter release button is pressed down with timing T12 before completion of the automatic adjustment processing or like a pattern 3, when it is pressed down without being half-depressed with the timing T11, auto-bracket photographing for capturing a plurality of picked up images which have successively adapted different image pickup conditions is executed.例文帳に追加

また、パターン2のように、自動調整処理の完了前のタイミングT12でシャッタレリーズボタンが全押しされた場合や、パターン3のように、タイミングT11において半押しを経ずに全押しされた場合には、異なる撮像条件を順次適用した複数の撮像画像を連続的に取り込むオートブラケット撮影が実行される。 - 特許庁

The reflectors 14a, 14b are irradiated with laser light from a laser light outputting device 11 through a light transmission/reception device 12, and a signal processing device 16 determines the torque at each rotation angle of the rotator 13 based on the reflection pattern of reflected light relative to each digit pattern from the reflectors 14a, 14b.例文帳に追加

そして、レーザ光出力装置11からのレーザ光を光送受信装置12を介して反射体14a、14bに照射し、反射体14a、14bからのディジットパターンごとの反射光の反射パターンに基づいて、信号処理装置16は回転体13の回転角ごとのトルクを求める。 - 特許庁

The image processing inspection part 50 composes a composite image by synthesizing an image of dicing line, which divides a circuit pattern at the surface of the wafer, into an image of rear surface of the wafer imaged by the rear surface imaging device 130 and detects the position of the defect based on the composite image with corresponding to the position of each circuit pattern.例文帳に追加

画像処理検査部50は、ウエハの表面において回路のパターンを分割するダイシングラインの画像を裏面撮像装置130により撮像されたウエハ裏面画像に合成して合成画像を生成し、この合成画像に基づいて欠陥の位置を各回路パターン位置と対応させて検出する。 - 特許庁

The fixed mold 2 of a mold 1 for molding, for example, the light guide plate of a liquid crystal display is constituted by fixedly attaching the stamper 6, which is formed into a thin plate shape with a thickness of 1 mm, for example, by electroforming processing and has a fine pattern wherein the fine pattern on the surface of a molded article is reversed, to a fixing stand 7.例文帳に追加

例えば液晶ディスプレイの導光板を成形するための金型1のうち固定型2を、電鋳加工により例えば1mmの薄板状をなし、その表面成型品の表面の微細パターンを反転した微細パターンが形成されたスタンパ6を、固定台7に固定的に取付けて構成する。 - 特許庁

例文

As the electronic pen 1 is used by a user to write characters, draw figures and specify a destination on a form, a small camera reads a special dot pattern on the form, and an image processing processor finds nib position information from the dot pattern, generates handwriting information from a series of position information and stores it in a built-in memory.例文帳に追加

電子ペン1は、利用者が帳票に文字や絵図を書き、送信先を指定するために使用されるのに伴って、小型カメラが帳票上の特殊なドットパターンを読み取り、画像処理プロセッサがそのドットパターンからペン先の位置情報を割り出し、一連の位置情報から筆跡情報を生成し、内蔵メモリに記憶する。 - 特許庁


例文

A minimum run continuation limit object processing part 53 detects an object pattern in which continuation of the minimum run is to be limited and outputs a corresponding detection flag, while detecting the prescribed pattern at a position being not a head, and outputting a corresponding expectation flag.例文帳に追加

最小ラン連続制限対象処理部53は、変換パターン決定部52により変換された符号列から、最小ランの連続を制限すべき対象のパターンを検出し、対応する検出フラグを出力すると共に、先頭ではない位置において所定のパターン列を検出し、対応する予想フラグを出力する。 - 特許庁

A mask pattern 11a obtained by performing a photo-processing of a resist film is formed on a substrate 1, and then, a metal mask 20 having an opening part 22 formed slightly larger than a deposition area on the substrate is arranged on the mask pattern, then, for example, optical interference filters 2 and 2a are formed by introducing a vapor-deposition method and a sputtering method, etc.例文帳に追加

