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reference beamの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 849件
The method includes a step of illuminating a data mask with a beam and recording a resulting modulated beam on the holographic storage medium, wherein the data mask includes an information layer that is divided into multiple data pages and a step of propagating a reference beam to the holographic storage medium to record the multiple data pages of the data mask in a parallel fashion on the holographic storage medium.例文帳に追加
本発明の方法は、ビームでデータマスクを照らして、生じた変調ビームをホログラフィー格納媒体に記録するステップであって、該データマスクは、多数のデータページに分割される情報層を含む、ステップと、参照ビームをホログラフィー格納媒体に伝搬して、データマスクの多数のデータページをホログラフィー格納媒体に同時に記録するステップとを包含する。 - 特許庁
Since at least the two concentric patterns in the holographic digital data are deformed into at least two elliptic patterns in a diffracted beam caused by irradiation of a reference beam, at least the two elliptic patterns are extracted from the diffracted beam and then at least the two elliptic patterns are estimated to generate at least two estimated concentric patterns.例文帳に追加
ホログラフィーページデータの少なくとも2つの同心円パターンは、参照波の照射によって生成された回折波の少なくとも2つの楕円パターンに変形されるので、少なくとも2つの楕円パターンが回折波から抽出され、少なくとも2つの楕円パターンを推定して少なくとも2つの推定同心円パターンを生成する。 - 特許庁
The laser output of the case where an intensity of the laser beam is attenuated by the attenuator 4, is controlled by a microcomputer 19 for control, so that the laser output is settled in a reference range, while this laser output is for making the intensity of the laser beam when attenuating by the attenuator 4 to a target value of the intensity of the laser beam in the case of not being attenuated.例文帳に追加
制御用マイクロコンピュータ19は、アッテネータ4により減衰させる場合におけるレーザ光の強度を、減衰させない場合におけるレーザ光の強度の目標値にするためのレーザ出力であって、このレーザ出力が基準範囲に収まるように、レーザ光の強度をアッテネータ4により減衰させる場合におけるレーザ出力を制御する。 - 特許庁
Since the operation of the laser drive circuit 10 is stopped when the beam emitting output control signal is not inputted to the reference voltage control part 20, it becomes unnecessary to adjust the beam emitting output of the semiconductor laser LD in such a state that the connection failure at an input terminal is yielded when the beam emitting output of the semiconductor laser LD is adjusted.例文帳に追加
正しい発光出力制御信号が基準電圧制御部20に入力されない場合にはレーザ駆動回路10の動作が停止されるので、半導体レーザLDの発光出力の調整時に当該入力端での接続不良が生じたまま半導体レーザの発光出力の調整を行うようなことはなくなる。 - 特許庁
In the charged particle beam lens array 500 provided with an electrode for acceleration, an electrode for deceleration and a reference electrode, having a plurality of openings 528 arrayed in the shape of matrix respectively and which are laminated in the direction of optical axis of the charged particle beam, a spacer 521 consisting of an insulator is arranged at least between either ones of the electrode for acceleration, the electrode for deceleration and the reference electrode.例文帳に追加
マトリクス状に配列した複数の開口528をそれぞれに有する加速用電極と減速用電極と基準電極とを荷電粒子線の光軸方向に積層して備える荷電粒子線レンズアレイ500において、前記加速用電極と前記減速用電極と前記基準電極との少なくとも何れかの間に絶縁体からなるスペーサ521を配設する。 - 特許庁
A deformable mirror 42 for correcting the wavefront shape of incident second parallel light fluxes (correcting the wavefront information of the reference aspherical lens 27) is provided between a beam splitter 13 and a high-NA spherical reference lens 25, and the corrected value is controlled by a control operation part 51.例文帳に追加
また、ビームスプリッタ13と高NA球面基準レンズ25との間に、入射した第2の平行光束の波面形状を補正(参照非球面レンズ27の波面情報を補正)するデフォーマブルミラー42を備えており、この補正値は制御演算部51によって制御される。 - 特許庁