基板1上に、たとえばレジスト膜のフォトプロセスによって形成されたマスクパターン11aを形成し、その上に基板上の成膜領域よりも僅かに大きく形成された開口部22を有するメタルマスク20を配置して、たとえば蒸着法やスパッタリング法などによって光干渉フィルタ2、2aを形成する。 - 特許庁

An order management server 300 receives information about clients and body scanning results input from a measurement and order processing device 200, and requests a pattern generator 330 to generate pattern information necessary to manufacture gloves and a leather processor 400 to manufacture the corresponding glove.例文帳に追加

注文管理サーバ300は、計測注文処理装置200から顧客情報と人体をスキャンした結果を入力し、パターン生成装置330で手袋を製作するためのパターン情報を生成し、これに対応して皮革加工装置400に手袋を製作するように要請することを特徴とする。 - 特許庁

At the time of transferring a plotting instruction from a GUI instruction relay library 104 to a GUI instruction processing module 106, an instruction pattern analyzing and registering part 110 refers to an instruction pattern managing part 111, and when the instruction group is already registered, an object 109 for communication transfers only the identifier.例文帳に追加

GUI命令中継ライブラリ104からGUI命令処理モジュール106への描画命令転送の際、命令パターン解析・登録部110が命令パターン管理部111を参照し、当該命令群が登録済みの場合には通信用オブジェクト109がその識別子のみを転送する。 - 特許庁

例文

After color processing is executed in the whole ED bit map (S110), only a specified part is extracted based on the pattern plane for an image, corresponding to the ED bit map (S113), and the color is processed only in the specified part based on the corresponding pattern plane regarding the multilevel bit map which is not to be ED-processed (S117).例文帳に追加

そして、ED用ビットマップの全体に対して色処理を施した後(S110)、該ED用ビットマップに対応するイメージ用のパターンプレーンに基づいて特定部分のみを抽出し(S113)、ED対象外の多値ビットマップについては、対応するパターンプレーンに基づく特定部分のみに対して色処理を施す(S117)。 - 特許庁

例文

If packets 300 (300A, 300B) are received from terminal devices 10, 20, the router 200 performs arithmetic processing using a bit mask selected from a mask pattern table 233 stored in the router 200 and a payload bit streams of the packets 300 with a pattern number of a bit mask contained in headers of the packets 300 as a key.例文帳に追加

ルータ200は、端末装置10,20からパケット300(300A,B)を受信すると、このパケット300のヘッダに含まれるビットマスクのパターン番号をキーとして、ルータ200に格納されるマスクパターンテーブル233から選択したビットマスクと、パケット300のペイロードのビット列とを用いて演算処理を行う。 - 特許庁

A CCD sensor 2 reads out an image of a medium as a genuine bill by utilizing the transmitted light, and a watermark area extracting process unit 9 extracts a pattern of a watermark area from the image data, and a NN processing unit 10 eliminates the influence of the non-linear fade of the extracted pattern data, and a genuineness discrimination unit 12 discriminates the genuineness.例文帳に追加

真券である媒体の画像を透過光を利用してCCDセンサ2で読み取り、その画像データから透かし領域のパターンを透かし領域抽出処理部9で抽出し、その抽出したパターンデータの非線的なぼけの影響をNN処理部10で取り除きた後、真偽鑑別部12で真偽鑑別を行う。 - 特許庁

A difference calculator 63 reads out data temporary stored in a data storage register 50 at every processing unit to be one group on the basis of each of a plurality of items of pattern information stored in an LUT 61 and calculates the difference between the data read out at the last time to specify the pattern information frequently making the same differences continuous.例文帳に追加

差分計算部63は、データ保持レジスタ50に一時記憶されたデータを、1まとまりとなる処理単位毎に、LUT61に保持される複数のパターン情報のそれぞれに基づいて読み出し、直前に読み出したデータとの差分を算出して、同じ差分が連続する場合が多いパターン情報を特定する。 - 特許庁

The method of manufacturing the electronic apparatus in which a resist pattern 24 is provided on a first transistor 1 comprising a thin film transistor Tr, includes the steps: of applying and forming a resist film 22 on the first substrate while covering the thin film transistor Tr; and of forming the resist pattern 24 by performing exposing and developing processing upon the resist film 22.例文帳に追加

薄膜トランジスタTrが設けられた第1基板1上にレジストパターン24が設けられた電子機器の製造方法であり、薄膜トランジスタTrを覆う状態で第1基板上にレジスト膜22を塗布成膜し、このレジスト膜22に対して露光および現像処理を行うことによりレジストパターン24を形成する。 - 特許庁

This woody floor material is formed by performing finishing painting on a surface of the provided grain pattern by ultraviolet-curing transparent paint, by forming a transfer printing layer 5 by performing transfer printing of the grain pattern on this hiding layer 4 by the plate roller, by forming the hiding layer 4 by all-over painting, by performing backing processing on a surface of the decorative plywood.例文帳に追加

化粧合板の表面を下地処理し、さらにベタ塗りにより隠蔽層4を形成し、この隠蔽層4の上に木目柄を版ロールにより転写印刷して転写印刷層5を形成し、得られた木目柄の表面を紫外線硬化型透明塗料により仕上げ塗装をしてなる木質系床材。 - 特許庁

An image processing unit 60 of an image forming apparatus 1 stores test image data 610 representing a test image including a monochromatic test pattern formed including regions N1 to N5 whose densities belong to a range of low density and a multicolor test pattern having regions N6 to N10 whose densities belong to a range of high density.例文帳に追加

画像形成装置1の画像処理部60は、濃度が低濃度域の範囲に属する領域N1〜N5を含んで形成される単色のテストパターンと、濃度が高濃度域の範囲に属する領域N6〜N10を有する多次色テストパターンとを含むテスト画像を表すテスト画像データ610を記憶する。 - 特許庁

When the determining part determines that there is the rhythm pattern data same as or similar to the time series signal input in the storage part, an execution request is supplied to the executing part so as to execute the processing contents associated with the pattern data determined to be the same or similar one.例文帳に追加

リズムパターン判定部が、リズムパターンデータ記憶部の中に、入力された時系列信号と同一又は類似するリズムパターンデータが有ると判定した場合、同一又は類似すると判定されたリズムパターンデータに対応付けられた処理内容を実行するように処理内容実行部へ実行要求が供給される。 - 特許庁

Since a response of 3.4 cycle/mm or 4.0 cycle/mm corresponding to the stripe pattern of a grid of 3.4 lines/mm or 4.0 lines/mm is reduced in processed picture data S2 obtained by filtering processing through the filter, an image reducing a stripe pattern due to the grid is obtained by reproducing the picture data S2.例文帳に追加

このようなフィルタによりフィルタリング処理されて得られる処理済み画像データS2は、3.4本/mmあるいは4.0本/mmのグリッドの縞模様に対応する3.4cycle/mmあるいは4.0cycle/mmのレスポンスが低減されるため、この画像データS2を再生すれば、グリッドに起因する縞模様が低減された画像を得ることができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electromagnetic wave shield film, in which a continuous metal pattern is formed on a belt-like base by using a photosensitive material having a photosensitive layer on the belt-like base, by performing exposure through a mask having a predetermined pattern while lowering power consumption, and by performing development processing; and to provide an electromagnetic wave shield film.例文帳に追加

帯状支持体の上に感光性層を有する感光材料を使用し、消費電力を低くし、所定のパターンを有するマスクを介して露光し、現像処理を経て、帯状支持体の上に連続した金属パターンを形成する電磁波遮蔽フィルムの製造方法及び電磁波遮蔽フィルムの提供。 - 特許庁

Then, a conductive film 14 is formed on the semiconductor substrate 1, on which the capacitance insulating film 12a is formed and by processing the conductive film 14, a second conductor pattern 14b arranged on an upper electrode 14a and the first conductor pattern 11b of the memory cell capacitor is formed.例文帳に追加

そして、当該容量絶縁膜12aが形成された半導体基板1上に導電膜14が形成され、導電膜14を加工することにより、メモリセルキャパタの上部電極14aおよび第1の導電体パターン11b上に配置された第2の導電体パターン14bが形成される。 - 特許庁