To provide a manufacturing method capable of manufacturing many and diversified kinds of products varying in pipe lengths, extensions, mounting parts and mounting positions with one unit of commonly used apparatus by setting a transfer means which is the absolute reference and a variable reference by each process in manufacturing of a door impact beam for the vehicles.例文帳に追加
車両用ドアインパクトビームの製造において、絶対基準となる移送手段と工程毎の可変基準を設定して、パイプ長、エクステンション、取付部品及び取付位置が異なる多種類の製品を、一台で兼用して製造できる製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁
A lithographic apparatus includes a substrate table WT for holding a substrate W, a projection system PL for projecting a patterned beam onto a target portion of the substrate W, and an independent reference frame MF for providing a reference surface with which the position of the substrate W is measured.例文帳に追加
基板Wを保持するための基板テーブルWT、基板Wの目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムPL、および基板Wが測定される基準面を供給するための独立基準フレームMFを備えるリソグラフィ装置。 - 特許庁
A non-cylindrically surfaced lens converts a collimated light beam into a light plane that increases a light intensity toward distal portions of the light plane's arc so as to substantially uniformly project a reference light line onto a reference surface onto which the light plane is projected.例文帳に追加
非円筒形表面を成すレンズがコリメート光ビームを光平面に変換するが、この光平面は、光平面が投射される参照表面上に参照光を実質的に均一に投射するように光平面の円弧の末端部分に向かって光強度を増大させる。 - 特許庁
Energy density measurement for receiving an energy beam LB injected from a light source 16 by the integrator sensor 46 and the reference illumination meter in a state that the reference illumination meter is arranged on an image surface (stage 58) of a projecting optical system PL is repeated while sequentially changing the dimming ratio of a dimmer 20.例文帳に追加
投影光学系PLの像面(ステージ58)上に基準照度計を配置した状態で、光源16から射出されたエネルギビームLBをインテグレータセンサ46と基準照度計とで受光するエネルギ密度計測を、減光装置20の減光率を逐次変更しながら繰り返し行う。 - 特許庁
A two-beam interference objective lens device is provided with an objective lens 1, a prism 12 arranged between the objective lens and a sample 4, a reference mirror 13 arranged in one split optical path of the prism, and a tilting device 14 to tilt the reference mirror to regulate the width and the direction of the interference fringes.例文帳に追加
対物レンズ1と、この対物レンズと試料4との間に配設されたプリズム12と、このプリズムの一方の分割光路中に配設されたリファレンスミラー13と、干渉縞の幅および方向を調整するためにリファレンスミラーを傾角する傾角装置14とを有する。 - 特許庁
An optical image data of a reference plate 7 is acquired using the objective lens 12, ultrasonic image data of the reference plate 7 are acquired using an ultrasonic transducer 14 of the ultrasonic probe 13, and a correction data is found in response to the beam spot shape of the ultrasonic wave S_0, based on the respective data.例文帳に追加
対物レンズ12を用いて参照板7の光学像データが取得されるとともに、超音波プローブ13の超音波トランスデューサ14を用いて参照板7の超音波像データが取得され、各データに基づいて、超音波S_oのビームスポット形状に応じた補正データが求められる。 - 特許庁
A reference sample surface having a molybdenum film formed thereon is heated with a heating laser beam, a temperature measuring laser smaller in diameter than the heating laser is emitted to the heated position, and the amplitude of temperature change of the reference sample surface is measured based on a detected thermo-reflectance signal light.例文帳に追加
モリブデンを成膜した参照試料表面を加熱用レーザビームにより加熱し、この加熱位置に加熱用レーザ径より小さな測温用レーザを照射し、検出したサーモリフレクタンス信号光に基づいて参照試料表面の温度変化の振幅を測定する。 - 特許庁
The light beam is branched by a first light branching element prior to subjecting the beam to signal modulation by a spatial light modulator; and the signal light is made to irradiate the entire area of the spatial light modulator, while reference light is condensed into a small region of the spatial light modulator.例文帳に追加
光束に対して空間光変調器による信号変調をかける前に光を第1の光分岐素子によって分岐しておき、信号光は空間光変調器の全面を照射させるとともに、参照光は空間光変調器のごく一部の領域に集光させる。 - 特許庁