To obtain a process for producing a semiconductor product in which variation in the pattern dimensions incident to resist regeneration processing can be reduced, finishing dimensions of a transfer pattern can be brought close to target dimensions in a lithography process, and dimensional variation of semiconductor devices is suppressed between lots or within a lot in production.例文帳に追加

半導体製品の製造方法に関し、レジスト再生処理を経ることで生じるパターン寸法変動の低減を可能にし、リソグラフィ工程に於ける転写パターンの完成寸法を本来の目的寸法に近付け,また、ロット間或いはロット内に於ける半導体装置毎の寸法ばらつきを小さくする。 - 特許庁

To provide an image processor and an image processing method capable of reproducing an interference pattern caused by interference between a cyclic pattern of manuscript image information and a screen used for printing even when an image is printed in a printing method other than an electrophotographic method and an inkjet method.例文帳に追加

電子写真方式やインクジェット方式等の印刷以外の方式によって画像を形成する場合でも、原稿の画像情報が有する周期的なパターンと、印刷に使用されるスクリーンとが干渉することによって発生する干渉縞を再現することが可能な画像処理装置及び画像処理方法を提供する。 - 特許庁

Then, the reel stop control means is provided with a table switching processing for automatic stop capable of switching from stop control capable of arranging a winning pattern combination corresponding to the winning role internally won by the drawing means to specific control incapable of arranging the winning pattern combination at the time of automatically stopping the reels.例文帳に追加

そして、リール停止制御手段は、リールの自動停止の際に、抽選手段によって内部当選した入賞役に対応する入賞図柄組合せを揃えることが可能な停止制御から、入賞図柄組合せを揃えることが不可能な特定制御に切り替え可能な自動停止用テーブル切替処理を備えている。 - 特許庁

An optical encoder includes an illumination part, and at least a first scale track having a first scale track pattern extending along a measurement axis direction and is provided with a scale element receiving light from the illumination part and arranged to output a first periodic spatial modulation light pattern responsive to the first scale track pattern along a first light path and a signal processing apparatus with a first detection part and a part for selecting an effective signal.例文帳に追加

照明部と、測定軸方向に沿って延出する第1スケールトラックパターンを有する第1スケールトラックを少なくとも有し、前記照明部からの光を受光するとともに、前記第1スケールトラックパターンに対応する第1周期的空間変調光パターンを第1光路に沿って出力するように配置されるスケール要素と、第1検出部と有効信号選択部とを有する信号処理装置とを備える。 - 特許庁

The method includes: receiving multiple moments that represent an image of the evaluated pattern, wherein a size of information required for representing the multiple moments is substantially smaller than a size of pixel information that form the image of the evaluated pattern; and processing the multiple moments in order to determine at least one shape parameter of the evaluated pattern.例文帳に追加

本方法は、評価すべきパターンの画像を表す複数のモーメントを受け取ることを含み、上記複数のモーメントを表すのに必要とされる情報のサイズは、上記評価すべきパターンの画像を形成するピクセル情報のサイズより実質的に小さいものであり、更に、上記評価すべきパターンの少なくとも1つの形状パラメータを決定するため上記複数のモーメントを処理することを含む。 - 特許庁

When an address generated from the test pattern generating section 105 coincides with a defective address stored in the fail information storing section 108, a checker pattern is inputted to each memory after relieving processing without changing data from the test pattern generating section 105 by using a data scramble section 107 discriminating whether data inputted to a memory is reversed or not in accordance with a value of the least significant bit of a defective address.例文帳に追加

テストパターン生成部105から生成されるアドレスがフェイル情報格納部108に格納された不良アドレスと一致した場合に、不良アドレスの最下位ビットの値に応じてメモリへのデータ入力を反転させるかどうかを判定するデータスクランブル部107を用いることで、テストパターン生成部105からのデータを変更することなく、救済処理後の各々のメモリに対して、チェッカーパターンを入力する。 - 特許庁

A metal plate is subjected to emboss processing to express stacked block or stacked brick patterns, parallel grooved pattern M based on two kinds of oblique lines are engraved in a projected region 3, a parallel groove pattern M portion based on oblique lines depending on seeing direction and a parallel groove pattern M portion based on oblique lines in a reversed direction are varied in color and others thereby creating a color changing effect.例文帳に追加

金属板をエンボス加工してブロック積み調またはレンガ積み調の模様を表現し、ブロックまたはレンガが表現される凸部領域3に2種類の斜線を基本とする平行溝模様Mを刻設し、見る方向によって一方側の斜線を基本とする平行溝模様M部分と、逆向きの斜線を基本とする平行溝模様M部分の色調等を変化させ、色変わりするような効果を発揮させる。 - 特許庁

In the galvannealed steel sheet manufacturing method to perform alloy processing by heating a steel sheet galvanized in a galvanizing bath, the temperature pattern to perform alloy processing is determined based on the temperature integration value obtained by multiplying the heating or cooling temperature (T) in the alloy processing by the time (t), and adding the products.例文帳に追加

亜鉛メッキ浴にてメッキを施した鋼板を加熱して合金化処理を行う合金化溶融亜鉛メッキ鋼板の製造方法において、前記合金化処理における加熱・冷却中の温度(T)と時間(t)とを掛け合わせて積算した温度積分値に基づいて、前記合金化処理を行う温度パターンを決定することを特徴とする合金化溶融亜鉛メッキ鋼板の製造方法。 - 特許庁

The exclusive setting is: making brightness in reading by a scanner darker than that of general original reading to fix reading resolution to a predetermined value; image processing setting for emphasizing the code pattern by edge emphasis and color processing to exclude image information unnecessary for decoding; increasing a memory reservation amount in a system for job execution; and minimizing compression in primary storage of image data under processing.例文帳に追加

専用の設定とは、スキャナの読取時の明るさを一般原稿読取よりも暗くし、読取解像度を規定値に固定すること、エッジ強調、色処理により符号パターンを強調し復号に不要な画像情報を排する画像処理設定と、ジョブ実行用のシステム内のメモリ確保量を多くし、処理中の画像データ一次保存時の圧縮を最小限にすることである。 - 特許庁

An image input part 11 photographs an image including a marker, an image processing part 121 of an information processing part 12 extracts an image 1A of the marker from the input image, acquires object data, for example, 3D model data 100 by decoding from a pattern to data and calculates a position attitude of the input part 11, that is, an image processing device 10.例文帳に追加

画像入力部11によりマーカを含む画像を撮影し、情報処理部12の画像処理部121において、その入力画像よりマーカの画像1Aを抽出して、パターンからデータへの復号化を行うことでオブジェクトデータ例えば3Dモデルデータデータ100を得、また、画像入力部11つまりは当該画像処理装置10の位置姿勢を計算する。 - 特許庁

When a camera 10 picks up an image of a card 100 on a storage 30 and the image pickup data are inputted to a pattern recognition processing part 40, a preprocessing part 12 corrects brightness, a binarization processing part 14 binarizes the image pickup data, a boundary tracing processing part 16 subsequently extracts a boundary line and a vertex detecting part 18 detects a vertex.例文帳に追加

カメラ10によってステージ30上のカード100が撮像され、撮像データがパターン認識処理部40に入力されると、前処理部12によって明るさの補正が行われ、二値化処理部14によってこの撮像データを二値化した後に、境界追跡処理部16による境界線抽出、頂点検出部18による頂点検出が行われる。 - 特許庁

This image processing method for executing image processing based on input image information acquired from an image inputting means to obtain output image information includes a process for identifying an object to be photographed existing in an image, and for dividing the image into a plurality of portions, and for obtaining an object pattern whose image processing is performed by a method determined from a relation between each of those divided images and the other images.例文帳に追加

画像入力手段から得られた入力画像情報に基づいて画像処理を行い、出力画像情報を得る画像処理方法において、画像内に存在する被写体を識別して画像を複数に区分し、該区分された画像毎に、他の画像との関係から決定された方法で画像処理可能な被写体パターンとする工程を経る画像処理方法。 - 特許庁