The light from an LD 11 is split by a frequency shifter 12 into a couple of split lights; and one split light is reflected from a polarization beam splitter 17 to a reference mirror 18 and the other split light is reflected from the polarization beam splitter 17 to the sample 20.例文帳に追加
LD11からの光が周波数シフタ12において一対の分離光に分けられ、一方の分離光は偏光ビームスプリッタ17から参照鏡18に向って反射され、他方の分離光は偏光ビームスプリッタ17から試料20に向って反射される。 - 特許庁
The hologram recording and reproducing apparatus 100A includes an angle rotating mirror 16, a rectangular aperture 12 and a medium drive unit 38A and records interference fringes of a reference beam RL and a signal beam SL in a hologram recording medium 30 and reproduces the hologram recorded in the hologram recording medium 30.例文帳に追加
ホログラム記録再生装置100Aは、角度回転ミラー16と、矩形開口12と、媒体駆動部38Aとを含み、参照光RLと信号光SLとの干渉縞をホログラム記録媒体30に記録するとともにホログラム記録媒体30に記録されたホログラムを再生する。 - 特許庁
A reflection part of the reference object for detection 90 has a structure in which each position in a prescribed height direction corresponds to a height and a specific reflection light corresponding to a height of an incoming laser beam L1 is emitted when the laser beam L1 enters.例文帳に追加
検出用基準物体90の反射部は、所定の高さ方向における各位置が高さに応じた構造をなし、且つレーザ光L1が入射したときに、当該レーザ光L1が入射する高さに応じた内容の特定反射光を発するように構成されている。 - 特許庁
A pulse-like laser beam LB1 with an alcohol absorbing wavelength λ1 is emitted to a running vehicle from a laser diode 1 and a pulse-like laser beam LB2 with a reference wavelength λ2 is emitted from a laser diode 2 so as to leave a time lag and both laser beams LB1, LB2 are detected by a common photodiode 3.例文帳に追加
レーザーダイオード1からアルコール吸収波長λ1 のパルス状のレーザービームLB1 を走行車両に向けて出射し、レーザーダイオード2から参照波長λ2 のパルス状のレーザービームLB2 を時間差をおいて出射し、両レーザービームLB1 ,LB2 を共通のフォトダイオード3によって検出する。 - 特許庁
A reference beam R and an object beam O are reflected plural times inside the hologram recording medium 10, so that the beams R and O cross each other plural times inside the medium 10, and interference fringes generated at this time are recorded in the medium 10 as a hologram.例文帳に追加
ホログラム記録媒体10の内部で参照光Rと物体光Oを複数回反射させることで、ホログラム記録媒体10の内部で参照光Rと物体光Oを複数回交差させ、このときに生じる干渉縞をホログラム記録媒体10にホログラムとして記録する。 - 特許庁
To provide a method of an absolute measurement of an angular intensity distribution when lighting beam is emitted from an illuminator, without the need for other reference and calibration, because lighting intensity of the lighting beam created by the illuminator of a lithography projection apparatus must be the same all over the angles.例文帳に追加
リソグラフィ投影装置の照明器が作る照明ビームの照明強度は、全ての角度に亘って同じであるべきであるので、この照明ビームが照明器を離れるときの角強度分布を、他の基準も較正も必要ない、絶対測定をする方法を提供する。 - 特許庁
This device is also equipped with a position sensor and detector 10 for detecting the position, when propagating the line of one degree of an excimer laser beam and the line of the different degree of the reference beam in the direction, where each depends on the wavelength and the dispersion degree from the dispersion element.例文帳に追加
この装置は、エキシマレーザ光線のある一つの次数のラインと、基準光線の異なった次数のラインとを、それぞれが分散素子からその波長及び分散次数に依存する方向に伝搬する際に検出するためのポジション感知検出器10も備える。 - 特許庁
The interference measuring instrument 10 is equipped with a semiconductor laser 1 which projects laser light on a sample 20, a beam splitter 2 which is arranged the semiconductor laser 1 and sample 20, and a reference mirror 3 and a detector 4 which are arranged on one side and the other side of the beam splitter 2.例文帳に追加
干渉計測装置10は、試料20に対してレーザ光を投光する半導体レーザ1と、半導体レーザ1と試料20との間に配置されたビームスプリッタ2と、ビームスプリッタ2の一側および他側にそれぞれ配置された参照鏡3および検出器4とを備えている。 - 特許庁
In the optical disk device 10, a condensing point changing mechanism 55 for information is controlled in such a way that a focal point FM of an information light beam LM is brought into focus with a record depth X to be irradiated with the information light beam LM in a state that the objective lens 18 is located on the reference lens position SL.例文帳に追加