To solve the problem in which: after reversible compression processing (first compression processing) for making image data composed of code data indicating an arrangement pattern of m×n pieces of data and values (color data) composing the m×n pixels is performed, when second compression processing is performed with either reversible compression or irreversible compression in order to further reduce the data amount, the image quality of character portions is deteriorated due to irreversible compression.例文帳に追加

画像データをmxnのデータの配置パターンを表すコードデータと、前記mxn画素を構成する値(カラーデータ)で構成する可逆圧縮処理(第1の圧縮処理)を行った後、更にデータ量を少なくする為に、可逆圧縮もしくは非可逆圧縮のどちらかで第2の圧縮処理を行う場合、文字部分に関して、非可逆圧縮による画質の劣化が起こる。 - 特許庁

A dummy substrate used for alignment process for adjusting the exposure position of a pattern image in an oil immersion-compliant exposure unit are conveyed to a substrate processing apparatus, for performing a resist coating process and a development process before and after the exposure.例文帳に追加

液浸露光対応の露光ユニットにおいてパターン像の露光位置を調整するアライメント処理に使用するダミー基板を露光前後のレジスト塗布処理および現像処理を行う基板処理装置に搬送する。 - 特許庁

A real dot-number calculation part 125 executes the half-tone processing of the noticed area by using a screen pattern of density specified by density specification information to the noticed area and calculates a real dot number in a generated half-tone image.例文帳に追加

実ドット数算出部125は、注目領域に対して濃度指定情報により指定された濃度のスクリーンパターンを用いて注目領域をハーフトーン処理し、生成したハーフトーン画像の実ドット数を算出する。 - 特許庁

To an editing tool, a brush tool, for example, various attributes such as color, thickness, pattern, form and type can be set and on the basis of these set attributes, processing is executed to the editing target object.例文帳に追加

編集ツールとして、例えばブラシツールには、色、太さ、模様、形状、タイプ等、様々な属性が設定可能であり、これら設定された属性に基づいて編集対象オブジェクトに対して処理が実行される。 - 特許庁

In the case of positive discrimination in the S601, the occurrence of abnormality is reported to a managing computer (S604) and reporting such processing as flickering a top lamp 17 in a pattern set for abnormality report, for example, is performed (S605).例文帳に追加

よって、S601で肯定判断なら、異常発生として、管理コンピュータに通知し(S604)、例えばトップランプ17を異常報知用に設定されているパターンで点滅させるなどの報知処理を実行する(S605)。 - 特許庁

When the transmission pattern of an I/O request is communicated from a host device 2, an estimating part 13 estimates processing delay performance (D (2, z) and C (2, Z)) of the disk device 3 based on the first probability distribution list 131.例文帳に追加

見積もり部13は、ホスト装置2からI/O要求の送信パターンが通知されると、第1の確率分布リスト131に基づいて、ディスク装置3の処理遅延性能(D(2,z)およびC(2,Z))を見積もる。 - 特許庁

After the processing is repeated over the entire of the document image, and if the count value is not less than a criterion value, a special pattern determination section determines that a copy-prohibited information is contained in the document image.例文帳に追加

この処理を原稿画像全面に渡って繰り返した後、カウント値が判断基準値以上である場合には、特殊パターン判断部はこの原稿画像に複写禁止情報が含まれていると判断する。 - 特許庁

To provide an ink jet printing medium for an embossing processed interim material wherein a pattern which does not generate yellowing by withstanding heating necessary for emboss processing, and has a light resistance against a practical in-room outdoor daylight and a water-resisting property, is obtained.例文帳に追加

エンボス加工に必要な加熱に耐えて黄変を生じず、実用的な室内外光に対する耐光性及び耐水性を有する絵柄が得られる、エンボス加工内装材用インクジェットプリント媒体を提供する。 - 特許庁