光ディスク装置10は、対物レンズ18が基準レンズ位置SLに位置する状態において、情報光ビームLMの焦点FMを情報光ビームLMが照射されるべき記録深さXに合焦させるよう情報用集光点変化機構55を制御する。 - 特許庁
To measure beam yaw with good repeatability, of the axes of three electron beams, a center electron beam and two side electron beams, in a coordinate system determined by a deflection reference axis determined when a cathode-ray tube and a deflection yoke are combined together and by a phosphor stripe on a phosphor screen.例文帳に追加
陰極線管と偏向ヨークを組み立てた時に決定される偏向基準軸と蛍光面の蛍光体ストライプで決定される座標系において、再現性よくセンター電子ビーム及び両サイド電子ビームの3本の電子ビーム軸の離軸量を測定する。 - 特許庁
For measurement by the laser beam for the measurement, the laser beam for the measurement oscillated by an injection current modulated by sine waves is used, electric signals photoelectrically converted in a light receiver are input to a lock-in amplifier, and secondary differentiation processing is performed with the sine waves as reference signals.例文帳に追加
測定用レーザ光による測定が、正弦波で変調された注入電流により発振された測定用レーザ光を用い、受光器で光電変換された電気信号をロックインアンプに入力し、前記正弦波を参照信号として二次微分処理を行うものである。 - 特許庁
When digital processing is performed on the basis of the passage position of beam light cast on a photosensitive drum or an analog detection value Vo corresponding to beam power, a comparator CMP0 in which a reference value for comparison (threshold) Vr changes in accordance with a detection value (integral output) Vo is used.例文帳に追加
感光体ドラムに照射されるビーム光の通過位置あるいはビームパワーに対応するアナログ検出値Voに基づいてデジタル処理が行われる際に、比較の基準値(しきい値)Vrが検出値(積分出力)Voに対応して変化するコンパレータCMP0を利用する。 - 特許庁
A light beam having the same amplitude distribution and phase distribution as those of a signal light used in recording is irradiated to a hologram recording medium via a signal light optical system before reproduction so that a light beam having the amplitude and phase of a reference signal used in recording is generated by diffraction.例文帳に追加
再生前に、記録時に用いた信号光と同じ振幅分布および位相分布を有する光ビームを信号光の光学系を通してホログラム記録媒体に照射することで、記録時に用いた参照光の振幅、位相を有する光ビームを回折によって生じさせる。 - 特許庁
A scattered beam is measured while changing a relative scanning direction of the beam with respect to a semiconductor wafer by a prescribed angle at a time, using a crystalline direction of a semiconductor constituting the semiconductor wafer as a reference, and measured results in the every change by the prescribed angle at the one time are compared, in this method of the present invention.例文帳に追加
半導体ウェーハを構成する半導体の結晶の方向を基準にして、所定角度ずつ半導体ウェーハに対する光の相対的な走査方向を変化させつつ、散乱光を測定し、所定角度ずつ変化させる毎に得られた測定結果を比較する。 - 特許庁
A defect of a lens 7 to be inspected as a measurement object is simultaneously measured by using an apparatus 1 causing a light beam transmitted through a reference lens 6 as a comparison object to interfere with a light beam transmitted through the lens 7 to be inspected and measuring the amount of aberration of the lens 7 to be inspected from a generated interference fringe 50.例文帳に追加
比較対象としての基準レンズ6を透過した光束と、測定対象としての被検レンズ7を透過した光束とを干渉させ、発生する干渉縞50から被検レンズ7の収差量を測定する装置1を用いて、同時に被検レンズ7の欠陥を測定する。 - 特許庁
A metal optical molding processing machine (1) comprises a powder layer forming section (2), an irradiating section (3) for irradiation with a light beam (L), a correction target (4) to which a correction mark becoming the reference for correcting the light beam irradiating position is put, and an imaging camera (5) for imaging the position of the correction mark.例文帳に追加
金属光造形加工機1は、粉末層形成部2と、光ビームLを照射する照射部3と、光ビーム照射位置の補正の基準となる補正用マークが付与される補正用ターゲット4と、補正用マークの位置を撮像する撮像カメラ5と、を備えている。 - 特許庁
An A-point and a B-point of the measuring object are set to be irradiated with a laser beam 11 for the range finding and a pointer beam 15 for irradiating a reference position, so as to irradiated in the two directions, a distance to the A-point is measured therein, and the angle formed by the two irradiation directions is detected therein.例文帳に追加
測距用のレーザ光11と基準位置照射用のポインタ光15とが、測定対象のA点とB点を照射するように設定して、2方向に照射し、この時、A点までの距離を測定すると共に、2照射方向の成す角度を検出する。 - 特許庁
To provide an absolute wavelength stabilizing method of a laser beam which corrects drift of wavelength generated during periodical calibration of wavelength on the basis of another wavelength reference like an iron lamp and can always supply a laser beam of stabilized wavelength, a stabilizer and an aligner having the stabilizer.例文帳に追加
定期的に鉄ランプなどの別の波長基準をもとに波長較正する間に起こる波長ドリフトを補正し、常に、安定した波長のレーザ光を供給することができるレーザ光の絶対波長安定化方法、安定化装置およびその安定化装置を持つ露光装置を提供すること。 - 特許庁
When an irradiation apparatus includes an RMW (Range Modulation Wheel) 32, an amplitude of an emission high frequency voltage is controlled according to a ratio Qm0/Qs0 of the measurement to a reference value of the accumulated beam charge amount and a ratio Tb/Ta of an actual beam emission time to the emission control time Tex.例文帳に追加
照射装置がRMW32を備える場合、蓄積ビーム電荷量の基準値に対する測定値の割合Qm0/Qs0と、出射制御時間Texに対する実際のビーム出射時間の割合Tb/Taに応じて出射用高周波電圧の振幅値を制御する。 - 特許庁
A calibration value is calculated using a rotational angle of a diffraction grating at which the incident angle of a reference light beam with respect to the diffraction grating and the emission angle of an emission light beam from a spectroscope with respect to the diffraction grating are equal to each other and a design value including an output wavelength at the rotational angle.例文帳に追加
基準光の回折格子に対する入射角と分光器からの出射光の回折格子に対する出射角とが等しくなる回折格子の回転角度及び該回転角度における出力波長を含む設計値を用いて校正値を算出する。 - 特許庁
A reference light beam 85 for duplication from a laser light source is radiated at an incident angle so as to be transmitted through a prescribed region of a recording layer 60a of the original plate 60B for duplication and reflected by the angle selection film 90a.例文帳に追加
レーザ光源からの複製用参照光85は複製用原盤60Bの記録層60aの所定領域を透過し、角度選択膜90aで反射する入射角度で照射される。 - 特許庁
Linear speed information on a light beam spot position on the disk obtained by an information recording read part from the disk is detected and a data recording reference speed signal relating to the linear speed of the disk is generated.例文帳に追加
円盤から情報記録読取部により得られる円盤上の光ビームスポット位置の線速度情報を検出し,円盤の線速度と関係を持つデータ記録基準速度信号を生成する。 - 特許庁
Since the confirmation of the operation is easily made by only closing the shutter 16 and also is made by only the relation between the reflecting surface of the shutter 16 and a laser beam source, the reference value is easily controlled.例文帳に追加
動作確認がシャッタ16を閉じるだけで容易に行えると共に、シャッタ16の反射面とレーザ光源との関係だけで動作確認が行われるので、基準値の管理が容易である。 - 特許庁
As a result, the unused light can be distributed as the diffusive light distribution pattern WP to be effectively utilized without changing (reducing) the quantity of light of the reference light distribution pattern LP for low beam.例文帳に追加
この結果、ロービーム用の基準配光パターンLPの光量を変えずに(減らさずに)、使用されていなかった光量を拡散配光パターンWPとして振り分けて有効利用することができる。 - 特許庁
The multi-beam scanning apparatus is equipped with a scanning unit part 100 which scans with laser lights from the LDs 1B to 1Y and a control part 200 which sends out a reference signal for controlling the LDs to the scanning unit part 100.例文帳に追加
LD1B〜1Yからのレーザ光を走査する走査ユニット部100と、走査ユニット部100にLDを制御するための基準信号を送出するコントローラ部200とを備える。 - 特許庁