The abrasive is jetted to the surface to be processed of the workpiece and is made to collide with it using a blast processing device, so that the ground pattern made by the collision with the abrasive is formed at the surface of the workpiece.例文帳に追加

この研磨材をブラスト加工装置を使用して被加工物の加工表面に向かって噴射すると共に衝突させることで,被加工物の表面に,研磨材との衝突によってできた地模様を形成する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device which can reduce degradation in processing profile of a film being processed or roughening of a pattern while exhibiting faithfulness to design, and can be applied even to a dual damascene process.例文帳に追加

本発明は、被加工膜の加工形状の悪化やパターンの荒れを低減し、設計デザインに対し忠実で、且つデュアルダマシン工程等にも適用可能な半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A print server 18A applies screen processing, in accordance with color components and gray levels, to image data of a color image inputted from a client PC 22 so as to form a pattern corresponding to a density for each color.例文帳に追加

プリントサーバ18Aは、クライアントPC22から入力されるカラー画像の画像データを、色成分及び階調に応じてスクリーン処理を施すことにより、色ごとの濃度に応じたパターンが形成されるようにする。 - 特許庁

To provide a name card recognition device and a name card recognition method capable of detecting the direction even when pattern characters prepared in advance do not exist on a name card read image and shortening the processing time.例文帳に追加

予め用意したパターン文字が名刺読み取り画像に存在していなくても方向を検出することができ、処理時間を短縮することができる名刺認識装置および名刺認識方法を提供する。 - 特許庁

When a nonsequential access pattern is detected, on the other hand, the number of segments of the buffer 106 is increased and the buffer memory constitution is altered so that the data reuse efficiency in the buffer becomes large, thereby increasing the processing efficiency of data.例文帳に追加

一方、非順次アクセスパターンを検出すると、バッファのセグメント数を増やし、バッファ内のデータ再利用効率が高くなるようにバッファメモリ構成を変更することにより、データの処理効率を上げることが可能となる。 - 特許庁

To provide an operator monitoring system for a POS system for monitoring centralizingly in a headquarter server a pattern of a key operation concerned in doubtful sales processing by an operator of each POS terminal device in a plurality of stores.例文帳に追加

複数の店舗におけるPOS端末装置のオペレータによる疑わしい販売処理に係るキー操作のパターンを本部サーバにおいて集中的に監視するPOSシステムのオペレータ監視システムを提供する。 - 特許庁

To easily form a decorative pattern for changing grain even in a product shape having a three-dimensional shape, for example, of an exterior material or the like of an industrial product, in a wood processing method and a processed product.例文帳に追加

木材の加工方法および加工品において、例えば工業製品の外装材などの3次元形状を有する製品形状であっても、木目を変化させる装飾模様が容易に形成できるようにする。 - 特許庁

To provide an image display apparatus provided with a frame rate converter (FRC) of a motion compensation type that prevents deterioration in the image quality of regular repetitive pattern parts included in an image without increasing an arithmetic processing amount of motion vectors.例文帳に追加

動き補償型のレート変換(FRC)部を備えた画像表示装置において、動きベクトルの演算処理量を増やすことなく、画像に含まれる規則的な繰り返し模様部分の画質劣化を防止する。 - 特許庁

To provide a wide copper clad laminated board having a copper plating film formed thereon without using a heat-resistant adhesive or the like at all, enabling the formation of a fine wiring pattern and reducing the occurrence of trouble in a post-processing process.例文帳に追加

耐熱性接着剤等を全く使用することなく銅メッキ膜が形成されており、微細な配線パタ−ンが可能で後加工工程で不具合が発生することの少ない銅張り積層基板を提供する。 - 特許庁

例文

An instance having the hierarchical structure is given to the newly inserted cell by hierarchical structure instance providing processing in Step S3, and the flat layout pattern data 103 (already optimized), which have been given the hierarchical structure instances, are generated.例文帳に追加

ステップS3における階層構造インスタンス付与処理により、新規挿入セルに対して、階層構造を持つインスタンスが付与され階層構造インスタンス付与後のフラットなレイアウトパターンデータ(最適化済)103が生成される。 - 特許庁




  
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