To provide an imaging apparatus in which inclination of an image is corrected easily by adjusting the main scanning direction of a reference light beam correctly to be orthogonal to the carrying direction of an imaging medium.例文帳に追加
基準光線の主走査方向を画像形成媒体の搬送方向に対して正確に直交するように調整して画像の傾きを容易に修正する画像形成装置を提供する。 - 特許庁
In the reference satellite, an optical source SO emits a light beam intended to illuminate the secondary satellite SS and a set of light detectors CCD detects the light reflected by the secondary satellite.例文帳に追加
基準衛星において、光源(SO)は第二の衛星(SS)を照らすことを目的としている光線を放射し、光検出器(CCD)の集合は第二の衛星によって反射された光を検出する。 - 特許庁
The angle rotating mirror 16 changes the angle of incidence of the reference beam RL incident on the hologram recording medium 30 such that multiple data are recorded in the same recording area of the hologram recording medium 30.例文帳に追加
角度回転ミラー16は、ホログラム記録媒体30の同一の記録領域にデータが多重記録されるように参照光RLのホログラム記録媒体30への入射角を変化させる。 - 特許庁
By the reading device, authenticity of the record medium is discriminated in such a manner that the recording medium 11 is irradiated by a laser beam and the light transmitted through the record medium 11 is detected and compared with a reference signal.例文帳に追加
読取り装置は記録媒体11にレーザー光を照射し、記録媒体11を透過した光を検出して基準信号と比較することにより、記録媒体の真偽を判別する。 - 特許庁
As an unknown sample and a reference standard sample can be placed separately on each sample plate, each sample can be ionized by using a matrix suitable for each sample and by a laser beam having energy suitable for each sample.例文帳に追加
各試料皿には未知試料と参照標準試料を別個に置いておくことができるため、それぞれに適したマトリクスを使用し、それぞれに適したエネルギのレーザビームでイオン化することができる。 - 特許庁
The self compensation method determines four pay load parameters TX, TY, RX and RY for describing the position and direction of the laser beam regarding the gimbal point of the tracker by the two reference targets 22 and 24 (one is not shown).例文帳に追加
自己補償方法は、2つの基準ターゲット22,24(一つは不図示)によって、トラッカのジンバル点に関するレーザビームの位置および方向を記述する4つのペイロードパラメータTX,TY,RX.RYを決定する。 - 特許庁
After being reflected by a reference mirror part 15 and an inclined mirror part 16 of the phase shifter 14 respectively, the light beam group forms an interference image on a light reception surface 20a of a detection part 20 through an imaging lens 18.例文帳に追加
そして、位相シフター14の基準ミラー部15と傾斜ミラー部16でそれぞれ反射された後、結像レンズ18により検出部20の受光面20aで干渉像を形成する。 - 特許庁
A reference image generation part 3 finds an edge border condition and detects the edge position through convolutional operation between an optical point spread function corresponding to the intensity of the laser beam and the image of a measured pattern.例文帳に追加
参照画像生成部3は、レーザービームの強度に相当する光学的点拡がり関数と被測定パターンの画像との畳み込み演算により、エッジ境界条件を求め、エッジ位置を検出する。 - 特許庁
Namely, the high quality image is formed by correcting a deflection even when the scanning optical beam is deflected from a reference scanning position in the subscanning direction due to an error of components, an error of assembly or the like.例文帳に追加
すなわち、部品誤差や組立誤差などにより副走査方向において走査光ビームが基準走査位置からずれていたとしても該ずれを補正して高品質な画像を形成することができる。 - 特許庁
Furthermore, since the mounting bracket 6 in common can be utilized without reference to a cross-sectional shape and a dimension of the beam material 2, the number of the components of the mounting bracket 6 can be kept small, and mounting procedures can be standardized.例文帳に追加
さらに、梁材2の断面形状やサイズに関わらずに共通の取付金物6が利用でき、取付金物6の部品点数を抑制しかつ取付手順の標準化を図ることができる。 - 特許庁
To provide an inspection method and device using an electronic beam capable of preventing the incorrect detection of a defect in a sample even if the methods of acquiring a reference image and an inspection image are different from each other.例文帳に追加
本発明は、基準画像と検査画像の取得法が異なっても試料の欠陥の誤検出を防止できる電子ビームを用いた検査方法及び検査装置を提供することにある。 - 特許庁
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